JP2018160701A5 - 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 - Google Patents

Description

開示の実施形態は、基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体に関する。

実施形態の一態様は、基板の表面に影響を与えることなく、基板に付着した粒子径の小さい不要物を除去することのできる基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体を提供することを目的とする。

実施形態の一態様に係る基板洗浄システムは、剥離処理液供給部と、リンス液供給部とを備える。剥離処理液供給部は、揮発成分を含む成膜処理液が供給された、表面に窒化シリコンの膜が形成された基板において揮発成分が揮発することによって成膜処理液が基板上で固化または硬化してなる処理膜に対して、純水、ＣＯ２水、低濃度のアルカリ現像液、アルカリ性の水溶液、界面活性剤添加水溶液、フッ素系溶剤、希釈ＩＰＡのうち少なくとも１つの加熱された剥離液を供給することによって、処理膜を基板から剥離させる。リンス液供給部は、基板に対してリンス液を供給する。

以下、添付図面を参照して、本願の開示する基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。

Claims (6)

1. 揮発成分を含む成膜処理液が供給された、表面に窒化シリコンの膜が形成された基板において前記揮発成分が揮発することによって前記成膜処理液が前記基板上で固化または硬化してなる処理膜に対して、純水、ＣＯ２水、低濃度のアルカリ現像液、アルカリ性の水溶液、界面活性剤添加水溶液、フッ素系溶剤、希釈ＩＰＡのうち少なくとも１つの加熱された剥離液を供給することによって、前記処理膜を前記基板から剥離させる剥離処理液供給部と、
   前記基板に対してリンス液を供給するリンス液供給部と
   を備える、基板洗浄システム。
2. 前記剥離処理液供給部は、
   前記加熱された剥離液を供給するノズルと、
   前記ノズルを移動させる移動機構と
   を備え、
   前記移動機構を用いて前記ノズルを移動させつつ、前記ノズルから前記処理膜に対して前記加熱された剥離液を供給する、請求項１に記載の基板洗浄システム。
3. 前記剥離処理液供給部は、
   前記基板の径方向に沿って所定の間隔をあけて並べて配置される複数の吐出口を有するノズル
   を備え、
   前記基板の外周部分を含む領域と対向する前記吐出口から吐出される前記加熱された剥離液の流速と比較して、前記基板の中央部分を含む領域と対向する吐出口から吐出される前記加熱された剥離液の流速を高くした、請求項１または２に記載の基板洗浄システム。
4. 前記剥離処理液供給部は、
   ２流体ノズル
   を備え、
   前記２流体ノズルから前記処理膜に対して混合流体を供給した後、前記２流体ノズルから前記処理膜に対して前記加熱された剥離液を供給する、請求項１または２に記載の基板洗浄システム。
5. 揮発成分を含み基板上に膜を形成するための成膜処理液を表面に窒化シリコンの膜が形成された基板へ供給する成膜処理液供給工程と、
   前記揮発成分が揮発することによって前記成膜処理液が前記基板上で固化または硬化してなる処理膜に対して、純水、ＣＯ２水、低濃度のアルカリ現像液、アルカリ性の水溶液、界面活性剤添加水溶液、フッ素系溶剤、希釈ＩＰＡのうち少なくとも１つの加熱された剥離液を供給することによって、前記処理膜を前記基板から剥離させる剥離処理液供給工程と、
   前記剥離処理液供給工程後、前記基板に対してリンス液を供給するリンス工程と
   を含む、基板洗浄方法。
6. コンピュータ上で動作し、基板洗浄システムを制御するプログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
   前記プログラムは、実行時に、請求項５に記載の基板洗浄方法が行われるように、コンピュータに前記基板洗浄システムを制御させる、記憶媒体。