JP2018160516A - 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 233
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 187
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 76
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 76
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 75
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 70
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 24
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 23
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 12
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 293
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 126
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 36
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 30
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 16
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 14
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 13
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 13
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 12
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 9
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 8
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052990 silicon hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 silicon halide Chemical class 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N diboron Chemical compound B#B ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- OCVXZQOKBHXGRU-UHFFFAOYSA-N iodine(1+) Chemical compound [I+] OCVXZQOKBHXGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical compound FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZKOFHKJGUNVTM-UHFFFAOYSA-N trichloro-[dichloro(trichlorosilyl)silyl]silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl PZKOFHKJGUNVTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N trisilane Chemical compound [SiH3][SiH2][SiH3] VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/02524—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02532—Silicon, silicon germanium, germanium
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- H01L21/02381—Silicon, silicon germanium, germanium
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- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02576—N-type
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- H01L21/02639—Preparation of substrate for selective deposition
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Abstract
Description
(a)単結晶シリコンで構成される基板に対して第1エッチングガスを供給することで、前記基板の表面をプリエッチングする工程と、
(b)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、表面がプリエッチングされた前記基板上に、シリコン膜を形成する工程と、
(c)前記基板に対して前記第1エッチングガスとは分子構造が異なる第2エッチングガスを供給することで、前記シリコン膜の一部をエッチングする工程と、
(d)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、一部がエッチングされた前記シリコン膜上に、更にシリコン膜を形成する工程と、
を行う技術が提供される。
以下、本発明の一実施形態について、図1〜図4、図5(a)〜図5(e)を用いて説明する。
図1に示すように、処理炉202は加熱機構(温度調整部)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置の製造工程の一工程として、基板としてのウエハ200上にSi膜を形成するシーケンス例について、図4、図5(a)〜図5(e)を用いて説明する。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
単結晶シリコンで構成されるウエハ200に対して第1エッチングガスとしてCl2ガスを供給することで、ウエハ200の表面をプリエッチングするステップ(プリエッチングステップ)と、
ウエハ200に対してSi含有ガスとしてMSガスを供給することで、表面がプリエッチングされたウエハ200上に、Si膜を形成するステップ(第1成膜ステップ)と、
ウエハ200に対して第2エッチングガスとしてHClガスを供給することで、Si膜の一部をエッチングするステップ(エッチングステップ)と、
ウエハ200に対してSi含有ガスとしてMSガスを供給することで、一部がエッチングされたSi膜上に、更にSi膜を形成するステップ(第2成膜ステップ)と、
を行う。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)される。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220を介して反応管203の下端をシールした状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって処理室201内が真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される。また、処理室201内のウエハ200が所望の温度となるように、ヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される。また、回転機構267によるウエハ200の回転を開始する。処理室201内の排気、ウエハ200の加熱および回転は、いずれも、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
その後、処理室201内のウエハ200に対してCl2ガスを供給する。このステップでは、バルブ243aを開き、ガス供給管232a内へCl2ガスを流す。Cl2ガスは、MFC241aにより流量調整され、ノズル249aを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してCl2ガスが供給される。このときバルブ243c,243dを開き、ガス供給管232c,232d内へH2ガスを流すようにしてもよい。H2ガスは、Cl2ガスと一緒に処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。
Cl2ガス供給流量:10〜1000sccm
H2ガス供給流量(各ガス供給管):100〜5000sccm
ガス供給時間:5〜30分
処理温度:後述する第1成膜ステップにおける処理温度と同様の温度であって、例えば450〜550℃、好ましくは450〜530℃
処理圧力:20〜100Pa
が例示される。
その後、処理室201内のウエハ200に対し、MSガスおよびPHガスを供給する。このステップでは、バルブ243a,243c,243dの開閉制御を、上述のプリエッチングステップにおけるバルブ243a,243c,243dの開閉制御と同様の手順で行う。ガス供給管232a内を流れたMSガスは、MFC241aにより流量調整され、ノズル249aを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。またこのとき、バルブ243bを開き、ガス供給管232b内へPHガスを流す。PHガスは、MFC241bにより流量調整され、ノズル249bを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してMSガスとPHガスとが一緒(同時)に供給される。なお、ガス供給管232c,232dからは、それぞれ、N2ガスを流すようにしてもよい。
MSガス供給流量:10〜2000sccm
PHガス供給流量:Si膜200g,200h中のP濃度が例えば1.0×1021〜1.0×1022atoms/cm3の範囲内の濃度となるような流量であり、例えば1〜1000sccm
N2ガス供給流量(各ガス供給管):100〜10000sccm
ガス供給時間:20〜400分
処理温度:450〜550℃、好ましくは450〜530℃
処理圧力:1〜900Pa
が例示される。
その後、処理室201内のウエハ200に対してH2ガスを供給する。このステップでは、バルブ243c,243dを開き、ガス供給管232c,232d内へH2ガスを流す。H2ガスは、MFC241c,241dにより流量調整され、ガス供給管232a,232b、ノズル249a,249bを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してH2ガスが供給される。ウエハ200に対してH2ガスを供給することで、ウエハ200上に形成されたSi膜200hの表面を水素終端し、表面全域を清浄化させることが可能となる。
H2ガス供給流量:500〜3000sccm
H2ガス供給時間:30〜120分
処理温度:第1成膜ステップにおける処理温度と同様の温度であって、例えば450〜550℃、好ましくは450〜530℃
処理圧力:500〜2000Pa
が例示される。
その後、処理室201内のウエハ200に対してHClガスを供給する。このステップでは、バルブ243aを開き、ガス供給管232a内へHClガスを流す。HClガスは、MFC241aにより流量調整され、ノズル249aを介して処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してHClガスが供給される。このとき、バルブ243c,243dは閉じておき、処理室201内へのN2ガス、H2ガスの供給は不実施とする。
HClガス供給流量:100〜10000sccm
HClガス供給時間:10〜60分
処理温度:第1成膜ステップにおける処理温度と同様の温度であって、例えば450〜550℃、好ましくは450〜530℃
処理圧力:プリエッチングステップにおける処理圧力よりも大きい圧力であって、例えば1000〜50000Pa、好ましくは10000〜40000Pa、より好ましくは20000〜30000Pa
が例示される。
その後、上述の第1水素パージステップと同様の処理手順により、処理室201内へH2ガスを供給する。これにより、処理室201内に残留するClを処理室201内から排除することができる。その後、第1水素パージステップと同様の処理手順により、処理室201内を排気する。H2ガスの供給時間は、例えば10〜60分の範囲内の時間とする。他の処理条件は、第1水素パージステップにおける処理条件と同様とする。
その後、上述の第1成膜ステップと同様の処理手順により、処理室201内のウエハ200に対し、MSガスおよびPHガスを供給する。MSガスおよびPHガスの供給時間は、それぞれ、例えば10〜300分の範囲内の時間とする。他の処理条件は、第1成膜ステップにおける処理条件と同様とする。
第2成膜ステップが終了したら、ガス供給管232c,232dのそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用する。これにより、処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、反応管203の下端が開口される。そして、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態で、反応管203の下端から反応管203の外部に搬出される(ボートアンロード)。処理済のウエハ200は、ボート217より取出される(ウエハディスチャージ)。
本実施形態によれば、以下に示す1つ又は複数の効果が得られる。
本実施形態は、以下の変形例のように変更することができる。また、これらの変形例は任意に組み合わせることができる。
エッチングステップの実施前に形成するSi膜200hのP濃度を、エッチングステップの実施後に形成するSi膜200iのP濃度よりも高くしてもよい。エッチング対象であるSi膜200hにおけるP濃度を充分に、例えばSi膜200iにおけるP濃度よりも高くすることにより、上述したエッチングレートの向上効果を高めることが可能となる。
エッチングステップの実施後に形成するSi膜200iを、PがドープされていないノンドープSi膜としてもよい。エッチング対象であるSi膜200hにおけるP濃度を充分に、例えばSi膜200iにおけるP濃度よりも高くすることにより、上述したエッチングレートの向上効果が同様に得られるようになる。
第1成膜ステップの途中でPHガスの供給流量や分圧を増加させる等し、Si膜200hのうち、エッチングステップでのエッチング対象となる表面側の部分におけるP濃度を、他の部分におけるP濃度よりも高くするようにしてもよい。Si膜200hのうちエッチング対象となる部分におけるP濃度を特に高くすることにより、上述したエッチングレートの向上効果をより高めることが可能となる。
第1水素パージステップおよび第2水素パージステップのうち、いずれかのステップの実施を省略してもよい。また、これら両方のステップの実施をそれぞれ省略してもよい。
上述の成膜シーケンスでは、プリエッチングステップを実施した後、第1成膜ステップ〜第2成膜ステップに至る一連のステップを1回行う場合について説明したが、第1成膜ステップ〜第2成膜ステップに至る一連のステップを複数回行うようにしてもよい。
以上、本発明の実施形態を具体的に説明した。但し、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
以下、本発明の好ましい態様について付記する。
本発明の一態様によれば、
(a)単結晶シリコンで構成される基板に対して第1エッチングガスを供給することで、前記基板の表面をプリエッチングする工程と、
(b)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、表面がプリエッチングされた前記基板上に、シリコン膜を形成する工程と、
(c)前記基板に対して前記第1エッチングガスとは分子構造が異なる第2エッチングガスを供給することで、前記シリコン膜の一部をエッチングする工程と、
(d)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、一部がエッチングされた前記シリコン膜上に、更にシリコン膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記第1エッチングガスおよび前記第2エッチングガスのそれぞれはハロゲン原子を含み、前記第1エッチングガスの1分子中に含まれるハロゲン原子の数が、前記第2エッチングガスの1分子中に含まれるハロゲン原子の数よりも多い。
付記1または2に記載の方法であって、好ましくは、
前記第1エッチングガスはハロゲン原子を含み、ハロゲン原子以外の原子を含まず、前記第2エッチングガスはハロゲン原子およびハロゲン原子以外の原子を含む。
付記1〜3のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1エッチングガスは、前記第2エッチングガスよりも反応性が高い。
付記1〜4のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記第1エッチングガスは塩素ガスを含み、前記第2エッチングガスは塩化水素ガスを含む。
付記1〜5のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)、前記(b)、前記(c)、および前記(d)を同一処理室内で行う。
付記1〜6のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)、前記(b)、前記(c)、および前記(d)を同一温度条件下で行う。
付記1〜7のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)、前記(b)、前記(c)、および前記(d)を450℃以上550℃以下の温度条件下で行う。
付記1〜8のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(a)、前記(b)、前記(c)、および前記(d)をシリコンの結晶化温度以下、好ましくは、シリコンの結晶化温度未満の温度条件下で行う。
付記1〜9のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(c)における前記基板が存在する空間の圧力を、前記(a)における前記基板が存在する空間の圧力よりも大きくする。
付記1〜10のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(b)で形成される前記シリコン膜は、ドーパントがドープされたシリコン膜である。
付記1〜11のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(b)では、前記基板に対して前記シリコン含有ガスと一緒にドーパントガスを供給する。
付記1〜12のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(d)で形成される前記シリコン膜は、ドーパントがドープされたシリコン膜である。
付記1〜13のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記(d)では、前記基板に対して前記シリコン含有ガスと一緒にドーパントガスを供給する。
付記1〜14のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記基板の表面には単結晶シリコンと絶縁膜とが露出しており、
前記(b)では、前記単結晶シリコン上にホモエピタキシャルシリコン膜を成長させ、前記絶縁膜上にアモルファスシリコン膜、ポリシリコン膜、またはアモルファスとポリとの混晶シリコン膜を成長させる。すなわち、前記(b)では、前記単結晶シリコン上と、前記絶縁膜上とに、結晶構造が異なるシリコン膜をパラレルに成長させる。
付記15に記載の方法であって、好ましくは、
前記基板の表面には凹部が設けられており、前記凹部の底部が前記単結晶シリコンにより構成され、前記凹部の側部が前記絶縁膜により構成されており、
前記凹部の側部から成長させた前記アモルファスシリコン膜、前記ポリシリコン膜、または前記アモルファスとポリとの混晶シリコン膜により、前記凹部の底部から成長させた前記ホモエピタキシャルシリコン膜の上部を覆うことで、前記ホモエピタキシャルシリコン膜の(ホモエピタキシャル)成長を停止させる。
付記16に記載の方法であって、好ましくは、
前記凹部内に、前記ホモエピタキシャルシリコン膜上に、前記アモルファスシリコン膜、前記ポリシリコン膜、または前記アモルファスとポリとの混晶シリコン膜が積層されてなる積層構造を形成する。
付記16または17に記載の方法であって、好ましくは、
前記単結晶シリコンと、前記アモルファスシリコン膜、前記ポリシリコン膜、または前記アモルファスとポリとの混晶シリコン膜と、の界面に、前記ホモエピタキシャルシリコン膜が形成される。
本発明の他の態様によれば、
基板に対して処理が行われる処理室と、
前記処理室内の基板に対して第1エッチングガスを供給する第1供給系と、
前記処理室内の基板に対して前記第1エッチングガスとは分子構造が異なる第2エッチングガスを供給する第2供給系と、
前記処理室内の基板に対してシリコン含有ガスを供給する第3供給系と、
前記処理室内において、(a)単結晶シリコンで構成される基板に対して前記第1エッチングガスを供給することで、前記基板の表面をプリエッチングする処理と、(b)前記基板に対して前記シリコン含有ガスを供給することで、表面がプリエッチングされた前記基板上に、シリコン膜を形成する処理と、(c)前記基板に対して前記第2エッチングガスを供給することで、前記シリコン膜の一部をエッチングする処理と、(d)前記基板に対して前記シリコン含有ガスを供給することで、一部がエッチングされた前記シリコン膜上に、更にシリコン膜を形成する処理と、を行わせるように、前記第1供給系、前記第2供給系および前記第3供給系を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
基板処理装置の処理室内において、
(a)単結晶シリコンで構成される基板に対して第1エッチングガスを供給することで、前記基板の表面をプリエッチングする手順と、
(b)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、表面がプリエッチングされた前記基板上に、シリコン膜を形成する手順と、
(c)前記基板に対して前記第1エッチングガスとは分子構造が異なる第2エッチングガスを供給することで、前記シリコン膜の一部をエッチングする手順と、
(d)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、一部がエッチングされた前記シリコン膜上に、更にシリコン膜を形成する手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
200g,200h,200i Si膜
Claims (6)
- (a)単結晶シリコンで構成される基板に対して第1エッチングガスを供給することで、前記基板の表面をプリエッチングする工程と、
(b)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、表面がプリエッチングされた前記基板上に、シリコン膜を形成する工程と、
(c)前記基板に対して前記第1エッチングガスとは分子構造が異なる第2エッチングガスを供給することで、前記シリコン膜の一部をエッチングする工程と、
(d)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、一部がエッチングされた前記シリコン膜上に、更にシリコン膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記第1エッチングガスおよび前記第2エッチングガスのそれぞれはハロゲン原子を含み、前記第1エッチングガスの1分子中に含まれるハロゲン原子の数が、前記第2エッチングガスの1分子中に含まれるハロゲン原子の数よりも多い請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1エッチングガスはハロゲン原子を含み、ハロゲン原子以外の原子を含まず、前記第2エッチングガスはハロゲン原子およびハロゲン原子以外の原子を含む請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1エッチングガスは、前記第2エッチングガスよりも反応性が高い請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 基板に対して処理が行われる処理室と、
前記処理室内の基板に対して第1エッチングガスを供給する第1供給系と、
前記処理室内の基板に対して前記第1エッチングガスとは分子構造が異なる第2エッチングガスを供給する第2供給系と、
前記処理室内の基板に対してシリコン含有ガスを供給する第3供給系と、
前記処理室内において、(a)単結晶シリコンで構成される基板に対して前記第1エッチングガスを供給することで、前記基板の表面をプリエッチングする処理と、(b)前記基板に対して前記シリコン含有ガスを供給することで、表面がプリエッチングされた前記基板上に、シリコン膜を形成する処理と、(c)前記基板に対して前記第2エッチングガスを供給することで、前記シリコン膜の一部をエッチングする処理と、(d)前記基板に対して前記シリコン含有ガスを供給することで、一部がエッチングされた前記シリコン膜上に、更にシリコン膜を形成する処理と、を行わせるように、前記第1供給系、前記第2供給系および前記第3供給系を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板処理装置の処理室内において、
(a)単結晶シリコンで構成される基板に対して第1エッチングガスを供給することで、前記基板の表面をプリエッチングする手順と、
(b)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、表面がプリエッチングされた前記基板上に、シリコン膜を形成する手順と、
(c)前記基板に対して前記第1エッチングガスとは分子構造が異なる第2エッチングガスを供給することで、前記シリコン膜の一部をエッチングする手順と、
(d)前記基板に対してシリコン含有ガスを供給することで、一部がエッチングされた前記シリコン膜上に、更にシリコン膜を形成する手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017056142A JP6778139B2 (ja) | 2017-03-22 | 2017-03-22 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
TW107106383A TWI679678B (zh) | 2017-03-22 | 2018-02-26 | 半導體裝置之製造方法、基板處理裝置及記錄媒體 |
SG10201802150YA SG10201802150YA (en) | 2017-03-22 | 2018-03-15 | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and program |
KR1020180030396A KR102165125B1 (ko) | 2017-03-22 | 2018-03-15 | 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 프로그램 |
US15/926,509 US10529560B2 (en) | 2017-03-22 | 2018-03-20 | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017056142A JP6778139B2 (ja) | 2017-03-22 | 2017-03-22 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018160516A true JP2018160516A (ja) | 2018-10-11 |
JP6778139B2 JP6778139B2 (ja) | 2020-10-28 |
Family
ID=63583622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017056142A Active JP6778139B2 (ja) | 2017-03-22 | 2017-03-22 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10529560B2 (ja) |
JP (1) | JP6778139B2 (ja) |
KR (1) | KR102165125B1 (ja) |
SG (1) | SG10201802150YA (ja) |
TW (1) | TWI679678B (ja) |
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-
2017
- 2017-03-22 JP JP2017056142A patent/JP6778139B2/ja active Active
-
2018
- 2018-02-26 TW TW107106383A patent/TWI679678B/zh active
- 2018-03-15 KR KR1020180030396A patent/KR102165125B1/ko active IP Right Grant
- 2018-03-15 SG SG10201802150YA patent/SG10201802150YA/en unknown
- 2018-03-20 US US15/926,509 patent/US10529560B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6778139B2 (ja) | 2020-10-28 |
TW201903827A (zh) | 2019-01-16 |
KR102165125B1 (ko) | 2020-10-13 |
US20180277364A1 (en) | 2018-09-27 |
SG10201802150YA (en) | 2018-10-30 |
TWI679678B (zh) | 2019-12-11 |
KR20180107729A (ko) | 2018-10-02 |
US10529560B2 (en) | 2020-01-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20180727 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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