JP2018137282A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2018137282A
JP2018137282A JP2017029077A JP2017029077A JP2018137282A JP 2018137282 A JP2018137282 A JP 2018137282A JP 2017029077 A JP2017029077 A JP 2017029077A JP 2017029077 A JP2017029077 A JP 2017029077A JP 2018137282 A JP2018137282 A JP 2018137282A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
printed wiring
layer
manufacturing
resin layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017029077A
Other languages
English (en)
Inventor
公輔 池田
Kosuke Ikeda
公輔 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP2017029077A priority Critical patent/JP2018137282A/ja
Publication of JP2018137282A publication Critical patent/JP2018137282A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】製造時間を短縮できるとともに、製造コストを低減できるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板の製造方法は、最外導体層14,16まで形成された中間体100の最外層上に熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層18’’,19’’を形成することと、加熱処理により樹脂層18’’,19’’を半硬化させることと、半硬化された樹脂層18’,19’の一部をエッチングにより除去することで、樹脂層18’,19’に最外導体層14,16まで達する開口部20,22を形成することと、加熱処理により樹脂層18’,19’を本硬化させてソルダーレジスト層18,19を形成することと、を含む。
【選択図】図2G

Description

本発明は、最外層にソルダーレジスト層を備えるプリント配線板の製造方法に関する。
特許文献1は、プリント配線板の製造方法を開示している。特許文献1のプリント配線板の製造方法では、導体回路を有する絶縁基板の表面に、熱硬化性樹脂からなるソルダーレジストが印刷される。次に、ソルダーレジストに熱処理が施され、絶縁被膜が形成される。そして、絶縁被膜にレーザーが照射されることで開口部が形成される。
特開2005−57298号公報
特許文献1のプリント配線板の製造方法では、熱硬化した絶縁被膜にレーザーが照射されることで開口部が形成される。レーザーによる開口部の形成には多大な時間を要する。また、高価なレーザー装置も必要とされる。これらは、プリント配線板の製造時間および製造コストの増大を意味する。
本発明のプリント配線板の製造方法は、最外導体層まで形成された中間体の最外層上に熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層を形成することと、加熱処理により前記樹脂層を半硬化させることと、半硬化された前記樹脂層の一部をエッチングにより除去することで、前記樹脂層に前記最外導体層まで達する開口部を形成することと、加熱処理により前記樹脂層を本硬化させてソルダーレジスト層を形成することと、を含む。
本発明の実施形態のプリント配線板の製造方法によれば、プリント配線板の製造時間が短縮されるとともに、製造コストが低減される。
本発明の一実施形態により製造されるプリント配線板を説明するための断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法を示す断面図。
本発明のプリント配線板の一実施形態が、図面を参照して説明される。図1は、実施形態により製造されたプリント配線板10の断面図である。図1に示すプリント配線板10は、絶縁樹脂層12と、絶縁樹脂層12の第1面12F1に形成された第1導体層14と、絶縁樹脂層12の第1面12F1とは反対側の第2面12F2に形成された第2導体層16とを備えている。第1導体層14と第2導体層16とはビア導体17を介して接続されていてよい。第1導体層14および第2導体層16は、金属、例えば銅で構成される。プリント配線板10は、ガラスクロス等の芯材で補強されたコア層を有さないコアレス型のプリント配線板である。従って、コア層を有するプリント配線板と比べて厚みを薄くすることができる。しかし、コアレス型のプリント配線板10は、コア層を有するプリント配線板と比較して剛性が低い。そこで、剛性を高めるため、図1に示されるプリント配線板10は最外層に剛性の高いソルダーレジスト層18,19をそれぞれ備える。ソルダーレジスト層は、プリント配線板10の片面だけに設けられていてよい。
各ソルダーレジスト層18,19は、光硬化性樹脂組成物よりも剛性の高い熱硬化性樹脂組成物からなる。熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂および硬化剤を含有する。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂や尿素樹脂などのアミノ樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ変成ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂などが挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、単独で用いられてもよい。または2種類以上の混合樹脂が用いられてもよい。
硬化剤としては、例えば、ポリフェノール系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、カルボン酸ヒドラジド類、ジアミノマレオニトリル類、ジシアンジアミド、イミダゾール類ポリアミンのナイロン塩およびリン酸塩、ルイス酸およびそのアミン錯体などが使用され得る。これらの硬化剤は、単独で用いられてよい。または2種類以上の硬化剤が用いられてもよい。
熱硬化性樹脂組成物には、さらに無機フィラーが含有されていてよい。無機フィラーは30〜80質量%含有されていてよい。無機フィラーは、アルミナおよびシリカの少なくとも1種である。無機フィラーとしてのシリカの例は、結晶性シリカ、溶融シリカ、煙霧状シリカ、ゾルゲルシリカなどである。無機フィラーは数種類組み合わせて使用されてもよい。無機フィラーの平均粒径は0.1μm以上5.0μm以下であることが好ましい。無機フィラーの最大粒径は10μm以下であることが好ましい。また、無機フィラーの形状は略球形であることが好ましい。
各ソルダーレジスト層18,19には、第1導体層14または第2導体層16の一部を導体パッド14a,16aとして露出させる複数の開口部20,22が形成されている。
図1に示されるプリント配線板10の製造方法の一実施形態が、図2A〜2Hを参照して具体例により説明される。
図2Aに示されるように、絶縁樹脂層12の第1面12F1上に第1導体層14が形成され、かつ絶縁樹脂層12の第2面12F2上に第2導体層16が形成されている中間体100が用意される。この例では、絶縁樹脂層12は1層であるので、第1導体層14および第2導体層16は共に最外導体層を構成する。このような中間体100は適度な剛性を備える支持板(図示せず)上で形成され得る。
図2Bに示されるように、中間体100の両最外層上に上述した熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層18’’,19’’がそれぞれ形成される。また、樹脂層18’’,19’’の形成は、流動性を有する熱硬化性樹脂組成物を中間体100の最外層上に塗布するか、あるいはシート状の熱硬化性樹脂組成物を中間体100の最外層上に貼り付けることにより行われ得る。
図2Cに示されるように、各樹脂層18’’,19’’上に金属箔24,25がそれぞれ貼り付けられる。金属箔24,25は、例えば銅箔である。金属箔24,25は、第1導体層14および第2導体層16とは異なる材料、例えばニッケル箔が用いられてもよい。金属箔24,25の厚みは、好ましくは0.5μm以上5.0μm以下である。また、金属箔24,25の貼付け後に、オーブン等の加熱装置(図示せず)により加熱処理が施され、樹脂層18’’,19’’は半硬化される。半硬化された樹脂層は符号18’,19’で示される。ここで「半硬化」とは、通常「B−Stage」と称される状態であり、より詳しくは、熱硬化性樹脂が溶解可能な溶剤に触れた際に、熱硬化性樹脂が実質的に全て溶解する硬化状態である。
図2Dに示されるように、各金属箔24,25上に、第1開口26a,27aを有する第1マスク26,27がそれぞれ形成される。第1開口26a,27aは金属箔24,25の一部を露出する。第1開口26a,27aは、第1導体層14および第2導体層16の導体パッド14a,16aの形成場所に形成される。第1マスク26,27は金属箔24,25の選択的エッチングのために形成される。金属箔24,25の、第1マスク26,27によって覆われた部分だけがエッチング後に残る。第1マスク26,27には、通常のドライフィルムレジストが用いられる。第1開口26a,27aは、フォトリソグラフィ技術により形成される。あるいは、第1マスク26,27には銅箔が用いられてもよい。
図2Eに示されるように、第1マスク26,27の第1開口26a,27aから露出される金属箔24,25の部分がエッチングにより除去される。その結果、金属箔24,25に第2開口28a,29aが形成される。これにより、第1マスク26,27と同じパターンを有する、金属箔24,25からなる第2マスク28,29が形成される。樹脂層18’,19’の一部は、第1マスク26,27の第1開口26a,27aおよび第2マスク28,29の第2開口28a,29aから露出する。
図2Fに示されるように、不要になった第1マスク26,27が除去される。第1マスク26,27がドライフィルムレジストからなる場合、第1マスク26,27は、例えば、レジスト剥離液を用いて除去される。レジスト剥離液には、例えば有機酸系の薬液等が用いられる。第1マスク26,27が銅箔からなる場合、第1マスク26,27はエッチングにより除去することができる。
図2Gに示されるように、第2マスク28,29の第2開口28a,29aから露出する半硬化状態の樹脂層18’,19’の部分がエッチングにより除去される。その結果、樹脂層18’,19’に、第1導体層14および第2導体層16まで達する開口部20,22が形成される。すなわち、第1導体層14および第2導体層16の一部が開口部20,22から露出する。エッチングは、好ましくは、第2マスク28,29から露出している樹脂層18’,19’にエッチング液を吹き付けるスプレー法により行われる。半硬化状態の樹脂層18’,19’は、エッチング液の吹き付け圧力による物理的作用によって効率的に除去される。しかし、エッチングは、中間体100をエッチング液に浸漬される浸漬法により行われてもよい。樹脂層18’,19’を溶解するエッチング液としては、例えば硫酸系、塩化銅系の薬液が挙げられる。
図2Hに示されるように、不要になった金属箔24,25からなる第2マスク28,29が除去される。そのために例えば、中間体100がエッチング液に浸漬される。第2マスク28,29が第1導体層14および第2導体層16と同じ材料から形成されている場合には、第2マスク28,29の第2開口28a,29aから露出する第1導体層14および第2導体層16の部分を被覆するようにレジストなどの保護膜が形成されていてもよい。しかし、第1導体層14および第2導体層16の厚みが第2マスク28,29のそれよりも十分に厚い場合には、保護膜の形成なしでエッチングが施されてもよい。また、第2マスク28,29の除去後または除去前に、加熱処理が施され、樹脂層18’,19’は本硬化される。これにより、ソルダーレジスト層18,19が形成される。「本硬化」とは、上記「半硬化」よりも熱硬化性樹脂をさらに硬化させることをいう。本硬化は、半硬化のための加熱処理よりも、高温または長時間の加熱により実現可能である。本硬化のための加熱処理は、半硬化のときと同様、オーブン等の加熱装置(図示せず)を用いて行われ得る。
その後、図示されていないが、第1導体層14および第2導体層16の露出面には、OSP、Ni/Au、Ni/Pd/Au、Sn等の表面処理が施されてよい。
実施形態の製造方法によれば、熱硬化性樹脂組成物からなるソルダーレジスト層18,19の開口部20,22は、エッチングにより形成される。開口部20,22は一度に形成され得る。従って、プリント配線板10の製造に要する時間は、開口部20,22を1つずつレーザー加工する製造方法と比べて短縮される。また、高価なレーザー装置も必要とされないため、プリント配線板10の製造にかかるコストは低減される。
また、実施形態の製造方法によれば、第2マスク28,29の材料には金属箔24,25が使用されている。そのため、樹脂層18’,19’のエッチング時に中間体100が変形し難くなる。その結果、樹脂層18’,19’に形成される開口部20,22の寸法精度は高くなる。
さらに、実施形態の製造方法によれば、樹脂層18’,19’のエッチングは、第2マスク28,29から露出している樹脂層18’,19’にエッチング液を吹き付けるスプレー法により行われる。そのため、半硬化状態の樹脂層18’,19’は、エッチング液の吹き付け圧力による物理的作用によって効率的に除去される。
本発明は、上記実施形態に限定されず、本発明から逸脱しない範囲で種々の変更、修正が可能である。例えば、上記実施形態では、コア層を有しないコアレス型のプリント配線板を製造する例が示されたが、本発明のプリント配線板の製造方法は、コア層を有するプリント配線板の製造にも適用され得る。本発明のプリント配線板の製造方法は、絶縁樹脂層と導体層が交互に積層された多層構造のプリント配線板の製造にも適用され得る。また、上記実施形態では、第2マスクとして金属箔が用いられると説明されたが、第2マスクには、ドライフィルムレジストが用いられてもよい。
10 プリント配線板
12 絶縁樹脂層
12F1 絶縁樹脂層の第1面
12F2 絶縁樹脂層の第2面
14 第1導体層
16 第2導体層
18,19 ソルダーレジスト層
18’,19’ 半硬化状態の樹脂層
18’’,19’’ 未硬化状態の樹脂層
20,22 開口部
24,25 金属箔
26,27 第1マスク
26a,27a 第1開口
28,29 第2マスク
28a,29a 第2開口
100 中間体

Claims (3)

  1. プリント配線板の製造方法であって、
    最外導体層まで形成された中間体の最外層上に熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層を形成することと、
    加熱処理により前記樹脂層を半硬化させることと、
    半硬化された前記樹脂層の一部をエッチングにより除去することで、前記樹脂層に前記最外導体層まで達する開口部を形成することと、
    加熱処理により前記樹脂層を本硬化させてソルダーレジスト層を形成することと、を含む。
  2. 請求項1記載のプリント配線板の製造方法であって、
    半硬化された前記樹脂層の一部をエッチングにより除去することで、前記樹脂層に前記最外導体層まで達する開口部を形成することは、前記樹脂層の上に金属箔を形成することと、前記金属箔の上に第1開口を有する第1マスクを形成することと、前記第1開口で露出される金属箔を除去することで第2開口を有する第2マスクを形成することと、前記第2開口で露出する前記樹脂層をエッチングで除去することと、を含む。
  3. 請求項1記載のプリント配線板の製造方法であって、
    エッチングによる前記樹脂層の一部の除去は、前記樹脂層にエッチング液を吹きつけるスプレー法により行われる。
JP2017029077A 2017-02-20 2017-02-20 プリント配線板の製造方法 Pending JP2018137282A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017029077A JP2018137282A (ja) 2017-02-20 2017-02-20 プリント配線板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017029077A JP2018137282A (ja) 2017-02-20 2017-02-20 プリント配線板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018137282A true JP2018137282A (ja) 2018-08-30

Family

ID=63366138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017029077A Pending JP2018137282A (ja) 2017-02-20 2017-02-20 プリント配線板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2018137282A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10745819B2 (en) Printed wiring board, semiconductor package and method for manufacturing printed wiring board
TWI591762B (zh) 封裝裝置及其製作方法
JP5461323B2 (ja) 半導体パッケージ基板の製造方法
JP6691451B2 (ja) 配線基板及びその製造方法と電子部品装置
TW201405745A (zh) 晶片封裝基板、晶片封裝結構及其製作方法
JP2019149438A (ja) 配線基板及びその製造方法
TW201320847A (zh) 雙面線路板之製作方法
KR20130090115A (ko) 솔더 레지스트층을 형성하는 방법 및 그 솔더 레지스트층을 구비한 인쇄회로기판
JP2008294333A (ja) プリント配線板の製造方法及びその方法を用いて得られるポッティングダムを備えるプリント配線板
JP2007180211A (ja) 配線基板製造用コア基板、配線基板の製造方法
US8828247B2 (en) Method of manufacturing printed circuit board having vias and fine circuit and printed circuit board manufactured using the same
US20030116350A1 (en) Flexible wiring boards and manufacturing processes thereof
JP2018137282A (ja) プリント配線板の製造方法
KR20120120789A (ko) 인쇄회로기판의 제조방법
KR101926560B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
JP4282161B2 (ja) 多層プリント配線板及び多層プリント配線板の製造方法
KR101341634B1 (ko) 비지에이 패키지에 사용되는 회로 기판
JP2018137279A (ja) プリント配線板の製造方法
JP4366647B2 (ja) 配線部材の製造方法
JP2008166741A (ja) 積層基板及びその製造方法
US9986642B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board and printed wiring board
TWI753468B (zh) 具散熱結構之基板結構及其製造方法
JP4806926B2 (ja) 電子部品搭載装置の製造方法
KR101847901B1 (ko) 반도체 패키지 기판의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 반도체 패키지 기판
JP2018182252A (ja) プリント配線板の製造方法