JP2018123261A - 樹脂および樹脂の製造方法 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 198
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 198
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 155
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 98
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 69
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 66
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 61
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims abstract description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims abstract description 22
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 112
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical group [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 92
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 19
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 14
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 11
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 8
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 8
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 9
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 238000007719 peel strength test Methods 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 229910002855 Sn-Pd Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002668 Pd-Cu Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000026 X-ray photoelectron spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 1
- 229910002677 Pd–Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- Plasma Technology (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
Description
高周波減圧プラズマ装置のチャンバ内にアミノ基を含む材料ガスを供給して1〜100000Paの減圧下でプラズマを発生させる高周波減圧プラズマ処理を行って、前記チャンバ内にセットされた樹脂の表面の炭素骨格に前記アミノ基を導入、付与するアミノ基付与工程を備えている樹脂の製造方法である。
表面の炭素骨格にアミノ基が導入、付与されている樹脂である。
最初に本発明の実施の形態の内容を列記して説明する。なお、以下においては、回路基板の作製を例に挙げて具体的な説明を行っている。
高周波減圧プラズマ装置のチャンバ内にアミノ基を含む材料ガスを供給して1〜100000Paの減圧下でプラズマを発生させる高周波減圧プラズマ処理を行って、前記チャンバ内にセットされた樹脂の表面の炭素骨格に前記アミノ基を導入、付与するアミノ基付与工程を備えている樹脂の製造方法である。
(6)また、本発明においては、無電解メッキ層を形成し、さらに、前記無電解メッキ層の上に電解メッキを用いて所定の厚みの電解銅メッキ層を形成する銅メッキ工程を備えていることが好ましい。
前記金属触媒に無電解メッキを用いて銅メッキ層を形成する無電解メッキ工程と、
無電解メッキにより析出させた銅メッキ層上に電解メッキを用いて銅メッキ層を形成する電解メッキ工程とを有していることが好ましい。
上記した樹脂の製造方法により作製された樹脂を用いて回路基板を作製する回路基板の製造方法である。
表面の炭素骨格にアミノ基が導入、付与されている樹脂である。
前記樹脂を用いて作製された回路基板である。
前記樹脂の表面に形成された銅メッキ層を用いて、回路パターンが形成されている回路基板である。
次に本発明の実施形態の詳細について、回路基板の作製を例に挙げて説明する。なお、以下では金属触媒としてパラジウムを用いて説明するが、これに限定されない。
はじめに、回路基板の製造工程の概要について説明する。図1は回路基板の製造工程を示す図である。図1に示すように、回路基板の製造は、先ず、基板状に成形した樹脂(樹脂基板)の表面に、高周波減圧プラズマ処理によりアミノ基を付与して、樹脂基板の表面改質処理を行う。次に、触媒吸着により、アミノ基が付与された樹脂基板の表面にPdを付与させる。次に、表面にPdを付与させた樹脂基板を、希硫酸(H2SO4)溶液に浸漬して、Pdを活性化させる。最後に、無電解メッキあるいは無電解メッキと電解メッキとの併用により、樹脂基板の表面にCuメッキ層を形成させる。
次に、回路基板の製造の詳細について工程順に説明する。
(a)樹脂基板の準備
最初に樹脂基板を準備する。
本工程では、高周波減圧プラズマ処理により、アミノ基のプラズマを生成させ、生成させたプラズマを用いて、樹脂基板表面の炭素骨格にフッ素と置換する形でアミノ基を導入、付与する。図2Aはフッ素樹脂のポリマー鎖を示す概念図であり、図2Bはアミノ基付与の反応機構を示す概念図である。
本工程においては、上記において表面にアミノ基が付与された樹脂基板の表面にPdを析出させる。
本工程では、上記において表面が活性化された樹脂基板の表面にCuメッキ層を形成させる。なお、このCuメッキ層の形成は、無電解メッキあるいは無電解メッキと電解メッキとの併用により行われる。
Cuの無電解メッキは公知のメッキ法を用いて行われる。具体的には例えば還元剤にホルムアルデヒドを用いたアルカリ浴で、ロッシェル塩、錯化剤としてEDTAを含有し、NaOHでpH調整されたメッキ浴を用い、例えば浴温度10〜80℃でメッキする。これにより、図4の下段に示すようにPdを核としてCuが析出し、Pd−Cuメッキ層が形成される。なお、図4は無電解メッキによるCuの析出機構を示す概念図である。
必要に応じて、次に、Pd−Cuメッキ層上に電解メッキを用いてCuメッキを行う。Cuの電解メッキは公知のメッキ法を用いて行われる。例えば無電解(化学)メッキ上へのストライクメッキとして一般的に使用されているメッキ法、具体的には硫酸銅を含有する酸性のメッキ浴を用い、浴温度15〜30℃で、電流密度3〜6A/dm2でメッキする。これにより、図5に示すように、PTFE樹脂基板上にPdを介して無電解Cuメッキ層、Cuメッキ層が順に形成された樹脂基板が得られる。なお、図5は樹脂基板上に形成されたメッキ層の構成を示す概念図である。
上記で得られた樹脂基板上に形成された導電層(銅メッキ層)に対して、エッチングなどの方法を施すことにより、回路パターンを形成させて回路基板を製造する。このとき、導電層は樹脂基板に対して十分な密着性を有しているため、精度高く回路パターンを形成することができ、高速伝送にも十分に適応可能な回路基板を提供することができる。
本実験においては、表面粗さRaが0.5μmのPTFE製樹脂基板上に上記したメッキ法を用いて厚み30μmのCuめっき層を形成させた樹脂基板を作製し、メッキピール強度を測定すると共に、樹脂基板とメッキ層の界面部分の断面を観察して密着の程度を調べた。
図1に示す各工程に従って、以下の手順により、導電層が形成された樹脂基板を製造した。
まず、樹脂基板として、予め、表面粗さRaが0.5μmに平滑化処理されたPTFE樹脂製の樹脂基板を準備した。
次に、表1に示すプラズマ処理条件の下、高周波減圧プラズマ処理により樹脂基板の表面にアミノ基を付与して、樹脂基板の表面改質処理を行った。
次に、アミノ基が付与された各樹脂基板の表面に、触媒吸着によりPdを析出させた。
その後、表面にPdを析出させた樹脂基板を、希硫酸(H2SO4)溶液に浸漬することにより、Pdを活性化させた。なお、ここでは、Sn−Pdコロイドメッキによって触媒吸着を行った。
最後に、無電解メッキにより、樹脂基板の表面にCuメッキ層を形成させた。
(1)密着の程度
樹脂基板とCuメッキ層の界面部分のSEM画像を図7A〜図7Eに示す。図7A〜図7Eより、樹脂基板とCuメッキ層とがミクロなレベルで隙間なく密着していることが確認された。
メッキピール強度試験は、JIS Z 0237−2009に準拠して、図6に示すように各々の試験サンプルSを試験装置8の水平なテーブル上に固定した後、メッキ層に所定の間隔(試験片幅)で平行な2本の切り込みを入れ、切り込みで挟まれたメッキ層の一端をチャックで挟み上方に向けて引っ張って行った。具体的な試験条件を表3に示す。
[1]樹脂基板の作製
実験1の結果を受け、プラズマ処理の条件出しを実施した。具体的には処理圧力、処理パワーをそれぞれ30〜70Pa、500〜1000Wまで拡げてプラズマ処理を行い、樹脂基板を作製した。
一方、プリント基板の場合には、一般的に6.5N/cm以上のピール強度が好ましい。そこで、より強度の強いPFA製の樹脂基板を使用して樹脂基板を作製し、ピール強度を調べた。具体的には、表面粗さRaが0.2μmのPFA製樹脂基板に実験1に記載したメッキ法を用いて厚み30μmのCuめっき層を形成させた樹脂基板を作製し、メッキピール強度を測定した。
表4にプラズマ処理条件を示す。
サンプル数を3とし、実験1と同じ方法でメッキピール強度試験を実施した。なお、試験片幅は5mm幅とした。試験結果を表6に示す。なお試験結果は1cm幅に換算して表記した。
本実験では、前記した実験1〜3で得られた結果を基に、表7に示す各種樹脂基板上に銅メッキ層が形成された樹脂基板における樹脂基板と銅メッキ層との密着性を調べた。なお、各樹脂基板における表面粗さRaは0.2μm、メッキ層の厚みは30μmと同じに設定した。
表8に示す処理条件の下、高周波減圧プラズマ処理により準備した各樹脂基板の表面にアミノ基を付与して、各樹脂基板の表面改質処理を行った。
作製したサンプルの銅メッキ層が形成された側の面を観察し、Cuが着床していない欠損箇所の有無を調べることにより、樹脂基板と無電解銅メッキ層との密着性を評価した。欠損箇所がない場合を良とした。
本実験では、上記した実験4におけるポリイミド樹脂をメッキ後に加熱乾燥した場合に密着力(ピール強度)がどのように向上するかを実験した。加熱乾燥を行う以外の実験条件等は上記実験4と同一である。
加熱乾燥 :無電解メッキ後と電解メッキ後の2回実施
加熱乾燥条件:120℃30分オーブン処理
表12に評価結果を示す。なお、単位はN/cmである。
2 高周波電力供給装置
3 真空チャンバ
4 プロセスガス供給装置
5 真空排気装置
6 樹脂基板
8 試験装置
A、B 領域
S 試験サンプル
Claims (17)
- 高周波減圧プラズマ装置のチャンバ内にアミノ基を含む材料ガスを供給して1〜100000Paの減圧下でプラズマを発生させる高周波減圧プラズマ処理を行って、前記チャンバ内にセットされた樹脂の表面の炭素骨格に前記アミノ基を導入、付与するアミノ基付与工程を備えている樹脂の製造方法。
- 前記高周波減圧プラズマ処理が、1〜1000Paの減圧下でプラズマを発生させる高周波減圧プラズマ処理である請求項1に記載の樹脂の製造方法。
- 前記アミノ基付与工程において、前記アミノ基を含む材料ガスとして、アンモニアまたは気体状のヒドラジンを用いる請求項1または請求項2に記載の樹脂の製造方法。
- 前記アミノ基が付与された前記樹脂基板の表面に触媒液を接触させ、銅メッキが成長するための金属触媒をアミノ基を介して前記樹脂基板の表面へ付与させる工程を備えている請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の樹脂の製造方法。
- 前記金属触媒が、パラジウムである請求項4に記載の樹脂の製造方法。
- 無電解メッキ層を形成し、さらに、前記無電解メッキ層の上に電解メッキを用いて所定の厚みの電解銅メッキ層を形成する銅メッキ工程を備えている請求項4または請求項5に記載の樹脂の製造方法。
- 前記金属触媒に無電解メッキを用いて銅メッキ層を形成する無電解メッキ工程と、
無電解メッキにより析出させた銅メッキ層上に電解メッキを用いて銅メッキ層を形成する電解メッキ工程とを有している請求項6に記載の樹脂の製造方法。 - 前記樹脂が、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群から選択された一つ以上の樹脂である請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の樹脂の製造方法。
- 前記樹脂は、表面粗さが、JIS B 0601−1982に規定される算術平均粗さRaで1μm以下である請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の樹脂の製造方法。
- 請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の樹脂の製造方法により作製された樹脂を用いて回路基板を製造する回路基板の製造方法。
- 表面の炭素骨格にアミノ基が導入、付与されている樹脂。
- フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂およびエポキシ樹脂からなる群から選択された一つ以上の樹脂である請求項11に記載の樹脂。
- 前記アミノ基上に金属触媒が付与されている請求項11または請求項12に記載の樹脂。
- 前記金属触媒が、パラジウムである請求項13に記載の樹脂。
- 前記パラジウムに所定の厚みの銅メッキ層が形成されている請求項14に記載の樹脂。
- 請求項11ないし請求項15のいずれか1項に記載の樹脂を用いて作製された回路基板。
- 前記樹脂の表面に形成された銅メッキ層を用いて、回路パターンが形成されている請求項16に記載の回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017017741A JP6925814B2 (ja) | 2017-02-02 | 2017-02-02 | 樹脂および樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018123261A true JP2018123261A (ja) | 2018-08-09 |
JP2018123261A5 JP2018123261A5 (ja) | 2019-11-28 |
JP6925814B2 JP6925814B2 (ja) | 2021-08-25 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2017017741A Active JP6925814B2 (ja) | 2017-02-02 | 2017-02-02 | 樹脂および樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6925814B2 (ja) |
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