JP2018120081A - 光導波路デバイスとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また特許文献3には次のような導波路チップが記載されている。
図1〜図4を用いて本発明の第1の実施形態を説明する。図1は第1の実施形態の光導波路デバイス1の構成を示す断面図である。
(動作の説明)
図1の光導波路デバイスの動作を説明する。図2は第1の実施形態の光導波路デバイス2’と既存の光導波路デバイス2における動作を比較した断面図である。
(光導波路デバイスの作製方法)
図1の形状の作製方法は図4に示すような手順で行われる。図4は第1の実施形態の光導波路デバイス1を作製する手順を説明するための断面図である。
(第2の実施形態)
図4の製造方法では、図4(e)の工程で、光導波路層11がある側を研磨したが、基板12側から研磨してもよい。本第2の実施形態はそのような場合である。図5は基板側から研磨した場合の光導波路デバイス5の断面図である。
(第3の実施形態)
図7は本発明の第3の実施形態の光導波路デバイス7の構成を示す断面図である。
3 光強度モニタ
12、22、52、72 基板
13 接続端面
13、13’ 接続端面
23、23’ 入射端面
14、24、34 入力導波路
15、25、35 反射防止膜
16、26、56、76 反射膜
17、27、57、77 迷光放射防止膜
28 光ファイバ
29 レンズ
34’ 別の光導波路層
36 方向性結合器
73、73’ 端面
100 迷光
Claims (8)
- 基板上に光導波路層を形成した光導波路デバイスであって、前記光導波路層の端面には反射防止膜が形成され、前記基板の端面には前記反射防止膜、及び、前記反射防止膜と積層されたとき迷光を反射する迷光放射防止膜となる反射膜、が形成されていることを特徴とする光導波路デバイス。
- 前記反射膜は前記反射防止膜と積層されて迷光放射防止膜としたときに、迷光を反射する光学膜厚である請求項1に記載の光導波路デバイス。
- 前記反射膜と前記反射防止膜は同じ材料の誘電体膜である請求項1または2に記載の光導波路デバイス。
- 前記反射膜は前記基板内からの迷光を反射する請求項1から3のいずれか一項に記載の光導波路デバイス。
- 前記光導波路はシリコンで形成されている請求項1から4のいずれか一項に記載の光導波路デバイス。
- 前記光導波路層端面は基板上面に対して、前記光導波路層がある側に傾斜している請求項1から5のいずれか一項に記載の光導波路デバイス。
- 光導波路層及び前記光導波路層が形成された基板の端面に反射膜を形成し、前記光導波路層または前記光導波路層の端面を研磨して前記基板の端面に前記反射膜を残し、前記光導波路層及び前記基板の端面上に反射防止膜を形成し、前記反射膜と前記反射防止膜が積層された膜を、迷光を反射する迷光放射防止膜とする光導波路デバイスの製造方法。
- 前記反射膜は前記反射防止膜と積層されて迷光放射防止膜としたときに、迷光を反射する光学膜厚である請求項7に記載の光導波路デバイスの製造方法。
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---|---|---|---|---|
JPH0461181A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | エタロン |
JPH0643305A (ja) * | 1992-07-23 | 1994-02-18 | Fujitsu Ltd | 光カプラ膜 |
JPH1020135A (ja) * | 1996-07-09 | 1998-01-23 | Nikon Corp | 光導波路デバイス及び光学薄膜の形成方法 |
US20130209033A1 (en) * | 2012-02-13 | 2013-08-15 | Bradley Jonathan Luff | Coupling between optical devices |
JP2016042196A (ja) * | 2015-11-12 | 2016-03-31 | 旭硝子株式会社 | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 |
JP2016053684A (ja) * | 2014-09-04 | 2016-04-14 | 日本電信電話株式会社 | 光導波路調整法および光導波路調整システム |
JP2016114763A (ja) * | 2014-12-15 | 2016-06-23 | 株式会社フジクラ | 光導波路素子、受光装置、光通信装置、光変調器、光共振器、及び光導波路素子の製造方法 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0461181A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | エタロン |
JPH0643305A (ja) * | 1992-07-23 | 1994-02-18 | Fujitsu Ltd | 光カプラ膜 |
JPH1020135A (ja) * | 1996-07-09 | 1998-01-23 | Nikon Corp | 光導波路デバイス及び光学薄膜の形成方法 |
US20130209033A1 (en) * | 2012-02-13 | 2013-08-15 | Bradley Jonathan Luff | Coupling between optical devices |
JP2016053684A (ja) * | 2014-09-04 | 2016-04-14 | 日本電信電話株式会社 | 光導波路調整法および光導波路調整システム |
JP2016114763A (ja) * | 2014-12-15 | 2016-06-23 | 株式会社フジクラ | 光導波路素子、受光装置、光通信装置、光変調器、光共振器、及び光導波路素子の製造方法 |
JP2016042196A (ja) * | 2015-11-12 | 2016-03-31 | 旭硝子株式会社 | 光吸収体及びこれを用いた撮像装置 |
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