JP2018079984A - 異なるスプレーを生成するディスペンサのためのシステムおよび方法 - Google Patents

異なるスプレーを生成するディスペンサのためのシステムおよび方法 Download PDF

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Abstract

【課題】異なる質量流量でスプレー流体を放出するシステムを提供する。【解決手段】第１のエリア１５５と第２のエリア１６０とを有するアクチュエータ１０５と、アクチュエータに接続されるとともに第１のオリフィス６１０と第２のオリフィス６１５とを有するステム２３０と、非作動位置で第１のオリフィスと第２のオリフィスとを覆うステムガスケット２６５と、ステムを非作動位置へと付勢する付勢部材２７０とを含む。アクチュエータの第１のエリアが押圧されると、ステムは、第２のオリフィスを露出させるようにステムガスケットに対して第１の距離を移動し、第１の質量流量で流体をスプレーするために付勢部材を圧縮する。アクチュエータの第２のエリアが押圧されると、ステムは、第１の質量流量よりも多い第２の質量流量で流体をスプレーするため、第１のオリフィスと第２のオリフィスとを露出させるようにステムガスケットに対して第２の距離を移動する。【選択図】図１３

Description

[0001]本開示は、全体として、流体のスプレーを放出するスプレーシステムおよび方法に関する。より詳細には、本開示は、異なるスプレーを選択的に生成するスプレーシステムを有するディスペンサ、および方法に関する。
[0002]従来、エーロゾル弁アセンブリを有するディスペンサでは、弁を下方に押圧することによって、アクチュエータが弁を開放してエーロゾル容器から製品を放出して、単一の質量流量でディスペンサから出るスプレーを生成する。従来のディスペンサは、所望に応じて異なるスプレーを選択的に生成する能力をユーザに提供しない。特に、ユーザは、ディスペンサのいくつかの用途に対してはより多量の質量流量を、他の用途に対してはより少量の質量流量を有する、スプレーを求めることがある。
[0003]したがって、ディスペンサから出る異なる流体のスプレーを選択的に生成するシステムを有するディスペンサ、または方法が必要とされている。
[0004]本開示は、異なる質量流量でスプレー流体を放出するシステムを提供する。
[0005]本開示はまた、アクチュエータと、アクチュエータに接続されるとともに壁で囲まれたチャネルを有するステムと、ステムが壁を通過する第１のオリフィスと第２のオリフィスとを備える、非作動位置で第１のオリフィスと第２のオリフィスとを覆うガスケットと、ステムを非作動位置へと付勢する付勢部材とを備えるような、システムを提供する。
[0006]本開示は更に、アクチュエータが第１のエリアと第２のエリアとを有し、アクチュエータの第１のエリアが押圧されると、ステムが、ガスケットに対して第１の距離を移動して、第１のオリフィスがガスケットによって覆われたままで第２のオリフィスを露出させ、第１の質量流量で流体をスプレーするために付勢部材を圧縮し、アクチュエータの第２のエリアが押圧されると、ステムが、ガスケットに対して第２の距離を移動して、第１および第２のオリフィスを露出させ、第１の質量流量よりも多い第２の質量流量で流体をスプレーするために付勢部材を圧縮するような、システムを提供する。
[0007]本開示は更にまた、第１のオリフィスが第２のオリフィスの上方にあり、第１のオリフィスの直径が第２のオリフィスの直径よりも大きいような、システムを提供する。
[0008]本開示はまた、レベル（level）を更に備え、第１のエリアが押圧されるとアクチュエータがレベルの側方に接触し、第２のエリアが押圧されるとアクチュエータがレベルの側方と後方とに接触するような、システムを提供する。
[0009]本開示は更に、アクチュエータを支持するベースを更に備えるような、システムを提供する。
[0010]本開示は更にまた、ベースが第１のリブと第２のリブとを有し、アクチュエータが第１の陥凹部と第２の陥凹部とを有することによって、アクチュエータの第１のエリアが押圧されると、第１の陥凹部が第１のリブに接触する前にアクチュエータが第１の距離を移動し、アクチュエータの第２のエリアが押圧されると、第２の陥凹部が第２のリブに接触する前にアクチュエータが第２の距離を移動するような、システムを提供する。
[0011]本開示はまた、異なる質量流量で容器内のスプレー流体を放出する方法を提供し、その方法は、付勢部材を圧縮するとともに、第１のオリフィスと第２のオリフィスとを有するステムを移動させるため、アクチュエータの第１のエリアおよび第２のエリアの一方を押圧することを備え、ステムは、非作動位置で第１のオリフィスと第２のオリフィスとを覆うガスケットを有する。
[0012]本開示は更に、アクチュエータの第１のエリアが押し下げられると、ステムが、第１の質量流量で流体をスプレーするため、ガスケットに対して第１の距離を移動して、第１のオリフィスがガスケットによって覆われたままで第２のオリフィスを露出させ、アクチュエータの第２のエリアが押し下げられると、ステムが、第１の質量流量よりも多い第２の質量流量で流体をスプレーするため、ガスケットに対して第２の距離を移動して、第１のオリフィスと第２のオリフィスとを露出させるような、方法を提供する。
[0013]本開示は更にまた、アクチュエータがベースによって支持され、ベースが第１のリブと第２のリブとを有し、アクチュエータが第１の陥凹部と第２の陥凹部とを有することによって、アクチュエータの第１のエリアが押圧されると、第１の陥凹部が第１のリブに接触する前にアクチュエータが第１の距離を移動し、アクチュエータの第２のエリアが押圧されると、第２の陥凹部が第２のエリアに接触する前にアクチュエータが第２の距離を移動することを提供する。
[0014]本開示によるディスペンサの前面図。 [0015]図１（ａ）のディスペンサの頂部側面斜視図。 [0016]図１（ａ）のディスペンサの分解組立図。 [0017]図１（ａ）のディスペンサのアクチュエータを示す上面図。 [0018]図３（ａ）のアクチュエータの下面図。 [0019]図３（ａ）のアクチュエータの下面斜視図。 [0020]図１（ａ）のディスペンサのレベルを示す上面図。 [0021]図４（ａ）のレベルの線４−４に沿った断面図。 [0022]図４（ａ）のレベルの前面図。 [0023]図４（ａ）のレベルの上面斜視図。 [0024]図１（ａ）のディスペンサのベースを示す下面斜視図。 [0025]図５（ａ）のベースの上面斜視図。 [0026]図１（ａ）のディスペンサのステムを示す断面図。 [0027]図６（ａ）のステムの上面斜視図。 [0028]図１（ａ）のディスペンサのインサートを示す上面斜視図。 [0029]図７（ａ）のインサートの線７−７に沿った断面図。 [0030]図１（ａ）のディスペンサのカップを示す断面図。 [0031]図８（ａ）のカップの側面図。 [0032]図８（ａ）のカップの上面斜視図。 [0033]図１（ａ）のディスペンサのハウジングを示す上面図。 [0034]図９（ａ）のハウジングの断面図。 [0035]透明なものとして示される図９（ａ）のインサートの上面斜視図。 [0036]図１の容器の断面図。 [0037]図１０（ａ）の容器の上面斜視図。 [0038]非作動位置にある図１（ａ）のディスペンサを示す後面断面図。 [0039]非作動位置にある図１（ａ）のディスペンサを示す側面断面図。 [0040]少量スプレー（spray-less）位置にある図１（ａ）のディスペンサを示す後面断面図。 [0041]少量スプレー位置にある図１（ａ）のディスペンサを示す側面断面図。 [0042]多量スプレー（spray-more）位置にある図１（ａ）のディスペンサを示す断面図。 [0043]図１１（ｂ）のディスペンサの詳細図。
[0044]図面を参照すると、特に図１（ａ）を参照すると、全体が参照番号１００によって表される、本発明によるディスペンサが提供されている。ディスペンサ１００は、アクチュエータ１０５と、アクチュエータ内に位置付けられたインサート１１０と、スプレーレベル１１５と、使用の際にアクチュエータがその上に装着されるベース１２０と、ベースに接続された容器１２５とを備える。
[0045]容器１２５はスプレー流体１４５を格納することができる。容器１２５内のスプレー流体１４５は、加圧されるか、または容器１２５に充填する前および／または充填した後に加圧することができる。スプレー流体１４５が加圧された後、容器１２５内のスプレー流体１４５の圧力は大気圧よりも高い。
[0046]図１（ｂ）を参照すると、アクチュエータ１０５は頂部部分１５０を有する。頂部部分１５０は、第１のエリア１５５と第２のエリア１６０とを有する。
[0047]図２を参照すると、ディスペンサ１００は、ベース１２０内に位置付けることができるステム２３０と、ステムの周りに位置付けられるカップ２３５と、ステムの周りに嵌るハウジング２４０と、ステムガスケット２６５と、ステムの周りでハウジング内にある付勢部材２７０とを有する。ステムガスケット２６５は、下面と、上面と、中央開口部２６６とを有する。ステムガスケット２６５は、可撓性材料で作られ、スプレー流体１４５に対して不透過性である。
[0048]付勢部材２７０はばねであることができる。付勢部材２７０は金属材料で作ることができる。
[0049]図３（ａ）を参照すると、アクチュエータ１０５は開口アパーチャ３０５を有する。インサート１１０は開口アパーチャ３０５の内部に配置され、開口アパーチャは、図１（ａ）および図１（ｂ）に示されるように、インサートよりも大きい寸法を有する。スプレー流体１４５は、矢印方向３６０に沿ってインサート１１０から放出される。
[0050]図３（ｂ）を参照すると、アクチュエータ１０５は、シェル３１０と、シェル３１０内部の後方延長部３１５と、後方延長部３１５から離され、後方延長部３１５よりも更に径方向内側に位置付けられた内側後方延長部３２０と、内側後方延長部と円周方向で整列する一対の内側側方延長部３２５とを更に備える。アクチュエータ１０５はまた、一対の外側側方突出部３３０と、前方突出部３３５と、シェル３１０に接続された中央ロッド３４０とを有する。
[0051]図３（ｃ）を参照すると、シェル３１０は、その下側周辺の周りに複数の離間された曲線状の陥凹部３２１を有する。曲線状の陥凹部３２１の隣接した対はそれぞれ、それらの間に１つの周辺セグメント３１２を規定する。１つの曲線状の陥凹部３２１は、アパーチャ３０５の下方に配置された前方陥凹部３２３であり、別の曲線状の陥凹部は、シェル３１０の反対側に配置された後方陥凹部３２４である。後方陥凹部３２４は高さＨ１を有し、高さＨ１は前方陥凹部３２３の高さＨ２よりも高い。
[0052]後方延長部３１５、内側後方延長部３２０、内側側方延長部３２５の対、外側側方延長部３３０の対、および前方延長部３３５は全て、アクチュエータ１０５の頂部部分１５０から、実際にはシェル３１０から延在する。
[0053]後方延長部３１５、内側後方延長部３２０、ならびにそれぞれの内側側方延長部３２５および外側側方延長部３３０は、シェル３１０の外周の径方向内側であり、シェル３１０の外周と同軸または実質的に同軸である。
[0054]図３（ｂ）に示されるように、内側後方延長部３２０および各内側側方延長部３２５は同じ半径に沿っている。内側後方延長部３２０の中心は、各内側側方延長部３２５の中心から４５度の角度で離間されている。また、各内側側方延長部３２５の中心は互いから１８０°離れている。
[0055]２つの外側側方延長部３３０は、同じ半径に沿って配置され、その半径は内側側方延長部３２５の半径よりも大きい。内側側方延長部３２５と同様に、外側側方延長部３３０の中心は互いから１８０°離れている。また、外側側方延長部３３０は内側側方延長部３２５よりも長い。
[0056]前方延長部３３５は、アパーチャ３０５の径方向位置に対して径方向内側に配置される。
[0057]図３（ｃ）を参照すると、各外側側方延長部３３０は、外側側方延長部３３０を支持するため、フック３４５と複数のリブ３５０とを有する。各フック３４５は、外側側方延長部３３０の端部に配置される。
[0058]図４（ａ）を参照すると、レベル１１５は、中央部分４０５と、そこから径方向外側に離間された一対の側方表面４１０と、やはり中央部分から径方向外側に離間された、一対の側方表面の間の後方表面４１５と、中央部分４０５の円周方向周囲の均等に離間された４つのリブ４２０と、シェル表面４２５とを有する。
[0059]図４（ｃ）および４（ｄ）を参照すると、レベル１１５は、中央ロッド４５０と開口アパーチャ４５５とを更に備える。中央ロッド４５０および開口アパーチャ４５５は、インサート１１０を受け入れ、インサート１１０をレベル１１５上に装着するように構成される。開口アパーチャ４５５は面プレート４６０によって囲まれる。中央ロッド４５０はチャネル４３５の下方に配置される。
[0060]図４（ｂ）を参照すると、スプレー流体１４５は、矢印４４０の方向に沿って垂直チャネル４３０に入る。スプレー流体１４５は、次に、矢印４４５によって示されるような方向に沿って、垂直チャネル４３０からチャネル４３５へと流れる。スプレー流体１４５は、放出される前に、チャネル４３５内のインサート１１０に入る。
[0061]図５（ａ）を参照すると、ベース１２０は、２つの前方ブロック５０５と、２つの前方ブロックを接続する平坦面５２０と、２つの前方ブロックの間で平坦面上に位置付けられた後方ブロック５２５と、平坦面に接続された内側リング５３５と、外側または外部リング５４０とを有する。各前方ブロック５０５は、１つの垂直壁５１５と、１つの径方向壁５１７と、１つの円周方向壁５４５とを有する。後方ブロック５２５は垂直壁５３０を有する。１つの径方向壁５１７は、第１の側で１つの円周方向壁５４５に接続される。１つの垂直壁５１５は、第１の側とは反対の第２の側で、１つの円周方向壁５４５に接続される。
[0062]平坦面５２０は直立したクリッキングポスト（clicking post）５５４を有する。内側リング５３５はスペース５３８を有する。内側リング５３５は、複数のリブ５３６によって外側リング５４０に接続される。
[0063]図６（ａ）を参照すると、ステム２３０は、第１のチャネル壁６０７によって囲まれた上側チャネル６０５と、上側チャネルにある第１のオリフィス６１０と、第１のオリフィスの下方で上側チャネルにある第２のオリフィス６１５と、溝表面６２０と、肩部表面６２５と、下面６３０と、第２のチャネル壁６３７によって囲まれた下側チャネル６３５とを有する。第１のオリフィス６１０および第２のオリフィス６１５は、チャネル壁６０７を通っている。上側チャネル６０５および下側チャネル６３５は、分離壁６３８によって分離される。
[0064]第１のオリフィス６１０は、第２のオリフィス６１５よりも大径であり得る穴径を有する。第１のオリフィス６１０の例示的な直径は、０．４６ミリメートル（ｍｍ）である。第２のオリフィス６１５の例示的な直径は０．２５ｍｍである。
[0065]図６（ｂ）を参照すると、ステム２３０はまた、ステム２３０の周りで均等に離間された複数のリブ６４０を有する。リブ６４は、フローチャネルを提供するためのものである。
[0066]図６（ｂ）に示されるように、溝６２０は、下側縁部６４５と上側縁部６５０とを有する。第１のオリフィス６１０と第２のオリフィス６１５の両方は、下側縁部６４５と上側縁部６５０の間に配置される。
[0067]図７（ａ）を参照すると、インサート１１０は、開口部７１０と、レベル１１５のチャネル４３５からのスプレー流体１４５を混合する４つのフローチャネル７１５と、１つの出口ノズル７０５とを有する。フローチャネル７１５の数は、２つ、３つ、または４つであることができる。スプレー流体１４５は、図７（ｂ）に示されるように、矢印方向７２０に沿ってインサート１０の出口ノズル７０５から出る。
[0068]図８（ａ）〜８（ｃ）を参照すると、カップ２３５は、Ｕ字形チャネル８１０とプレート８０６とを形成する頂壁８０５と、底壁８１５と、内側壁面８４０を有する外壁８２０と、外縁部８２５を備えた外壁８２６とを有する。カップ２３５はまた、ブッシュ開口部８３１を有するブッシュ８３０と、ブッシュ８３０の周りで均等に離間された３つのアパーチャ８３５とを有する。アパーチャ８３５は、カップ２３５が固定位置に最終的に圧着される前に容器１２５が組立てラインへと下に移動するにつれて、容器１２５に対してカップ２３５を保定する。容器１２５からのスプレー流体１４５は、矢印方向８４５に沿って流れる。
[0069]図９（ａ）および９（ｂ）を参照すると、ハウジング２４０は、上側チャネル９０５と、２つの中間フローチャネル９１０および９１５と、ハウジング壁９２１に囲まれた下側流体チャネル９２０とを有する。スプレー流体１４５は、容器１２５から流れ、矢印９２５によって示される方向に沿って下側フローチャネル９２０に入る。特に、スプレー流体１４５の一部は、矢印９３５によって示される方向に沿ってフローチャネル９１５に入り、スプレー流体１４５の他方の部分は、矢印９３０によって示される方向に沿ってフローチャネル９１０に入る。スプレー流体１４５は、矢印９４２によって示されるように、チャネル９０５に入り、ステム２３０へと流れる。図９（ｃ）を参照すると、ハウジング２４０はまた、肩部表面９４０と上面９４５とを有する。
[0070]図１０（ａ）を参照すると、容器１２５は、外壁１００７によって形成されるＵ字形チャネル１００５を有する。図１０（ｂ）は、矢印１０１０によって示される方向に沿って容器１２５を離れるスプレー流体１４５を示している。
[0071]図１１（ａ）および１１（ｂ）を参照すると、システム１００が組み立てられると、アクチュエータ１０５はベース１２０の頂部に位置する。アクチュエータ１０５のシェル３１０は、ベース１２０の外側リング５４０と内側リング５３５との間に配置される。アクチュエータ１０５の各フック３４５は、アクチュエータ１０５がベース１２０に接続されると平坦面５２０の内縁部５２０ａの下に嵌合し、それによって、アクチュエータとベースとの間の相対回転を許容したまま、アクチュエータとベースとを互いに係止する。
[0072]図１１（ｂ）を参照すると、システム１００が非作動位置にあるとき、内側後方延長部３２０はレベル１１５の表面４１５と表面同士で接触している。システム１００が非作動位置にあるとき、各内側側方延長部３２５はレベル１１５の表面４１０と表面接触している。システム１００が非作動位置にあるとき、前方延長部３３５はシェル表面４２５と接触している。中央ロッド３４０は、図１１（ａ）に示されるように、レベル１１５の中央部分４０５と位置合わせされる。面プレート４６０は、インサート１１０とシェル３１０との間のスペースを覆う。レベル１１５が内側リング５３５の周りで枢動するように、面プレート４６０は、ベース１２０の内側リング５３５に位置する。レベル１１５のチャネル４３５と、インサート１１０の出口ノズル７０５と、アクチュエータ１０５の開口アパーチャ３０５とを整列させることができるようにして、中央ロッド４５０および開口アパーチャ４５５は、インサート１１０をレベル１１５上に装着する。レベル１１５の表面４２５は、円周方向壁５４５の間で均等にまたは実質的に均等に離間される。
[0073]図１１（ａ）に明瞭に示されるように、ベース１２０はカップ２３５に接続する。図１１（ｂ）に示されるように、ベース１２０の垂直面５１５と垂直面５３０とは、カップ２３５の内側面８４０と表面同士で接触している。各水平平坦面５１０は、平坦面５２０に対して同じ高さを有し、カップ２３５の上面８０５と表面同士で接触している。スペース５３８は、上面８０５と組立て中の内側リング５３５の可撓性を許容し、カップ２３５の外壁８２６に接触する。
[0074]ステム２３０は、ステムガスケット２６５が溝表面６２０に挿入されるようにして、ステムガスケット２６５の中央開口部２６６に挿入される。スプレー流体１４５が第１のオリフィス６１０および第２のオリフィス６１５に入ることができないように、図１１（ｂ）に示されるように、システム１００が非作動位置にあるとき、第１のオリフィス６１０および第２のオリフィス６１５はステムガスケット２６５によって封止される。ステム２３０をレベル１１５に接続するため、ステム２３０はカップ２３５のブッシュ開口部８３１に挿入され、チャネル壁６０７はチャネル４３０に挿入される。
[0075]図１１（ａ）に示されるように、ステムガスケットとステムとの間のギャップ１７５を封止するため、ステムガスケット２６５は、カップ２３５と、ハウジング２４０と、ステム２３０との間で固定される。図１１（ｂ）に示されるように、ステムをレベル１１５に対して付勢するため、付勢部材２７０は、ハウジング２４０とステム２３０とを押圧する。ハウジング２４０はブッシュ８３０内にある。システム１００が非作動位置にあるとき、ステム２３０は、上側チャネル９０５に沿って上下に移動することができる。肩部表面９４０は付勢部材２７０と接触している。具体的には、付勢部材２７０は肩部表面９４０の頂部に位置する。上面９４５は、ステムガスケット２６５の下面と表面同士で接触している。具体的には、ステムガスケット２６５は上面９４５の頂部に位置する。ハウジング２４０およびガスケット２６５はカップクリンプ（図示なし）によって保持される。
[0076]Ｕ字形チャネル１００５は、カップ２３５のＵ字形チャネル８１０の内部に位置する。容器１２５のＵ字形チャネル１００５とカップ２３５のＵ字形チャネル８１０の両方は、内側リング５３５と前方ブロック５０５とによって形成される第１のスペースの内部、および内側リング５３５と後方ブロック５２５とによって形成される第２のスペースの内部に位置して、ベース１２０と、容器１２５と、カップ２３５とを互いに固定するスナップ嵌めを形成する。
[0077]システム１００は、非作動位置と、少量スプレー位置および多量スプレー位置という２つの動作位置とを有する。非作動位置では、スプレー流体１４５は容器１２５から放出されない。少量スプレー位置または多量スプレー位置でのみ、スプレー流体１４５が放出され得る。
[0078]少量スプレー位置は、システム１００が、システム１００の公称質量流量よりも少ない質量流量でスプレー流体１４５を放出することを意味する。少量スプレー位置では、ユーザは、スプレー流体１４５をシステム１００から放出するため、第１のエリア１５５を押圧する。
[0079]多量スプレー位置では、ユーザは、スプレー流体１４５をシステム１００から放出するため、図１３に示される、第２のエリア１６０を押圧する。多量スプレー位置の質量流量は少量スプレー位置の質量流量よりも多い。
[0080]図１１（ｂ）を参照すると、図１（ａ）のシステムは非作動位置で示されている。非作動位置では、アクチュエータ１０５に力は加えられない。ステム２３０の第１のオリフィス６１０および第２のオリフィス６１５は、ステムガスケット２６５の下面の上方にあるか、またはステムガスケットによって覆われる。したがって、スプレー流体１４５はステム２３０の溝６２０に入らない。非作動位置では、上述したように、付勢部材２７０の底部はハウジング２４０の肩部表面９４０の頂部に位置する。付勢部材２７０は、第１のオリフィス６１０と第２のオリフィス６１５の両方がステムガスケットの下面の上方にあるか、またはステムガスケットによって覆われるように、ステム２３０をステムガスケット２６５に対して押し上げる。ステムガスケット２６５は、第１のオリフィス６１０と第２のオリフィス６１５の両方を封止し、スプレー流体１４５が容器１２５からインサート１１０へと流れるのを妨げる。
[0081]図１２（ａ）および（ｂ）は、少量スプレー位置にある図１（ａ）のシステムを示している。図１２（ａ）および１２（ｂ）を参照すると、力が第１のエリア１５５に加えられると、２つの内側側方延長部３２５が２つの表面４１０と直接接触して、面プレート４６０がベース１２０の内側リング５３５上に位置しているままでレベル１１５を枢動させ、ステム２３０が押し下げられるにつれて付勢部材２７０が圧縮される。アクチュエータ１０５は、前方陥凹部３２３が複数のリブ５３６の１つに接触する前に、高さＨ２に等しい距離を移動させられる。したがって、第１のオリフィス６１０がステムガスケット２６５によって覆われたまま、ステム２３０の第２のオリフィス６１５がステムガスケット２６５の下面の下方にある。スプレー流体１４５が周囲環境と連通していると、容器１２５内の高圧のため、スプレー流体１４５が第２のオリフィス６１５を通して容器１２５を離れる。
[0082]図１２（ｂ）を参照すると、スプレー流体１４５はハウジング２４０に入り、ハウジング２４０のチャネル９２０、９１５、９１０、および９０５を通過する。スプレー流体１４５がハウジング２４０を離れた後、スプレー流体１４５は、次に溝６２０に入り、続いて第２のオリフィス６１５に入る。スプレー流体１４５は、ステム２３０の上側チャネル６０５内へと上方に移動し続ける。スプレー流体１４５がステム２３０を離れた後、スプレー流体１４５は、レベル１１５のチャネル４３０とチャネル４３５とに入る。スプレー流体１４５は、４つのチャネル７１５に入り、次にインサート１１０の開口部７１０に入る。したがって、スプレー流体１４５はインサート１１０のノズル７０５から出る。
[0083]ノズル７０５の穴径は、０．０２５ｍｍ〜２．５ｍｍであることができる。ノズル７０５の穴径は、スプレーされる配合物によって求められるスプレー特性に関連する。
[0084]図１３は、多量スプレーモード位置にある図１（ａ）のシステムを示している。別の力が第２のエリア１６０に加えられると、アクチュエータ１０５の内側後方突出部３２０はレベル１１５の表面４１５と直接接触して、面プレート４６０がベース１２０の内側リング５３５上に位置する状態でレベルを下方に枢動させ、付勢部材２７０は圧縮され、ステム２３０は押し下げられる。アクチュエータ１０５は、後方陥凹部３２４が複数のリブ５３６のうち別のものに接触する前に、高さＨ１（図３（ｃ）に図示）に等しい距離を移動させられる。したがって、ステム２３０の第１のオリフィス６１０と第２のオリフィス６１５の両方が、ステムガスケット２６５の下面の下方に押し下げられる。
[0085]上述したように、容器１２５内のスプレー流体１４５が加圧されるか、またはそれを加圧することができる。スプレー流体１４５が周囲温度と連通していると、スプレー流体１４５は、容器１２５の高圧のためそこから出る。
[0086]再び図１３を参照すると、スプレー流体１４５は、ハウジング２４０に入り、ハウジング２４０のチャネル９２０、９１５、９１０、および９０５を通過する。スプレー流体１４５がハウジング２４０を離れた後、スプレー流体１４５は次に、溝６２０および第１のオリフィス６１０と第２のオリフィス６１５の両方に入る。スプレー流体１４５は、ステム２３０の上側チャネル６０５内で上方に移動し続ける。スプレー流体１４５がステム２３０を離れた後、スプレー流体１４５は、レベル１１５のチャネル４３０とチャネル４３５とに入る。やはり、スプレー流体１４５がインサート１１０のノズル７０５から出る前、スプレー流体１４５は、スプレー流体１４５がインサート１１０の開口部７１０に入る前に４つのチャネル７１５内で混合される。
[0087]システム１００が少量スプレー位置にあるとき、容器１２５内の流体１４５をスプレーするため、第２のオリフィス６１５が露出される。スプレー流体１４５は、第２のオリフィス６１５を通してステム２３０に入ることができるが、第１のオリフィス６１０がガスケット２６５によって依然として封止されているので、スプレー流体１４５は第１のオリフィス６１０に入ることができない。システム１００が多量スプレー位置にあるとき、容器１２５内の流体１４５をスプレーするため、第１のオリフィス６１０と第２のオリフィス６１５の両方が露出され、スプレー流体１４５は第２のオリフィス６１５を通ってステム２３０に入ることができる。
[0088]図１４は非作動位置を示している。本開示の一実施形態として、第２のオリフィス６１５の直径は約０．２５ｍｍであり、第１のオリフィス６１０の直径は０．４６ｍｍである。本開示の一実施形態として、第１のオリフィスと第２のオリフィスとの間の距離は約０．０３５インチ（０．８９ｍｍ）である。
[0089]上述のオリフィスを用いると、少量スプレーの質量流量は０．３〜０．５グラム／秒の範囲である。多量スプレー位置の質量流量は０．９〜１．１グラム／秒の範囲である。特に、システム１００は、上述の実施形態を用いて、少量スプレー位置の場合は平均０．４１グラム／秒、多量スプレーの場合は０．９８グラム／秒を有する質量流量を達成することができる。
[0090]上述の実施形態はシステム１００の一例である。当業者には理解されるように、本開示は、異なるオリフィスサイズ、オリフィス形状、オリフィススペース、およびオリフィスの数を要する、システム１００の他の実施形態を有することができる。システム１００は、好ましくは、漏れを防ぐ能力、質量流量の点で少量スプレーおよび多量スプレー機能の間を分離する能力、ならびに顧客が要求した質量流量を顧客の特定の製品と一致させる能力を有する。オリフィスの形状、オリフィスの数、オリフィスの位置、またはオリフィス間の距離といった望ましい特徴が満たされる限り、これらに対する制限はない。
[0091]本開示では、少量スプレー位置動作は、多量スプレー位置動作よりも少量のスプレー流体を放出する。設定は要しない。多量スプレー位置は流体スプレーの公称量または全量を分配する。この多量スプレー位置は、任意の通常のアクチュエータと同じ量を放出し、少量スプレー位置よりも著しく多いスプレー量を送達する。やはり、設定は要しない。
[0092]本開示では、消費者は単に、少量スプレー位置動作と多量スプレー位置動作との間で切り替えるのに、自分の指をシステムの前側からシステムの後側へと移動させる。
[0093]少量スプレー位置は、メーカーの要件にしたがって制御可能である。少量スプレー位置の質量流量は、多量スプレー位置に対して８０％低減したものであり得る。少量スプレー位置および多量スプレー位置の２つの異なる質量流量の変動性は、製品の粘度、および容器内のエーロゾルの圧力によって決定される無限大であり得る。
[0094]アクチュエータ１０５は、図１１（ａ）および１１（ｂ）に示されるような、スプレー流体１４５を分配するのにアクチュエータ１０５を押し下げることができない閉位置から、図１３に示される多量スプレー位置および図１２に示される少量スプレー位置でアクチュエータ１０５を動作させることができる開位置へ、ベース１２０上で回転可能である。多量スプレー位置および少量スプレー位置で動作させたとき、アクチュエータ１０５は消費者の指によって垂直に押し下げることができ、それによって曲線状の陥凹部３２１が、ベース１２０のリブ５３６の上を下方に、またリブ５３６上の下部を移動し、周辺セグメント３１２はリブ５３６の間にある。曲線状の陥凹部３２１の曲線部分は、多量スプレー位置および少量スプレー位置を確立するため、リブ５３６および曲線状の陥凹部３２１を案内して互いに完全に整列させ、曲線状の陥凹部３２１およびリブ５３６は、動作の間、アクチュエータ１０５とベース１２０とを安定させる。閉位置にあるとき、周辺セグメント３１２はそれぞれリブ５３６のうち１つの頂部に位置し、アクチュエータ１０５はベース１２０に対して垂直に押し下げることができないので、スプレー流体１４５がシステム１００から分配される可能性はない。１つの前方ブロック５０５と１つの外側側方延長部３３０との間の干渉は、開位置と閉位置との間でのアクチュエータ１０５の回転を制限する。
[0095]開位置と閉位置との間でアクチュエータ１０５が回転する間、後方延長部３１５は直立しているクリッキングポスト５５４に接触して、可聴ノイズを生成する。可聴ノイズは、アクチュエータ１０５が第１の方向で開位置へと回転していること、またはアクチュエータ１０５が第１の方向とは反対の第２の方向で、開位置から離れるように回転していることを、ユーザに警告する。
[0096]「第１の」、「第２の」などの用語は、本明細書では、様々な要素を修飾するのに使用され得ることが留意されるべきである。これらの修飾語は、特段の指定がない限り、修飾された要素に対する空間的、連続的、または階層的順序を示唆するものではない。
[0097]１つまたは複数の例示的な実施形態を参照して本開示について記載してきたが、本開示の範囲から逸脱することなく、様々な変更を行うことができ、また等価物を本開示の要素と置換できることが、当業者には理解されるであろう。それに加えて、本開示の範囲から逸脱することなく、特定の状況または材料を本開示の教示に適合させるため、多くの修正を行うことができる。したがって、本開示は、想到される最良の形態として開示された特定の実施形態に限定されるものではなく、本開示は、添付の特許請求の範囲内にある全ての実施形態を含むことが意図される。

Claims (20)

  1. 第１のエリアと第２のエリアとを有するアクチュエータと、
    前記アクチュエータに接続されるとともに壁で囲まれたチャネルを有するステムであって、前記壁を通る第１のオリフィスと第２のオリフィスとを備えるステムと、
    非作動位置で前記第１のオリフィスと前記第２のオリフィスとを覆うガスケットと、
    前記ステムを前記非作動位置へと付勢する付勢部材とを備え、
    ここで、前記ステムは、前記第１のオリフィスが前記ガスケットによって覆われたままで前記第２のオリフィスを露出させるように、前記ガスケットに対して第１の距離を移動可能であり、前記ステムは、前記アクチュエータの前記第１のエリアが押し下げられると、第１の質量流量で流体をスプレーするために前記付勢部材を圧縮し、
    ここで、前記ステムは、前記第１のオリフィスと前記第２のオリフィスとを露出させるように、前記ガスケットに対して第２の距離を移動可能であり、前記ステムは、前記アクチュエータの前記第２のエリアが押し下げられると、前記第１の質量流量よりも多い第２の質量流量で流体をスプレーするために前記付勢部材を圧縮する、異なる質量流量でスプレー流体を放出するシステム。
  2. 前記ガスケットが、スプレー流体に対して不透過性であり、前記ステムを封止する、請求項１に記載のシステム。
  3. 前記第１のオリフィスが前記第２のオリフィスの上方にある、請求項１に記載のシステム。
  4. 前記第１のオリフィスが前記第２のオリフィスの直径よりも大きい直径を有する、請求項３に記載のシステム。
  5. 前記付勢部材がばねである、請求項１に記載のシステム。
  6. レベルを更に備え、前記第１のエリアが押圧されると前記アクチュエータが前記レベルの側方に接触し、前記第２のエリアが押圧されると前記アクチュエータが前記レベルの前記側方と後方とに接触する、請求項１に記載のシステム。
  7. 容器の頂部に位置するベースを更に備え、ここで、前記ベースが前記アクチュエータを支持する、請求項１に記載のシステム。
  8. 前記アクチュエータが、前記ベースと前記アクチュエータとを回転可能に接続するフックを備えた側方延長部を有する、請求項７に記載のシステム。
  9. 前記ベースが第１のリブと第２のリブとを有し、前記アクチュエータが第１の陥凹部と第２の陥凹部とを有し、ここで、前記アクチュエータの前記第１のエリアが押圧されると、前記第１の陥凹部が前記第１のリブに接触する前に前記アクチュエータが前記第１の距離を移動し、前記アクチュエータの前記第２のエリアが押圧されると、前記第２の陥凹部が前記第２のリブに接触する前に前記アクチュエータが前記第２の距離を移動する、請求項７に記載のシステム。
  10. 前記第１の距離が前記第２の距離よりも短い、請求項９に記載のシステム。
  11. 付勢部材を圧縮しステムを移動させるため、アクチュエータの第１のエリアおよび第２のエリアの一方を押圧することを備えた、異なる質量流量で容器内のスプレー流体を放出する方法であって、前記ステムが、第１のオリフィスと第２のオリフィスとを有するとともに、非作動位置で前記第１のオリフィスと前記第２のオリフィスとを覆うガスケットを有し、
    前記ステムは、前記アクチュエータの前記第１のエリアが押圧されると第１の質量流量で流体をスプレーするため、前記第１のオリフィスが前記ガスケットによって覆われたままで前記第２のオリフィスを露出させるように、前記ガスケットに対して第１の距離を移動し、
    前記ステムは、前記アクチュエータの前記第２のエリアが押圧されると、前記第１の質量流量よりも多い第２の質量流量で流体をスプレーするため、前記第１のオリフィスと前記第２のオリフィスとを露出させるように、前記ガスケットに対して第２の距離を移動するものである、異なる質量流量で容器内のスプレー流体を放出する方法。
  12. 前記ガスケットが、スプレー流体に対して不透過性であり、前記ステムを封止する、請求項１１に記載の方法。
  13. 前記第２のオリフィスが前記第１のオリフィスの下方にある、請求項１１に記載の方法。
  14. 前記第１のオリフィスが前記第２のオリフィスの直径よりも大きい直径を有する、請求項１３に記載の方法。
  15. 前記付勢部材がばねである、請求項１１に記載の方法。
  16. 前記第１のエリアが押圧されると前記アクチュエータがレベルの側方に接触し、前記第２のエリアが押圧されると前記アクチュエータが前記レベルの前記側方と後方とに接触する、請求項１１に記載の方法。
  17. 前記アクチュエータが、ベースに対して前記アクチュエータを係止することができるフックを備えた側方延長部を有する、請求項１１に記載の方法。
  18. 前記アクチュエータおよび前記レベルが、前記容器の頂部に位置するベースによって支持される、請求項１６に記載の方法。
  19. 前記ベースが第１のリブと第２のリブとを有し、前記アクチュエータが第１の陥凹部と第２の陥凹部とを有し、ここで、前記アクチュエータの前記第１のエリアが押し下げられると、前記第１の陥凹部が前記第１のリブに接触する前に前記アクチュエータが前記第１の距離を移動し、前記アクチュエータの前記第２のエリアが押し下げられると、前記第２の陥凹部が前記第２のリブに接触する前に前記アクチュエータが前記第２の距離を移動する、請求項１８に記載の方法。
  20. 前記第１の距離が前記第２の距離よりも短い、請求項１１に記載の方法。
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