JP2018073875A - ウェーハの加工方法 - Google Patents

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唯人 長澤
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直敬 大島
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【課題】 デバイスへの帯電を防止すると共に切削ブレードの腐食を防止して、切削ブレードの寿命の短命化を防止可能なウェーハの加工方法を提供することである。【解決手段】 交差する複数の切削予定ラインで区画された各領域にそれぞれデバイスが形成された表面を有するウェーハの加工方法であって、ウェーハの表面を露出させた状態でウェーハをチャックテーブルで保持する保持ステップと、該チャックテーブルに保持されたウェーハの該切削予定ラインを切削ブレードで切削する切削ステップと、を備え、該切削ステップでは、ウェーハと該切削ブレードに純水中に二酸化炭素が混入された切削水を供給しつつ切削を遂行し、該切削ブレードには耐酸性を有するコーティングが施されていることを特徴とする。【選択図】図3

Description

本発明は複数のデバイスが表面に形成されたウェーハを切削ブレードで切削するウェーハの加工方法に関する。
切削装置では、高速回転する切削ブレードでウェーハ等の被加工物に切り込んで切削を実施するが、通常、切削ブレード及び被加工物を冷却するために、或いは被加工物上から切削屑を洗い流して除去するために、切削水を供給しながら切削加工が実施される。
切削加工中には、高速回転する切削ブレードと切削水との摩擦によって切削中に発生した静電気でデバイスが静電破壊を起こしたり、デバイスに切削屑が付着するという問題がある。
そこで、純水中に二酸化炭素を吹き込んで純水より低い比抵抗値の切削水を使用することで、静電気を被加工物上から速やかに逃がしデバイスへの帯電を防止して、デバイスの静電破壊やデバイスへのコンタミ付着を防止している。
特開2000−198044号公報
ところが、上述したように純水中に二酸化炭素を吹き込んで切削水の比抵抗値を下げ、低比抵抗値の切削水を切削ブレードに供給しながら切削を実施すると、切削水によって切削ブレードが腐食して切削ブレードの寿命が短命化する恐れがある。
切削ブレードの寿命が短命化すると、切削ブレードの交換が頻繁になり、作業性が悪化する上、デバイスチップの製造コストもかさむという問題がある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、デバイスへの帯電を防止すると共に切削ブレードの腐食を防止して、切削ブレードの寿命の短命化を防止可能なウェーハの加工方法を提供することである。
本発明によると、交差する複数の切削予定ラインで区画された各領域にそれぞれデバイスが形成された表面を有するウェーハの加工方法であって、ウェーハの表面を露出させた状態でウェーハをチャックテーブルで保持する保持ステップと、該チャックテーブルに保持されたウェーハの該切削予定ラインを切削ブレードで切削する切削ステップと、を備え、該切削ステップでは、ウェーハと該切削ブレードに純水中に二酸化炭素が混入された切削水を供給しつつ切削を遂行し、該切削ブレードには耐酸性を有するコーティングが施されていることを特徴とするウェーハの加工方法が提供される。
本発明のウェーハの加工方法によると、切削中にウェーハに低比抵抗値の切削水を供給しながら切削を遂行するため、デバイスへの帯電が防止される。一方、切削ブレードは、耐酸性のコーティングが施されているため、切削ブレードの腐食が防止され切削ブレードの寿命の短命化が防止される。
従って、切削ブレードの寿命が短命化することがないため、切削ブレードの交換が頻繁になり作業性が悪化することが防止できる上、デバイスチップの製造コストが嵩む恐れを低減できる。
切削装置の斜視図である。 切削ユニットの分解斜視図である。 スピンドルに装着された切削ブレードの側面図である。 保持ステップを示す一部断面側面図である。 切削ステップを示す一部断面側面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明の加工方法を実施するのに適した切削装置の斜視図が示されている。切削装置2の前面側には、オペレータが加工条件等の装置に対する指示を入力するための操作パネル4が設けられている。装置上部には、オペレータに対する案内画面や後述する撮像ユニットによって撮像された画像が表示されるCRT等の表示ユニット6が設けられている。
ウェーハWは粘着テープであるダイシングテープTに貼着され、ダイシングテープTの外周縁部が環状フレームFに貼着されたフレームユニットが形成される。図1に示した収容カセット8中にはフレームユニットが複数枚(例えば25枚)収容される。収容カセット8は上下動可能なカセットエレベータ9上に載置される。
収容カセット8の後方には、収容カセット8から切削前のウェーハWを搬出するとともに、切削後のウェーハWを収容カセット8に搬入する搬出入ユニット10が配設されている。
搬出入ユニット10はクランプ11を有しており、クランプ11がフレームユニットの環状フレームFを把持して、収容カセット8に対してフレームユニットを搬出及び搬入する。搬出入ユニット10はY軸方向に直線移動される。
収容カセット8と搬出入ユニット10との間には、搬出入対象のフレームユニットが一時的に載置される領域である仮置き領域12が設けられており、仮置き領域12には、フレームユニットの環状フレームFをセンタリングする一対の位置決め部材14が配設されている。
仮置き領域12の近傍には、フレームユニットを吸着して搬送する旋回アームを有する搬送ユニット16が配設されており、仮置き領域12に搬出されたフレームユニットは、搬送ユニット16により吸着されてチャックテーブル18上に搬送され、このチャックテーブル18の吸引保持部19に吸引保持されるとともに、複数のフレームクランプ21により環状フレームFがクランプされて固定される。
チャックテーブル18は、回転可能且つX軸方向に往復動可能に構成されており、チャックテーブル18のX軸方向の移動経路の上方には、ウェーハWの切削すべきストリートを検出するアライメントユニット20が配設されている。
アライメントユニット20は、ウェーハWの表面を撮像する撮像素子及び顕微鏡を有する撮像ユニット22を備えており、撮像により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の画像処理によって切削すべき切削予定ラインを検出することができる。撮像ユニット22によって取得された画像は、表示ユニット6に表示される。
アライメントユニット20の左側には、チャックテーブル18に保持されたウェーハWに対して切削加工を施す切削ユニット24が配設されている。切削ユニット24はアライメントユニット20と一体的に構成されており、両者が連動してY軸方向及びZ軸方向に移動する。
切削ユニット24は、回転可能なスピンドル26の先端に切削ブレード28が装着されて構成され、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能となっている。切削ブレード28は撮像ユニット22のX軸方向の延長線上に位置している。
25は切削加工の終了したフレームユニットを吸着してスピンナ洗浄ユニット27まで搬送する搬送ユニットであり、スピンナ洗浄ユニット27ではフレームユニットがスピン洗浄及びスピン乾燥される。
図2を参照すると、切削ユニット24の分解斜視図が示されている。切削ユニット24は、スピンドルハウジング30中に回転可能に収容されたスピンドル26を含んでおり、スピンドル26の先端部にはねじ穴32が形成されている。
36は後フランジであり、ボス部38とボス部38と一体的に形成されたフランジ40を含んでいる。ボス部38の先端部には雄ねじ42が形成されている。後フランジ36は更に挿入穴43を有している。
後フランジ36の挿入穴43中にねじ44を挿入し、スピンドル26の先端に形成されたねじ穴32に螺合して締め付けることにより、後フランジ36がスピンドル26の先端部に固定される。
28はワッシャー型の切削ブレードであり、その全体がニッケル母材中にダイヤモンド砥粒が分散されて電着された電着砥石から形成されている。図3に示すように、切削ブレード28の両方の面には、耐酸性を有するコーティング29が施されている。
コーティング29としては、例えばダイヤモンドライクカーボン(DLC)を挙げることができる。外周に切り刃を有するハブタイプの切削ブレードの場合には、切り刃に耐酸性のコーティングを施すようにする。
切削ブレード28をスピンドル26に固定するには、スピンドル26の先端部に固定された後フランジ36のボス部38に切削ブレード28を装着し、更に押さえフランジとして作用する前フランジ50を後フランジ36のボス部38に装着して、押さえナット52をボス部38の雄ねじ42に螺合して締め付けることにより、切削ブレード28は後フランジ36と前フランジ50とで挟持されて、スピンドル26の先端部に固定される。
以下、上述した切削装置2を使用した本発明実施形態に係るウェーハの加工方法について説明する。このウェーハの加工方法では、まず、図4に示すように、ウェーハWの表面を露出させた状態でウェーハWをチャックテーブル18の吸引保持部19で保持する保持ステップを実施する。環状フレームFはクランプ21でクランプして固定する。
このようにチャックテーブル18でウェーハWを保持した状態で、ウェーハWの切削予定ラインを切削ブレード28で切削する切削ステップを実施する。図5に示すように、スピンドル26の先端部に装着された切削ブレード28の概略上半分はブレードカバー54で覆われている。
ブレードカバー54には、切削ブレード28の両側に沿って水平方向に伸長する一対の(一本のみ図示)ブレードクーラーノズル56が取り付けられている。ブレードクーラーノズル56は接続パイプ58に連通しており、接続パイプ58は図示しない切削水供給源に接続されている。
ブレードカバー54には更に、接続パイプ60,64が取り付けられており、接続パイプ60は切削ブレード28の外周部に向かって切削水を供給するシャワーノズル62に連通されている。接続パイプ64はウェーハWの表面に切削水を供給してウェーハ表面を洗浄するスプレーノズル66に連通している。接続パイプ60,64も切削水供給源に接続されている。
接続パイプ58,60,64が接続される切削水供給源は、純水中に二酸化炭素を吹き込んだ切削水を貯留しており、切削水の比抵抗値は0.1MΩ・cm〜0.5MΩ・cmの範囲内である。
ウェーハWの切削ステップでは、ブレードクーラーノズル56から切削ブレード28の加工点に向かって切削水(冷却水)を供給すると共に、スプレーノズル62から切削ブレード28の外周に向かって切削水を供給し、更にシャワーノズル66からウェーハWの表面に切削水を供給しながら、切削ブレード28でダイシングテープTに達するまでウェーハWの切削予定ラインに切り込み、チャックテーブル18を矢印X1方向に加工送りしながら、ウェーハWを切削する。
ウェーハWの切削中には、静電気によるデバイスの帯電を防止するために、純水(比抵抗値約1MΩ・cm)より比抵抗値の低い0.1MΩ・cm〜0.5MΩ・cmの範囲内の比抵抗値を有する切削水を供給しながら切削を遂行する。
従って、通常の切削ブレードでは切削水により腐食が進行するが、本実施形態の切削ブレード28は耐酸性のコーティング29が施されているので、切削ブレード28の腐食が防止され、切削ブレード28の寿命の短命化を防止することができる。
一方、ウェーハWの表面にはスプレーノズル66から純水中に二酸化炭素を吹き込んだ低比抵抗値(0.1MΩ・cm〜0.5MΩ・cm)の切削水を供給しながら切削が遂行される。従って、ウェーハWに形成されたデバイスへの帯電が効果的に防止され、デバイスの静電破壊やデバイスへのコンタミの付着を防止することができる。
2 切削装置
18 チャックテーブル
24 切削ユニット
28 切削ブレード
29 コーティング
36 後フランジ
50 前フランジ
54 ブレードカバー
56 ブレードクーラーノズル
62 シャワーノズル
66 スプレーノズル

Claims (2)

  1. 交差する複数の切削予定ラインで区画された各領域にそれぞれデバイスが形成された表面を有するウェーハの加工方法であって、
    ウェーハの表面を露出させた状態でウェーハをチャックテーブルで保持する保持ステップと、
    該チャックテーブルに保持されたウェーハの該切削予定ラインを切削ブレードで切削する切削ステップと、を備え、
    該切削ステップでは、ウェーハと該切削ブレードに純水中に二酸化炭素が混入された切削水を供給しつつ切削を遂行し、
    該切削ブレードには耐酸性を有するコーティングが施されていることを特徴とするウェーハの加工方法。
  2. 該切削水は比抵抗値が0.1MΩ・cm〜0.5MΩ・cmの範囲内である請求項1記載のウェーハの加工方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6431604A (en) * 1987-07-29 1989-02-01 Sony Corp Method and device for dicing
JP2003291065A (ja) * 2002-03-29 2003-10-14 Disco Abrasive Syst Ltd 流体混合装置及び切削装置
JP2004259840A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Works Ltd 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置
JP2005340431A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP2009027030A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの切削方法
JP2012110817A (ja) * 2010-11-24 2012-06-14 Disco Corp 混合装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6431604A (en) * 1987-07-29 1989-02-01 Sony Corp Method and device for dicing
JP2003291065A (ja) * 2002-03-29 2003-10-14 Disco Abrasive Syst Ltd 流体混合装置及び切削装置
JP2004259840A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Works Ltd 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置
JP2005340431A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP2009027030A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの切削方法
JP2012110817A (ja) * 2010-11-24 2012-06-14 Disco Corp 混合装置

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