JP2018060015A - 光学積層体および画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1つの実施形態においては、上記偏光子の吸収軸と上記第1の位相差層の遅相軸とのなす角度は10°〜20°であり、該吸収軸と上記第2の位相差層の遅相軸とのなす角度は65°〜85°である。
1つの実施形態においては、上記第1の位相差層および上記第2の位相差層は、環状オレフィン系樹脂フィルムで構成されている。この場合、上記第2の位相差層の寸法変化率は、例えば1%以下である。
別の実施形態においては、上記第1の位相差層および上記第2の位相差層は、液晶化合物の配向固化層である。この場合、上記偏光板と上記第1の位相差層と上記第2の位相差層との積層体の寸法変化率は、例えば1%以下である。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記の光学積層体を備える。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内位相差である。例えば、「Re(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。Re(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Re(λ)=(nx−ny)×dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Rth(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth(λ)=(nx−nz)×dによって求められる。
(4)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
図1は、本発明の1つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。本実施形態の光学積層体100は、偏光板10と、第1の位相差層20と、第2の位相差層30と、導電層41と、基材42と、をこの順に有する。偏光板10は、偏光子11と、偏光子11の一方の側に配置された第1の保護層12と、偏光子11のもう一方の側に配置された第2の保護層13とを含む。目的に応じて、第1の保護層12および第2の保護層13の一方は省略されてもよい。例えば、第1の位相差層20が偏光子11の保護層としても機能し得る場合には、第2の保護層13は省略されてもよい。基材42は、導電層41に密着積層されている。本明細書において「密着積層」とは、2つの層が接着層(例えば、接着剤層、粘着剤層)を介在することなく直接かつ固着して積層されていることをいう。導電層41および基材42は、それぞれが単一層として光学積層体100の構成要素とされてもよく、基材42と導電層41との積層体として光学積層体100に導入されてもよい。なお、見やすくするために、図面における各層の厚みの比率は、実際とは異なっている。
B−1.偏光子
偏光子11としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
第1の保護層12は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、(メタ)アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
第2の保護層13もまた、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料は、第1の保護層に関して上記B−2項で説明したとおりである。第2の保護層13は、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Re(550)が0nm〜10nmであり、厚み方向の位相差Rth(550)が−10nm〜+10nmであることをいう。
C−1.第1の位相差層の特性
第1の位相差層20は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および/または機械的特性を有し得る。第1の位相差層20は、代表的には遅相軸を有する。1つの実施形態においては、第1の位相差層20の遅相軸と偏光子11の吸収軸とのなす角度は、好ましくは10°〜20°であり、より好ましくは13°〜17°であり、さらに好ましくは約15°である。第1の位相差層20の遅相軸と偏光子11の吸収軸とのなす角度がこのような範囲であれば、後述するように第1の位相差層および第2の位相差層の面内位相差をそれぞれ所定の範囲に設定し、第2の位相差層の遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の角度で配置することにより、広帯域において非常に優れた円偏光特性(結果として、非常に優れた反射防止特性)を有する光学積層体が得られ得る。
第1の位相差層が樹脂フィルムで構成される場合、その厚みは、好ましくは60μm以下であり、好ましくは30μm〜50μmである。第1の位相差層の厚みがこのような範囲であれば、所望の面内位相差が得られ得る。
第1の位相差層20は、液晶化合物の配向固化層であってもよい。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のnxとnyとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための第1の位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、光学積層体のさらなる薄型化を実現することができる。第1の位相差層20が液晶化合物の配向固化層で構成される場合、その厚みは、好ましくは1μm〜7μmであり、より好ましくは1.5μm〜2.5μmである。液晶化合物を用いることにより、樹脂フィルムよりも格段に薄い厚みで樹脂フィルムと同等の面内位相差を実現することができる。
D−1.第2の位相差層の特性
第2の位相差層30は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および/または機械的特性を有し得る。第2の位相差層30は、代表的には遅相軸を有する。1つの実施形態においては、第2の位相差層30の遅相軸と偏光子11の吸収軸とのなす角度は、好ましくは65°〜85°であり、より好ましくは72°〜78°であり、さらに好ましくは約75°である。第2の位相差層30の遅相軸と第1の位相差層20の遅相軸とのなす角度は、好ましくは52°〜68°であり、より好ましくは57°〜63°であり、さらに好ましくは約60°である。第2の位相差層30の遅相軸と偏光子11の吸収軸とのなす角度がこのような範囲であれば、上記のように第1の位相差層の面内位相差を所定の範囲に設定し、第1の位相差層の遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の角度で配置し、後述のように第2の位相差層の面内位相差を所定の範囲に設定することにより、広帯域において非常に優れた円偏光特性(結果として、非常に優れた反射防止特性)を有する光学積層体が得られ得る。
第2の位相差層が樹脂フィルムで構成される場合、その厚みは、好ましくは40μm以下であり、好ましくは25μm〜35μmである。第2の位相差層の厚みがこのような範囲であれば、所望の面内位相差が得られ得る。第2の位相差層が樹脂フィルムで構成される場合、その材料、特性、製造方法等は、第1の位相差層に関して上記C−2項で説明したとおりである。
第2の位相差層30は、第1の位相差層と同様に液晶化合物の配向固化層であってもよい。第2の位相差層30が液晶化合物の配向固化層で構成される場合、その厚みは、好ましくは0.5μm〜2μmであり、より好ましくは1μm〜1.5μmである。第2の位相差層が液晶化合物の配向固化層で構成される場合、その材料、特性、製造方法等は、第1の位相差層に関して上記C−3項で説明したとおりである。
第1の位相差層および第2の位相差層は、任意の適切な組み合わせとして用いられ得る。具体的には、第1の位相差層が樹脂フィルムで構成され、第2の位相差層が液晶化合物の配向固化層で構成されてもよく;第1の位相差層が液晶化合物の配向固化層で構成され、第2の位相差層が樹脂フィルムで構成されてもよく;第1の位相差層および第2の位相差層がいずれも樹脂フィルムで構成されてもよく;第1の位相差層および第2の位相差層がいずれも液晶化合物の配向固化層で構成されてもよい。好ましくは、第1の位相差層が樹脂フィルムで構成される場合には、第2の位相差層も樹脂フィルムで構成され;第1の位相差層が液晶化合物の配向固化層で構成される場合には、第2の位相差層も液晶化合物の配向固化層で構成される。なお、第1の位相差層および第2の位相差層がいずれも樹脂フィルムで構成される場合、第1の位相差層および第2の位相差層は同一であってもよく、詳細な構成が異なっていてもよい。第1の位相差層および第2の位相差層がいずれも液晶化合物の配向固化層で構成される場合も同様である。
導電層は、任意の適切な成膜方法(例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、スプレー法等)により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。成膜後、必要に応じて加熱処理(例えば、100℃〜200℃)を行ってもよい。加熱処理を行うことにより、非晶質膜が結晶化し得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。インジウム酸化物には2価金属イオンまたは4価金属イオンがドープされていてもよい。好ましくはインジウム系複合酸化物であり、より好ましくはインジウム−スズ複合酸化物(ITO)である。インジウム系複合酸化物は、可視光領域(380nm〜780nm)で高い透過率(例えば、80%以上)を有し、かつ、単位面積当たりの表面抵抗値が低いという特徴を有している。
基材としては、上記A項に記載の所望の透湿度、寸法変化率および線膨張係数が得られる限りにおいて、任意の適切な樹脂フィルムが用いられ得る。好ましくは、上記所望の特性に加えて優れた透明性を有する樹脂フィルムである。構成材料の具体例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。
本発明の実施形態による光学積層体は、その他の位相差層をさらに含んでいてもよい。その他の位相差層の光学的特性(例えば、屈折率特性、面内位相差、Nz係数、光弾性係数)、厚み、配置位置等は、目的に応じて適切に設定され得る。
上記A項からG項に記載の光学積層体は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明は、そのような光学積層体を用いた画像表示装置を包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機EL表示装置が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、その視認側に上記A項からG項に記載の光学積層体を備える。光学積層体は、導電層が表示セル(例えば、液晶セル、有機ELセル)側となるように(偏光子が視認側となるように)積層されている。すなわち、本発明の実施形態による画像表示装置は、表示セル(例えば、液晶セル、有機ELセル)と偏光板との間にタッチセンサーが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置であり得る。この場合、タッチセンサーは、導電層(または基材付導電層)と表示セルとの間に配置され得る。タッチセンサーの構成については業界で周知の構成が採用され得るので、詳細な説明は省略する。
塗布形成された位相差層(液晶化合物の配向固化層)については、大塚電子製MCPD2000を用いて干渉膜厚測定法によって測定した。その他のフィルムについては、デジタルマイクロメーター(アンリツ社製KC−351C)を用いて測定した。
(2)位相差層の位相差値
実施例および比較例で用いた位相差層の屈折率nx、nyおよびnzを、自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製,自動複屈折計KOBRA−WPR)により計測した。面内位相差Reの測定波長は450nmおよび550nmであり、厚み方向位相差Rthの測定波長は550nmであり、測定温度は23℃であった。
(3)透湿度
JIS K 7129B(モコン法)に準じて測定した。温度40℃、湿度92%RHの雰囲気中、面積1m2の試料を24時間に通過する水蒸気量(mg)を測定した。
(4)寸法変化率
実施例および比較例で用いた基材または位相差層、あるいは実施例および比較例で得られた光学積層体を100mm×100mmに切り出して、測定試料とした。当該測定試料を温度85℃および相対湿度85%のオーブン中に240時間保管した後の寸法を測定し、オーブン投入前の寸法からの変化率を寸法変化率とした。
(5)線膨張係数
エスアイアイ・ナノテクノロジー製のTMA(SS7100)を用いて、実施例および比較例で用いた基材を約6mm角に切削して試料台に設置し、JIS K 7197に準じてTMA(圧縮膨張法)測定を行った。測定荷重は19.6mN、プローブ径は3.5mmφ、昇温速度は5℃/分で−150℃から20℃の範囲で測定を行い、得られた寸法変化のデータからこの範囲の平均線膨張係数を算出した。
(6)光学積層体の耐久性
実施例および比較例で得られた光学積層体を100mm×50mmに切り出し、無アルカリガラスに貼り合わせて測定試料とした。当該測定試料を温度85℃および相対湿度85%のオーブン中に120時間保管した。その後、測定試料をオーブンから取り出し、導電層の状態をレーザー顕微鏡により観察し、以下の基準で評価した。
良好:クラックが認められなかった
不良:クラックが顕著に認められた
厚み30μmのポリビニルアルコール(PVA)系樹脂フィルム(クラレ製、製品名「PE3000」)の長尺ロールを、ロール延伸機により長尺方向に5.9倍になるように長尺方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み12μmの偏光子1を作製した。
具体的には、膨潤処理は20℃の純水で処理しながら2.2倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が45.0%になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が1:7である30℃の水溶液中において処理しながら1.4倍に延伸した。更に、架橋処理は、2段階の架橋処理を採用し、1段階目の架橋処理は40℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら1.2倍に延伸した。1段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は5.0重量%で、ヨウ化カリウム含有量は3.0重量%とした。2段階目の架橋処理は65℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら1.6倍に延伸した。2段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は4.3重量%で、ヨウ化カリウム含有量は5.0重量%とした。また、洗浄処理は、20℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は2.6重量%とした。最後に、乾燥処理は70℃で5分間乾燥させて偏光子1を得た。
得られた偏光子1の両面に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、コニカミノルタ株式会社製のTACフィルム(製品名:KC2UA、厚み:25μm、第2の保護層に対応する)及び当該TACフィルムの片面にハードコート処理により形成されたハードコート(HC)層を有するHC−TACフィルム(厚み:32μm、第1の保護層に対応する)をそれぞれ貼り合わせて、第1の保護層/偏光子1/第2の保護層の構成を有する偏光板1を得た。
ネマチック液晶相を示す重合性液晶(BASF社製:商品名「Paliocolor LC242」、下記式で表される)10gと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤(BASF社製:商品名「イルガキュア907」)3gとを、トルエン40gに溶解して、液晶組成物(塗工液)を調製した。
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み38μm)表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の方向は、偏光板に貼り合わせる際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て−15°方向となるようにした。この配向処理表面に、参考例2と同様の液晶塗工液を塗工し、参考例2と同様にして液晶化合物を配向および硬化させて、PETフィルム上に位相差層2を形成した。位相差層2の厚みは1.2μm、面内位相差Re(550)は115nmであった。さらに、位相差層2は、nx>ny=nzの屈折率分布を有していた。
株式会社カネカ製のシクロオレフィン系の位相差フィルムA(製品名:KUZ−フィルム#270、厚み:33μm、Re(550)=270nm)と株式会社カネカ製のシクロオレフィン系の位相差フィルムB(製品名:KUZ−フィルム#140、厚み:28μm、Re(550)=140nm)とを、それぞれの遅相軸のなす角度が60℃となるように厚みが5μmのアクリル系接着層を介して貼り合わせて、積層位相差フィルムを得た。この積層位相差フィルムを位相差層3とした。
7−1.ポリカーボネート樹脂フィルムの作製
イソソルビド(ISB)26.2質量部、9,9−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(BHEPF)100.5質量部、1,4−シクロヘキサンジメタノール(1,4−CHDM)10.7質量部、ジフェニルカーボネート(DPC)105.1質量部、および、触媒として炭酸セシウム(0.2質量%水溶液)0.591質量部をそれぞれ反応容器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第1段目の工程として、反応容器の熱媒温度を150℃にし、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた(約15分)。
次いで、反応容器内の圧力を常圧から13.3kPaにし、反応容器の熱媒温度を190℃まで1時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。
反応容器内温度を190℃で15分保持した後、第2段目の工程として、反応容器内の圧力を6.67kPaとし、反応容器の熱媒温度を230℃まで、15分で上昇させ、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、8分で250℃まで昇温し、さらに発生するフェノールを取り除くため、反応容器内の圧力を0.200kPa以下に減圧した。所定の攪拌トルクに到達後、反応を終了し、生成した反応物を水中に押し出した後に、ペレット化を行い、BHEPF/ISB/1,4−CHDM=47.4モル%/37.1モル%/15.5モル%のポリカーボネート樹脂を得た。
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は136.6℃であり、還元粘度は0.395dL/gであった。
得られたポリカーボネート樹脂を80℃で5時間真空乾燥をした後、単軸押出機(いすず化工機社製、スクリュー径25mm、シリンダー設定温度:220℃)、Tダイ(幅200mm、設定温度:220℃)、チルロール(設定温度:120〜130℃)および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み120μmのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
テンター延伸機を用いて、得られたポリカーボネート樹脂フィルムを横延伸し、厚み50μmの位相差フィルムを得た。その際、延伸倍率は250%であり、延伸温度を137〜139℃とした。
得られた位相差フィルムのRe(550)は137〜147nmであり、Re(450)/Re(550)は0.89であり、Nz係数は1.21であり、配向角(遅相軸の方向)は長尺方向に対し90°であった。この位相差フィルムを位相差層4として用いた。
基材として厚み50μmのポリシクロオレフィンフィルム(日本ゼオン製、商品名「ZEONOR(登録商標)」)を用いた。この基材の一方の面に紫外線硬化性樹脂組成物(DIC社製 商品名「UNIDIC(登録商標)RS29−120」)を塗布し、80℃で1分間乾燥させた後、紫外線硬化させ、厚み1.0μmのハードコート層を形成した。次いで、基材の他方の面に、上記と同じ紫外線硬化性樹脂組成物100重量部と、最頻粒子径が1.9μmであるアクリル系球状粒子(綜研化学社製、商品名「MX−180TA」)0.002重量部とを含む、球状粒子入り硬化性樹脂組成物を塗布し、その後紫外線硬化させ、厚み1.0μmのハードコート層を形成した。上記で得られたポリシクロオレフィンフィルムを、スパッタ装置に投入し、粒子を含んでいないハードコート層表面に、厚み27nmのインジウムスズ酸化物の非晶質層を形成した。次いで、インジウムスズ酸化物の非晶質層が形成されたポリオレフィンフィルムを130℃の加熱オーブンで90分間加熱処理して、表面抵抗値が100Ω/□の透明導電性フィルムを作製した。この透明導電性フィルムを基材付導電層とした。基材の上記(3)による透湿度は7mg/m2・24hであり、上記(4)による寸法変化率は0.03%であり、上記(5)による線膨張係数は7.3(×10−6/℃)であった。
基材として厚み50μmのPETフィルム(東レ製、商品名「ルミラー#50」)を用いたこと以外は参考例5と同様にして、表面抵抗値が100Ω/□の透明導電性フィルムを作製した。この透明導電性フィルムを基材付導電層とした。基材の上記(3)による透湿度は700mg/m2・24hであり、上記(4)による寸法変化率は0.50%であり、上記(5)による線膨張係数は13.0(×10−6/℃)であった。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル99部、アクリル酸4−ヒドロキシブチル1.0部および2,2´−アゾビスイソブチロニトリル0.3部を酢酸エチルと共に加えた。反応容器中の混合物を、窒素ガス気流下、60℃で4時間反応させた後、当該反応液に酢酸エチルを加えて、重量平均分子量165万のアクリル系ポリマーを含有する溶液(固形分濃度30%)を得た。上記アクリル系ポリマー溶液の固形分100部あたり0.15部のジベンゾイルパーオキシド(日本油脂製(株):ナイパーBO−Y)と、0.1部のトリメチロールプロパンキシレンジイソシアネート(三井武田ケミカル(株):タケネートD110N)と、0.2部のシランカップリング剤(綜研化学株式会社製:A−100,アセトアセチル基含有シランカップリング剤)とを配合して、粘着剤層形成用溶液を得た。上記粘着剤層形成用溶液を、シリコーン系剥離剤で表面処理したポリエステルフィルムからなるセパレータに塗工し、155℃で3分間加熱処理して厚さ15μmの粘着剤層Aを得た。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル94.9部、アクリル酸5部およびアクリル酸2−ヒドロキシエチル0.1部、ならびに、これらのモノマー(固形分)100部に対して0.3部のベンゾイルパーオキサイドを酢酸エチルと共に加えた。反応容器中の混合物を、窒素ガス気流下、60℃で7時間反応させた後、当該反応液に酢酸エチルを加えて、重量平均分子量220万のアクリル系ポリマーを含有する溶液(固形分濃度30重量%)を得た。上記アクリル系ポリマー溶液の固形分100部あたり0.6部のトリメチロールプロパントリレンジイソシアネート(日本ポリウレタン(株)製:コロネートL)と、0.075部のγ−グリシドキシプロピルメトキシシラン(信越化学工業(株)製:KBM−403)を配合して、粘着剤層形成用溶液を得た。上記粘着剤層形成用溶液を、シリコーン系剥離剤で表面処理したポリエステルフィルムからなるセパレータに塗工し、155℃で3分間加熱処理して厚さ15μmの粘着剤層Bを得た。
偏光板1の第2の保護層面と位相差層1とを、偏光子の吸収軸と位相差層1の遅相軸とのなす角度が15°となるように厚み5μmのアクリル系接着剤を介して貼り合わせた。次いで、位相差層1が形成されていたPETフィルムを剥離し、当該剥離面に位相差層2を、偏光子の吸収軸と位相差層2の遅相軸とのなす角度が75°となるように厚み5μmのアクリル系接着剤を介して貼り合わせた。さらに、位相差層2が形成されていたPETフィルムを剥離し、偏光板/第1の位相差層/第2の位相差層の構成を有する円偏光板1を得た。円偏光板1の第2の位相差層と参考例6で得られた基材付導電層の導電層とを粘着剤層Aを介して貼り合わせ、光学積層体1を得た。得られた光学積層体1を上記(6)の評価に供した。結果を表2に示す。
位相差層1および2の代わりに位相差層3(積層位相差フィルム)を用い、偏光板1の第2の保護層面と位相差層フィルムAの面とを、偏光子の吸収軸と位相差フィルムAの遅相軸とのなす角度が15°となり、偏光子の吸収軸と位相差フィルムBの遅相軸とのなす角度が75°となるように厚み12μmのアクリル系接着剤を介して貼り合わせ、偏光板/第1の位相差層/第2の位相差層の構成を有する円偏光板2を得た。円偏光板2の第2の位相差層と参考例6で得られた基材付導電層の導電層とを粘着剤層Aを介して貼り合わせ、光学積層体2を得た。得られた光学積層体2を上記(6)の評価に供した。結果を表2に示す。
参考例7で得られた基材付導電層を用いたこと以外は実施例1と同様にして光学積層体3を得た。得られた光学積層体3を上記(6)の評価に供した。結果を表2に示す。
参考例7で得られた基材付導電層を用いたこと以外は実施例2と同様にして光学積層体4を得た。得られた光学積層体4を上記(6)の評価に供した。結果を表2に示す。
11 偏光子
12 第1の保護層
13 第2の保護層
20 第1の位相差層
30 第2の位相差層
41 導電層
42 基材
100 光学積層体
Claims (7)
- 偏光子と該偏光子の少なくとも一方の側に保護層とを含む偏光板と、第1の位相差層と、第2の位相差層と、導電層と、該導電層に密着積層された基材と、をこの順に有し、
該基材の透湿度が5mg/m2・24h〜10mg/m2・24hであり、寸法変化率が0.3%以下であり、および、線膨張係数が5(×10−6/℃)〜10(×10−6/℃)である、
光学積層体。 - 前記偏光子の吸収軸と前記第1の位相差層の遅相軸とのなす角度が10°〜20°であり、該吸収軸と前記第2の位相差層の遅相軸とのなす角度が65°〜85°である、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記第1の位相差層および前記第2の位相差層が、環状オレフィン系樹脂フィルムで構成されている、請求項1または2に記載の光学積層体。
- 前記第2の位相差層の寸法変化率が1%以下である、請求項3に記載の光学積層体。
- 前記第1の位相差層および前記第2の位相差層が、液晶化合物の配向固化層である、請求項1から3のいずれかに記載の光学積層体。
- 前記偏光板と前記第1の位相差層と前記第2の位相差層との積層体の寸法変化率が1%以下である、請求項5に記載の光学積層体。
- 請求項1から6のいずれかに記載の光学積層体を備える、画像表示装置。
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