JP2018056213A - フレキシブル太陽電池及びフレキシブル太陽電池の製造方法 - Google Patents

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麻由美 湯川
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Abstract

【課題】各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池を提供する。また、該フレキシブル太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に複数の太陽電池セルを有するフレキシブル太陽電池であって、前記複数の太陽電池セルは、それぞれ、下部電極と、上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に配置された光電変換層とを有する積層体からなり、前記複数の太陽電池セルは、前記上部電極が、隣接する太陽電池セルの前記下部電極と接続することで電気的に接続しており、前記基板及び/又は前記下部電極の上面の端部にアライメント用マークが付与されているフレキシブル太陽電池。
【選択図】図7

Description

本発明は、各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池に関する。また、本発明は、該フレキシブル太陽電池の製造方法に関する。
従来、太陽電池の光電変換素子として、対向する電極間にN型半導体層とP型半導体層とを配置した積層体が盛んに開発されており、上記N型、P型半導体として主にシリコン等の無機半導体が用いられている。しかしながら、このような無機太陽電池は、製造にコストがかかるうえ大型化が困難であり、利用範囲が限られてしまうという問題があった。
そこで、近年、中心金属に鉛、スズ等を用いたペロブスカイト構造を有する有機無機ペロブスカイト化合物を光電変換層に用いた、ペロブスカイト太陽電池が注目されている(例えば、特許文献1、非特許文献1)。ペロブスカイト太陽電池は、高い光電変換効率が期待できるうえに、印刷法によって製造できることから製造コストを大幅に削減することができる。
一方、近年、ポリイミド、ポリエステル系の耐熱高分子材料や金属箔を基材とするフレキシブルな太陽電池が注目されるようになってきている。フレキシブル太陽電池は、薄型化や軽量化による運搬、施工の容易さや、衝撃に強い等の利点がある。
フレキシブル太陽電池は、フレキシブル基材上に、光が照射されると電流を生じる機能を有する光電変換層等の複数の層を薄膜状に積層することにより製造される。更に、必要に応じて太陽電池素子の上下面を、太陽電池封止シートを積層して封止する。
フレキシブル太陽電池の製造においては、生産性の観点から、フレキシブル基材を連続的に搬送したり、ステップ送り(断続的に搬送)したりしながら複数の層を積層する、いわゆるロール−to−ロール方式が注目されている。しかしながら、フレキシブル太陽電池の製造においては、複数の層を積層する必要があるうえ各層についてパターニングを行うこともあり、製造工程が複雑となることから、充分な性能を有するフレキシブル太陽電池が得られないことがあった。
特開2014−72327号公報
M.M.Lee,et al,Science,2012,338,643
本発明は、各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池を提供することを目的とする。また、本発明は、該フレキシブル太陽電池の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、基板上に複数の太陽電池セルを有するフレキシブル太陽電池であって、前記複数の太陽電池セルは、それぞれ、下部電極と、上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に配置された光電変換層とを有する積層体からなり、前記複数の太陽電池セルは、前記上部電極が、隣接する太陽電池セルの前記下部電極と接続することで電気的に接続しており、前記基板及び/又は前記下部電極の上面の端部にアライメント用マークが付与されているフレキシブル太陽電池である。
以下、本発明を詳述する。
図1に、一般的なフレキシブル太陽電池の一例を模式的に示す断面図を示す。
図1に示すように、一般的に、従来の太陽電池1’は、基板2’上に複数の太陽電池セルを有しており、上記複数の太陽電池セルは、それぞれ、下部電極3’と、上部電極4’と、下部電極3’と上部電極4’との間に配置された光電変換層5’とを有する積層体からなる。上記複数の太陽電池セルは、上部電極4’が、隣接する太陽電池セルの下部電極3’と接続することで電気的に接続している。必要に応じて、上部電極4’上を覆って上記複数の太陽電池セルを封止するバリア層7’が形成される。
図1に示すようなフレキシブル太陽電池を製造する際には、一般的に、基板の上に下部電極を製膜した後、下部電極のパターニングを行う工程(1)、基板上に下部電極が設けられたサンプルの上に光電変換層を製膜した後、光電変換層のパターニングを行う工程(2)、及び、基板上に下部電極及び光電変換層が設けられたサンプルの上に上部電極を製膜した後、上部電極のパターニングを行う工程(3)が行われる。
従来、光電変換層のパターニングを行う際(上記工程(2))には、例えば、先に形成された下部電極のパターニングライン(加工ライン)の座標を画像認識により読み取り、読み取った座標から、光電変換層の加工ラインの座標を計算していた。そして、下部電極のそれぞれの加工ラインから一定距離ずらした位置に、光電変換層のそれぞれの加工ラインを形成していた。本発明者らは、このような方法では、多数の加工ラインの座標を読み取る必要があり、例えば部分的に加工ラインが歪んでいる場合等には、光電変換層の加工ラインの座標を正確に計算することができず、また、光電変換層のすべての加工ラインを正確に形成することができず、結果としてパターニングの精度が低下し、フレキシブル太陽電池の性能が低下するのではないかと考えた。
本発明者らは、下部電極のパターニングを行う際(上記工程(1))に基板及び/又は下部電極の上面の端部にアライメント用マークを付与することにより、光電変換層のパターニングを行う際(上記工程(2))にアライメント用マークに基づいて精度よくパターニングを行うことができ、また、上部電極のパターニングを行う際(上記工程(3))にアライメント用マークに基づいて精度よくパターニングを行うことができることを見出した。このような方法では、多数のパターニングライン(加工ライン)ではなく数箇所(例えば、2〜4箇所)のアライメント用マークの座標を読み取ればよいため、パターニングに要する時間を短縮することもできる。
即ち、本発明者らは、フレキシブル太陽電池の基板及び/又は下部電極の上面の端部にアライメント用マークを付与することにより、各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池とすることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明のフレキシブル太陽電池は、基板上に複数の太陽電池セルを有する。
上記複数の太陽電池セルは、それぞれ、下部電極と、上部電極と、上記下部電極と上記上部電極との間に配置された光電変換層とを有する積層体からなる。上記複数の太陽電池セルは、上記上部電極が、隣接する太陽電池セルの上記下部電極と接続することで電気的に接続している。
本発明のフレキシブル太陽電池においては、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部にアライメント用マークが付与されている。更に、上記光電変換層の上面の端部にもアライメント用マークが付与されていることが好ましい。
上記アライメント用マークを付与することにより、上記アライメント用マークに基づいて精度よくパターニングを行うことができるため、本発明のフレキシブル太陽電池を、各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池とすることができる。
なお、本発明のフレキシブル太陽電池が電子輸送層、及び/又は、ホール輸送層を有する場合には、上記光電変換層の上面の端部とは、上記下部電極の上面に接する、電子輸送層、光電変換層及びホール輸送層を合わせた層の上面の端部を意味する。
上記アライメント用マークの形状は特に限定されず、例えば、十字状、格子状、丸状、中抜き丸状等が挙げられる。なかでも、上記アライメント用マークの形成が容易であることから、十字状、格子状が好ましい。
上記アライメント用マークが付与される位置は、上記基板、上記下部電極、上記光電変換層等の上面の端部であれば特に限定されず、例えば、上記基板、上記下部電極、上記光電変換層等の上面の角部分、ロール−to−ロール方式における幅方向の脇部分等が挙げられる。角部分の場合、4箇所の角部分、又は、対角線上にある2箇所の角部分が好ましい。なかでも、4箇所の角部分と、ロール−to−ロール方式における幅方向の脇部分の中央付近とに上記アライメント用マークが付与されていることがより好ましい。
上記アライメント用マークが付与される位置は、パターニングの精度が向上することから、ロール−to−ロール方式における幅方向にできるだけ離れた複数の位置であることが好ましい。
上記アライメント用マークが付与される数は特に限定されないが、好ましい下限は2箇所、好ましい上限は8箇所である。上記アライメント用マークが付与される数が2箇所以上であれば、パターニングの精度が向上し、フレキシブル太陽電池の性能が向上する。上記アライメント用マークが付与される数が8箇所以下であれば、パターニングの精度が向上するとともに、パターニングに要する時間を短縮することができる。上記アライメント用マークが付与される数のより好ましい上限は4箇所である。
なお、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部に上記アライメント用マークが付与されているとは、上記基板の上面の端部及び上記下部電極の上面の端部のいずれか一方又は両方に、上記アライメント用マークが付与されていることを意味する。なかでも、上記基板が後述するような金属箔である場合には、少なくとも金属箔の上面の端部には上記アライメント用マークが付与されていることが好ましい。金属箔は表面が柔らかいため、上記アライメント用マークの形成が容易であり、また、金属箔の上面の端部に上記アライメント用マークを形成することにより、パターニングの精度が向上する。
上記アライメント用マークを付与する方法は特に限定されないが、生産性の観点から、上記下部電極又は上記光電変換層のパターニングを行う際にパターニングと同時に上記アライメント用マークを付与する方法が好ましい。
上記アライメント用マークを付与する方法として、例えば、メカニカルスクライブの刃により削ることで上記アライメント用マークを形成する方法、レーザーにより削ることで上記アライメント用マークを形成する方法、又は、穴を開けることでアライメント用マークを形成する方法が好ましい。上記メカニカルスクライブの刃、及び、上記レーザーは、上記下部電極又は上記光電変換層のパターニングを行う際に用いられるものであることが好ましい。上記穴をあける方法として、例えば、パンチング方式により加工する方法が挙げられる。
図7に、本発明のフレキシブル太陽電池の一例を模式的に示す断面図及び上面図を示す。なお、図7(a)は断面図、図7(b)は上面図である。
図7に示すように、フレキシブル太陽電池1は、基板2上に複数の太陽電池セルを有しており、上記複数の太陽電池セルは、それぞれ、下部電極3と、上部電極4と、下部電極3と上部電極4との間に配置された光電変換層5とを有する積層体からなる。上記複数の太陽電池セルは、上部電極4が、隣接する太陽電池セルの下部電極3と接続することで電気的に接続している。図示しないが、必要に応じて、上部電極4上を覆って上記複数の太陽電池セルを封止するバリア層が形成される。
フレキシブル太陽電池1においては、基板2、下部電極3、及び、光電変換層5の上面の端部にアライメント用マーク6が付与されている。より具体的には、基板2、下部電極3、及び、光電変換層5のそれぞれの上面の4箇所の角部分に、アライメント用マーク6が付与されている。なお、アライメント用マーク6の形状、アライメント用マーク6が付与される位置、及び、アライメント用マーク6が付与される数は、図7に限定されるものではない。
上記基板は特に限定されず、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス等の透明ガラス基板、セラミック基板、透明プラスチック基板、金属箔等が挙げられる。なかでも、透明プラスチック基板、金属箔が好ましい。
上記金属箔を用いることにより、耐熱性高分子を用いる場合と比べてコストを抑えられるとともに、高温処理を行うことができる。即ち、上記光電変換層形成時において耐光性(光劣化に対する耐性)を付与する目的で80℃以上の温度で熱アニール(加熱処理)を行っても、歪みの発生を最小限に抑えて、高い光電変換効率を有するフレキシブル太陽電池を得ることができる。
上記金属箔は、上記基板としての役割のみならず、上記下部電極としての役割を果たすことができる。
上記金属箔を構成する金属は特に限定されないが、耐久性に優れ、かつ、上記下部電極として用いることができる導電性を有するものが好ましく、例えば、アルミニウム、チタン、銅、金等の金属や、ステンレス鋼(SUS)等の合金を用いることができる。これらの材料は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記金属箔を上記基板として用いる場合には、上記金属箔自体が上記下部電極と上記基板とを兼ねる態様のほか、上記金属箔の光電変換層側の表面に絶縁層を介して上記下部電極を形成する態様が考えられる。
上記絶縁層は特に限定されないが、絶縁樹脂層又は金属酸化物層からなる絶縁層が好ましい。より具体的には、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂等の絶縁樹脂や、ジルコニア、シリカ、ハフニア等の金属酸化物を用いて上記絶縁層を形成することが好ましい。
上記絶縁層の厚みの好ましい下限は0.1μm、好ましい上限は10μmである。上記絶縁層の厚みが上記範囲内であれば、上記金属箔と上記下部電極とを確実に絶縁することができる。
上記透明プラスチック基板として、例えば、ポリイミド、ポリエステル系の耐熱高分子材料からなるフィルムが挙げられる。
上記基板の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は5μm、好ましい上限は500μmである。上記基板箔の厚さが5μm未満であれば、充分な機械的強度を持つ、取扱い性に優れたフレキシブル太陽電池とすることができる。上記基板の厚さが500μm以下であれば、フレキシブル性に優れたフレキシブル太陽電池とすることができる。上記基板の厚さのより好ましい下限は10μm、より好ましい上限は100μmである。
上記下部電極及び上記上部電極は、どちらが陰極になってもよく、陽極になってもよい。上記下部電極及び上記上部電極の材料として、例えば、FTO(フッ素ドープ酸化スズ)、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Al/Al混合物、Al/LiF混合物、金等の金属、CuI、ITO(インジウムスズ酸化物)、SnO、AZO(アルミニウム亜鉛酸化物)、IZO(インジウム亜鉛酸化物)、GZO(ガリウム亜鉛酸化物)等の導電性透明材料、導電性透明ポリマー等が挙げられる。これらの材料は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記光電変換層は、一般式R−M−X(但し、Rは有機分子、Mは金属原子、Xはハロゲン原子又はカルコゲン原子である。)で表される有機無機ペロブスカイト化合物を含むことが好ましい。上記光電変換層に上記有機無機ペロブスカイト化合物を用いることにより、フレキシブル太陽電池の光電変換効率を向上させることができる。
なお、本明細書中、「層」とは、明確な境界を有する層だけではなく、含有元素が徐々に変化する濃度勾配のある層をも意味する。なお、層の元素分析は、例えば、フレキシブル太陽電池の断面のFE−TEM/EDS線分析測定を行い、特定元素の元素分布を確認する等によって行うことができる。また、本明細書中、層とは、平坦な薄膜状の層だけではなく、他の層と一緒になって複雑に入り組んだ構造を形成しうる層をも意味する。
上記Rは有機分子であり、C(l、m、nはいずれも正の整数)で示されることが好ましい。
上記Rは、具体的には例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、エチルメチルアミン、メチルプロピルアミン、ブチルメチルアミン、メチルペンチルアミン、ヘキシルメチルアミン、エチルプロピルアミン、エチルブチルアミン、イミダゾール、アゾール、ピロール、アジリジン、アジリン、アゼチジン、アゼト、イミダゾリン、カルバゾール、メチルカルボキシアミン、エチルカルボキシアミン、プロピルカルボキシアミン、ブチルカルボキシアミン、ペンチルカルボキシアミン、ヘキシルカルボキシアミン、ホルムアミジニウム、グアニジン、アニリン、ピリジン及びこれらのイオン(例えば、メチルアンモニウム(CHNH)等)やフェネチルアンモニウム等が挙げられる。なかでも、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、プロピルカルボキシアミン、ブチルカルボキシアミン、ペンチルカルボキシアミン、ホルムアミジニウム、グアニジン及びこれらのイオンが好ましく、メチルアミン、エチルアミン、ペンチルカルボキシアミン、ホルムアミジニウム、グアニジン及びこれらのイオンがより好ましい。なかでも、高い光電変換効率が得られることから、メチルアミン、ホルムアミジニウム及びこれらのイオンが更に好ましい。
上記Mは金属原子であり、例えば、鉛、スズ、亜鉛、チタン、アンチモン、ビスマス、ニッケル、鉄、コバルト、銀、銅、ガリウム、ゲルマニウム、マグネシウム、カルシウム、インジウム、アルミニウム、マンガン、クロム、モリブデン、ユーロピウム等が挙げられる。なかでも、電子軌道の重なりの観点から、鉛又はスズが好ましい。これらの金属原子は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記Xはハロゲン原子又はカルコゲン原子であり、例えば、塩素、臭素、ヨウ素、硫黄、セレン等が挙げられる。これらのハロゲン原子又はカルコゲン原子は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。なかでも、構造中にハロゲンを含有することで、上記有機無機ペロブスカイト化合物が有機溶媒に可溶になり、安価な印刷法等への適用が可能になることから、ハロゲン原子が好ましい。更に、上記有機無機ペロブスカイト化合物のエネルギーバンドギャップが狭くなることから、ヨウ素がより好ましい。
上記有機無機ペロブスカイト化合物は、体心に金属原子M、各頂点に有機分子R、面心にハロゲン原子又はカルコゲン原子Xが配置された立方晶系の構造を有することが好ましい。
図8は、体心に金属原子M、各頂点に有機分子R、面心にハロゲン原子又はカルコゲン原子Xが配置された立方晶系の構造である、有機無機ペロブスカイト化合物の結晶構造の一例を示す模式図である。詳細は明らかではないが、上記構造を有することにより、結晶格子内の八面体の向きが容易に変わることができるため、上記有機無機ペロブスカイト化合物中の電子の移動度が高くなり、フレキシブル太陽電池の光電変換効率が向上すると推定される。
上記有機無機ペロブスカイト化合物は、結晶性半導体であることが好ましい。結晶性半導体とは、X線散乱強度分布を測定し、散乱ピークが検出できる半導体を意味している。
上記有機無機ペロブスカイト化合物が結晶性半導体であれば、上記有機無機ペロブスカイト化合物中の電子の移動度が高くなり、フレキシブル太陽電池の光電変換効率が向上する。また、上記有機無機ペロブスカイト化合物が結晶性半導体であれば、フレキシブル太陽電池に光を照射し続けることによる光電変換効率の低下(光劣化)、特に短絡電流の低下に起因する光劣化が抑制されやすくなる。
また、結晶化の指標として結晶化度を評価することもできる。結晶化度は、X線散乱強度分布測定により検出された結晶質由来の散乱ピークと非晶質部由来のハローとをフィッティングにより分離し、それぞれの強度積分を求めて、全体のうちの結晶部分の比を算出することにより求めることができる。
上記有機無機ペロブスカイト化合物の結晶化度の好ましい下限は30%である。上記結晶化度が30%以上であれば、上記有機無機ペロブスカイト化合物中の電子の移動度が高くなり、フレキシブル太陽電池の光電変換効率が向上する。また、上記結晶化度が30%以上であれば、フレキシブル太陽電池に光を照射し続けることによる光電変換効率の低下(光劣化)、特に短絡電流の低下に起因する光劣化が抑制されやすくなる。上記結晶化度のより好ましい下限は50%、更に好ましい下限は70%である。
また、上記有機無機ペロブスカイト化合物の結晶化度を上げる方法として、例えば、熱アニール(加熱処理)、レーザー等の強度の強い光の照射、プラズマ照射等が挙げられる。
また、他の結晶化の指標として結晶子径を評価することもできる。結晶子径は、X線散乱強度分布測定により検出された結晶質由来の散乱ピークの半値幅からhalder−wagner法で算出することができる。
上記有機無機ペロブスカイト化合物の結晶子径が5nm以上であれば、フレキシブル太陽電池に光を照射し続けることによる光電変換効率の低下(光劣化)、特に短絡電流の低下に起因する光劣化が抑制される。また、上記有機無機ペロブスカイト化合物中の電子の移動度が高くなり、フレキシブル太陽電池の光電変換効率が向上する。上記結晶子径のより好ましい下限は10nm、更に好ましい下限は20nmである。
上記光電変換層は、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、上記有機無機ペロブスカイト化合物に加えて、更に、有機半導体又は無機半導体を含んでいてもよい。
上記有機半導体として、例えば、ポリ(3−アルキルチオフェン)等のチオフェン骨格を有する化合物等が挙げられる。また、例えば、ポリパラフェニレンビニレン骨格、ポリビニルカルバゾール骨格、ポリアニリン骨格、ポリアセチレン骨格等を有する導電性高分子等も挙げられる。更に、例えば、フタロシアニン骨格、ナフタロシアニン骨格、ペンタセン骨格、ベンゾポルフィリン骨格等のポルフィリン骨格、スピロビフルオレン骨格等を有する化合物や、表面修飾されていてもよいカーボンナノチューブ、グラフェン、フラーレン等のカーボン含有材料も挙げられる。
上記無機半導体として、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、硫化スズ、硫化インジウム、硫化亜鉛、CuSCN、CuO、CuI、MoO、V、WO、MoS、MoSe、CuS等が挙げられる。
上記光電変換層は、上記有機無機ペロブスカイト化合物と上記有機半導体又は上記無機半導体とを含む場合、薄膜状の有機半導体又は無機半導体部位と薄膜状の有機無機ペロブスカイト化合物部位とを積層した積層体であってもよいし、有機半導体又は無機半導体部位と有機無機ペロブスカイト化合物部位とを複合化した複合膜であってもよい。製法が簡便である点では積層体が好ましく、上記有機半導体又は上記無機半導体中の電荷分離効率を向上させることができる点では複合膜が好ましい。
上記薄膜状の有機無機ペロブスカイト化合物部位の厚みは、好ましい下限が5nm、好ましい上限が5000nmである。上記厚みが5nm以上であれば、充分に光を吸収することができるようになり、光電変換効率が高くなる。上記厚みが5000nm以下であれば、電荷分離できない領域が発生することを抑制できるため、光電変換効率の向上につながる。上記厚みのより好ましい下限は10nm、より好ましい上限は1000nmであり、更に好ましい下限は20nm、更に好ましい上限は500nmである。
上記光電変換層が、有機半導体又は無機半導体部位と有機無機ペロブスカイト化合物部位とを複合化した複合膜である場合、上記複合膜の厚みの好ましい下限は30nm、好ましい上限は3000nmである。上記厚みが30nm以上であれば、充分に光を吸収することができるようになり、光電変換効率が高くなる。上記厚みが3000nm以下であれば、電荷が電極に到達しやすくなるため、光電変換効率が高くなる。上記厚みのより好ましい下限は40nm、より好ましい上限は2000nmであり、更に好ましい下限は50nm、更に好ましい上限は1000nmである。
上記光電変換層は、光電変換層形成後に熱アニール(加熱処理)が施されていることが好ましい。熱アニール(加熱処理)を施すことにより、光電変換層中の有機無機ペロブスカイト化合物の結晶化度を充分に上げることができ、光を照射し続けることによる光電変換効率の低下(光劣化)をより抑制することができる。上記基板として従来の耐熱高分子材料からなるフィルムを用いたフレキシブル太陽電池にこのような熱アニール(加熱処理)を行うと、上記基板と光電変換層等との線膨張係数の相違により、アニール時に歪みが生じ、その結果、高い光電変換効率を達成することが難しくなることがある。これに対して、上記基板として上記金属箔を用いることにより、熱アニール(加熱処理)を行っても、歪みの発生を最小限に抑えて、高い光電変換効率を有するフレキシブル太陽電池を得ることができる。
上記熱アニール(加熱処理)を行う場合、上記光電変換層を加熱する温度は特に限定されないが、100℃以上、200℃未満であることが好ましい。上記加熱温度が100℃以上であれば、上記有機無機ペロブスカイト化合物の結晶化度を充分に上げることができる。上記加熱温度が200℃未満であれば、上記有機無機ペロブスカイト化合物を熱劣化させることなく加熱処理を行うことができる。より好ましい加熱温度は、120℃以上、170℃以下である。また、加熱時間も特に限定されないが、3分以上、2時間以内であることが好ましい。上記加熱時間が3分以上であれば、上記有機無機ペロブスカイト化合物の結晶化度を充分に上げることができる。上記加熱時間が2時間以内であれば、上記有機無機ペロブスカイト化合物を熱劣化させることなく加熱処理を行うことができる。
これらの加熱操作は真空又は不活性ガス下で行われることが好ましく、露点温度は10℃以下が好ましく、7.5℃以下がより好ましく、5℃以下が更に好ましい。
本発明のフレキシブル太陽電池は、上記下部電極及び上記上部電極のうちの陰極となる電極と、上記光電変換層との間に、電子輸送層を有してもよい。
上記電子輸送層の材料は特に限定されず、例えば、N型導電性高分子、N型低分子有機半導体、N型金属酸化物、N型金属硫化物、ハロゲン化アルカリ金属、アルカリ金属、界面活性剤等が挙げられ、具体的には例えば、シアノ基含有ポリフェニレンビニレン、ホウ素含有ポリマー、バソキュプロイン、バソフェナントレン、ヒドロキシキノリナトアルミニウム、オキサジアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ナフタレンテトラカルボン酸化合物、ペリレン誘導体、ホスフィンオキサイド化合物、ホスフィンスルフィド化合物、フルオロ基含有フタロシアニン、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、硫化スズ、硫化インジウム、硫化亜鉛等が挙げられる。
上記電子輸送層は、薄膜状の電子輸送層(バッファ層)のみからなっていてもよいが、多孔質状の電子輸送層を含むことが好ましい。特に、上記光電変換層が、有機半導体又は無機半導体部位と有機無機ペロブスカイト化合物を複合化した複合膜である場合、より複雑な複合膜(より複雑に入り組んだ構造)が得られ、光電変換効率が高くなることから、多孔質状の電子輸送層上に複合膜が製膜されていることが好ましい。
上記電子輸送層の厚みは、好ましい下限が1nm、好ましい上限が2000nmである。上記厚みが1nm以上であれば、充分にホールをブロックできるようになる。上記厚みが2000nm以下であれば、電子輸送の際の抵抗になり難く、光電変換効率が高くなる。上記電子輸送層の厚みのより好ましい下限は3nm、より好ましい上限は1000nmであり、更に好ましい下限は5nm、更に好ましい上限は500nmである。
本発明のフレキシブル太陽電池は、上記光電変換層と、上記下部電極及び上記上部電極のうちの陽極となる電極との間に、ホール輸送層を有してもよい。
上記ホール輸送層の材料は特に限定されず、例えば、P型導電性高分子、P型低分子有機半導体、P型金属酸化物、P型金属硫化物、界面活性剤等が挙げられ、具体的には例えば、ポリ(3−アルキルチオフェン)等のチオフェン骨格を有する化合物等が挙げられる。また、例えば、トリフェニルアミン骨格、ポリパラフェニレンビニレン骨格、ポリビニルカルバゾール骨格、ポリアニリン骨格、ポリアセチレン骨格等を有する導電性高分子等も挙げられる。更に、例えば、フタロシアニン骨格、ナフタロシアニン骨格、ペンタセン骨格、ベンゾポルフィリン骨格等のポルフィリン骨格、スピロビフルオレン骨格等を有する化合物、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化ニッケル、酸化銅、酸化スズ、硫化モリブデン、硫化タングステン、硫化銅、硫化スズ等、フルオロ基含有ホスホン酸、カルボニル基含有ホスホン酸、CuSCN、CuI等の銅化合物、カーボンナノチューブ、グラフェン等のカーボン含有材料等が挙げられる。
上記ホール輸送層は、その一部が上記光電変換層に浸漬していてもよいし、上記光電変換層上に薄膜状に配置されてもよい。上記ホール輸送層が薄膜状に存在する時の厚みは、好ましい下限は1nm、好ましい上限は2000nmである。上記厚みが1nm以上であれば、充分に電子をブロックできるようになる。上記厚みが2000nm以下であれば、ホール輸送の際の抵抗になり難く、光電変換効率が高くなる。上記厚みのより好ましい下限は3nm、より好ましい上限は1000nmであり、更に好ましい下限は5nm、更に好ましい上限は500nmである。
本発明のフレキシブル太陽電池は、更に、上記上部電極上を覆って上記複数の太陽電池セルを封止するバリア層を有していてもよい。
上記バリア層の材料としてはバリア性を有していれば特に限定されないが、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又は無機材料等が挙げられる。
上記熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ブチルゴム、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリブタジエン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリイソブチレン等が挙げられる。
上記バリア層の材料が熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂である場合、バリア層(樹脂層)の厚みは、好ましい下限が100nm、好ましい上限が100000nmである。上記厚みのより好ましい下限は500nm、より好ましい上限は50000nmであり、更に好ましい下限は1000nm、更に好ましい上限は20000nmである。
上記無機材料としては、Si、Al、Zn、Sn、In、Ti、Mg、Zr、Ni、Ta、W、Cu若しくはこれらを2種以上含む合金の酸化物、窒化物又は酸窒化物が挙げられる。なかでも、上記バリア層に水蒸気バリア性及び柔軟性を付与するために、Zn、Snの両金属元素を含む金属元素の酸化物、窒化物又は酸窒化物が好ましい。
上記バリア層の材料が無機材料である場合、バリア層(無機層)の厚みは、好ましい下限が30nm、好ましい上限が3000nmである。上記厚みが30nm以上であれば、上記無機層が充分な水蒸気バリア性を有することができ、フレキシブル太陽電池の耐久性が向上する。上記厚みが3000nm以下であれば、上記無機層の厚みが増した場合であっても、発生する応力が小さいため、上記無機層と上記積層体との剥離を抑制することができる。上記厚みのより好ましい下限は50nm、より好ましい上限は1000nmであり、更に好ましい下限は100nm、更に好ましい上限は500nmである。
なお、上記無機層の厚みは、光学干渉式膜厚測定装置(例えば、大塚電子社製のFE−3000等)を用いて測定することができる。
上記バリア層の材料のうち、上記熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂で上記複数の太陽電池セルを封止する方法は特に限定されず、例えば、シート状のバリア層の材料を用いて上記複数の太陽電池セルをシールする方法、バリア層の材料を有機溶媒に溶解させた溶液を上記複数の太陽電池セルに塗布する方法、バリア層となる液状モノマーを上記複数の太陽電池セルに塗布した後、熱又はUV等で液状モノマーを架橋又は重合させる方法、バリア層の材料に熱をかけて融解させた後に冷却させる方法等が挙げられる。
上記バリア層の材料のうち、上記無機材料で上記複数の太陽電池セルを覆う方法として、真空蒸着法、スパッタリング法、気相反応法(CVD)、イオンプレーティング法が好ましい。なかでも、緻密な層を形成するためにはスパッタリング法が好ましく、スパッタリング法のなかでもDCマグネトロンスパッタリング法がより好ましい。
上記スパッタリング法においては、金属ターゲット、及び、酸素ガス又は窒素ガスを原料とし、上記複数の太陽電池セル上に原料を堆積して製膜することにより、無機材料からなる無機層を形成することができる。
上記バリア層の材料は、上記熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂と、上記無機材料との組み合わせでもよい。
本発明のフレキシブル太陽電池においては、更に、上記バリア層上を、例えば樹脂フィルム、無機材料を被覆した樹脂フィルム、金属箔等のその他の材料が覆っていてもよい。即ち、本発明のフレキシブル太陽電池は、上記複数の太陽電池セルと上記その他の材料との間を、上記バリア層によって封止、充填又は接着している構成であってもよい。これにより、仮に上記バリア層にピンホールがあった場合にも充分に水蒸気をブロックすることができ、フレキシブル太陽電池の耐久性をより向上させることができる。
本発明のフレキシブル太陽電池を製造する方法であって、基板上に下部電極を製膜する工程(1A)、上記下部電極のパターニングを行うとともに、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部にアライメント用マークを付与し、積層体(1)を得る工程(1B)、上記積層体(1)上に光電変換層を製膜する工程(2A)、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部のアライメント用マークに基づいて上記光電変換層のパターニングを行い、積層体(2)を得る工程(2B)、上記積層体(2)上に上部電極を製膜する工程(3A)、及び、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部のアライメント用マークに基づいて上記上部電極のパターニングを行い、積層体(3)を得る工程(3B)を有する方法もまた、本発明の1つである。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、上記下部電極のパターニングを行う際(上記工程(1B))に上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部にアライメント用マークを付与することにより、上記光電変換層のパターニングを行う際(上記工程(2B))にアライメント用マークに基づいて精度よくパターニングを行うことができ、また、上記上部電極のパターニングを行う際(上記工程(3B))にアライメント用マークに基づいて精度よくパターニングを行うことができる。
これにより、各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池を得ることができる。このような方法では、多数のパターニングライン(加工ライン)ではなく数箇所(例えば、2〜4箇所)のアライメント用マークの座標を読み取ればよいため、パターニングに要する時間を短縮することもできる。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法は、生産性の観点から、ロール−to−ロール方式であることが好ましい。上記ロール−to−ロール方式は、サンプルを連続的に搬送する方式であってもよいし、サンプルを断続的に搬送するステップ送り方式であってもよい。
なお、上記ロール−to−ロール方式以外にも、例えば、枚葉方式等を用いることができる。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、まず、基板上に下部電極を製膜する工程(1A)を行う。
図2に、本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(1A)が完了した後の状態の一例を示す断面図を示す。図2に示すように、工程(1A)が完了した後の状態では、基板2上に下部電極3が製膜されている。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、次いで、上記下部電極のパターニングを行うとともに、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部にアライメント用マークを付与し、積層体(1)を得る工程(1B)を行う。
上記パターニングを行う方法は特に限定されないが、例えば、メカニカルスクライブ法、又は、レーザースクライブ法が好ましい。なかでも、比較的安価であることから、メカニカルスクライブ法がより好ましい。
上記アライメント用マークを付与する方法としては、例えば、メカニカルスクライブの刃により削ることで上記アライメント用マークを形成する方法、レーザーにより削ることで上記アライメント用マークを形成する方法、又は、穴を開けることでアライメント用マークを形成する方法が好ましい。
図3に、本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(1B)が完了した後の状態の一例を示す断面図及び上面図を示す。なお、図3(a)は断面図、図3(b)は上面図である。
図3に示すように、工程(1B)が完了した後の状態では、下部電極3がパターニングされており、かつ、基板2及び下部電極3の上面の端部にアライメント用マーク6が付与されている。より具体的には、基板2及び下部電極3のそれぞれの上面の4箇所の角部分に、アライメント用マーク6が付与されている。なお、アライメント用マーク6の形状、アライメント用マーク6が付与される位置、及び、アライメント用マーク6が付与される数は、図3に限定されるものではない。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、次いで、上記積層体(1)上に光電変換層を製膜する工程(2A)を行う。
図4に、本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(2A)が完了した後の状態の一例を示す断面図を示す。図4に示すように、工程(2A)が完了した後の状態では、基板2上に下部電極3が設けられた積層体(1)上に、更に、光電変換層5が製膜されている。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、次いで、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部のアライメント用マークに基づいて上記光電変換層のパターニングを行い、積層体(2)を得る工程(2B)を行う。
上記アライメント用マークに基づいてパターニングを行う方法としては、例えば、CCDカメラ等の装置を用いて、上記アライメント用マークの座標を画像認識により読み取り、読み取った座標から加工ラインの座標を計算し、パターニングを行う方法が挙げられる。
上記パターニングを行う方法としては、上記工程(1B)と同様の方法が挙げられる。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、上記工程(2B)において、上記光電変換層のパターニングを行うとともに、上記光電変換層の上面の端部にアライメント用マークを付与することが好ましい。
これにより、工程(3B)において、上記光電変換層の上面の端部のアライメント用マークにも基づいて上記上部電極のパターニングを行うことができる。
上記アライメント用マークを付与する方法としては、上記工程(1B)と同様の方法が挙げられる。
図5に、本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(2B)が完了した後の状態の一例を示す断面図及び上面図を示す。なお、図5(a)は断面図、図5(b)は上面図である。
図5に示すように、工程(2B)が完了した後の状態では、光電変換層5がパターニングされており、かつ、光電変換層3の上面の端部にアライメント用マーク6が付与されている。より具体的には、光電変換層5の上面の4箇所の角部分に、アライメント用マーク6が付与されている。なお、アライメント用マーク6の形状、アライメント用マーク6が付与される位置、及び、アライメント用マーク6が付与される数は、図5に限定されるものではない。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、次いで、上記積層体(2)上に上部電極を製膜する工程(3A)を行う。
図6に、本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(3A)が完了した後の状態の一例を示す断面図を示す。図6に示すように、工程(3A)が完了した後の状態では、基板2上に下部電極3及び光電変換層5が設けられた積層体(2)上に、更に、上部電極4が製膜されている。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、次いで、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部の上面の端部のアライメント用マークに基づいて上記上部電極のパターニングを行い、積層体(3)を得る工程(3B)を行う。これにより、図7に示すようなフレキシブル太陽電池が得られる。
上記アライメント用マークに基づいてパターニングを行う方法としては、上記工程(2B)と同様の方法が挙げられる。
上記パターニングを行う方法としては、上記工程(1B)及び(2B)と同様の方法が挙げられる。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、上述したように、上記工程(2B)において、上記光電変換層のパターニングを行うとともに、上記光電変換層の上面の端部にアライメント用マークを付与し、かつ、上記工程(3B)において、上記基板及び/又は上記下部電極の上面の端部、並びに、上記光電変換層の上面の端部のアライメント用マークに基づいて上記上部電極のパターニングを行うことが好ましい。
本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法においては、更に、上記上部電極上を覆って上記複数の太陽電池セルを封止するバリア層を形成する工程を行ってもよい。
本発明によれば、各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池を提供することができる。また、本発明によれば、該フレキシブル太陽電池の製造方法を提供することができる。
一般的なフレキシブル太陽電池の一例を模式的に示す断面図である。 本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(1A)が完了した後の状態の一例を示す断面図である。 本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(1B)が完了した後の状態の一例を示す断面図及び上面図である。 本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(2A)が完了した後の状態の一例を示す断面図である。 本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(2B)が完了した後の状態の一例を示す断面図及び上面図である。 本発明のフレキシブル太陽電池の製造方法において、工程(3A)が完了した後の状態の一例を示す断面図である。 本発明のフレキシブル太陽電池の一例を模式的に示す断面図及び上面図である。 有機無機ペロブスカイト化合物の結晶構造の一例を示す模式図である。
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
(実施例1)
アルミ箔(UACJ社製、汎用アルミ材A1N30グレード)の上に、絶縁層として厚み500nmのSiN膜をスパッタリング法によって形成した。SiN膜上に厚み100nmのAl膜を形成し、更に、Al膜上に厚み100nmのTi膜をスパッタリング法によって形成し、陰極(Ti/Al膜)とした。
続いて、メカニカルスクライブ機(三星ダイヤモンド工業社製、KMPD100)を用いてメカニカルパターニングによりTi/Al膜のパターニングを行うとともに、アルミ箔の上面の端部(4箇所の角部分)及びTi/Al膜の上面の端部(4箇所の角部分)にアライメント用マーク(十字状)を付与した。パターニング及びアライメント用マークを形成するときの削り幅は40μmであった。これにより、積層体(1)を得た(工程(1B))。
Ti/Al膜の上に、有機バインダとしてのポリイソブチルメタクリレートと酸化チタン(平均粒子径10nmと30nmとの混合物)とを含有する酸化チタンペーストをスピンコート法により塗布した後、200℃で30分間焼成し、厚み500nmの多孔質状の電子輸送層を形成した。
次いで、ハロゲン化金属化合物としてヨウ化鉛をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解させて1Mの溶液を調製し、多孔質状の電子輸送層上にスピンコート法によって製膜した。更に、アミン化合物としてヨウ化メチルアンモニウムを2−プロパノールに溶解させて1Mの溶液を調製した。この溶液内に上記のヨウ化鉛を製膜したサンプルを浸漬させることによって有機無機ペロブスカイト化合物であるCHNHPbIを含む層を形成した。その後、得られたサンプルに対して120℃にて30分間アニール処理を行った。
次いで、クロロベンゼン25μLにSpiro−OMeTAD(スピロビフルオレン骨格を有する)を68mM、t−ブチルピリジンを55mM、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド・銀塩を9mM溶解させた溶液を調製した。この溶液を光電変換層上にスピンコート法によって塗布し、厚み150nmのホール輸送層を形成した。
その後、工程(1B)で形成したアライメント用マークの位置を画像認識カメラで読み取りアライメントを行った後、メカニカルパターニングにより電子輸送層、光電変換層及びホール輸送層を合わせた層のパターニングを行うとともに、電子輸送層、光電変換層及びホール輸送層を合わせた層の上面の端部(4箇所の角部分)にアライメント用マーク(十字状)を付与した。これにより、積層体(2)を得た(工程(2B))。
得られたホール輸送層上に、陽極としてスパッタリング法により厚み100nmのITO膜を形成した。このとき、工程(1B)及び工程(2B)で形成したアライメント用マークの位置を画像認識カメラで読み取りアライメントを行った後、メカニカルパターニング によりITO膜のパターニングを行った。これにより、積層体(3)を得た(工程(3B))。
得られた陽極上に、スパッタリング法により100nmのZnSnOからなるバリア層を形成し、フレキシブル太陽電池を得た。
(実施例2)
工程(1B)及び工程(2B)において、各層の上面の端部の4箇所の角部分に加えて、上面の端部の片側に2箇所ずつアライメント用マーク(十字状)の追加形成を行ったこと以外は実施例1と同様にして、フレキシブル太陽電池を得た。
(実施例3)
アルミ箔(UACJ社製、汎用アルミ材A1N30グレード)に代えてPEN基板(帝人デュポンフィルム社製、Q65HA)の上に、厚み100nmのAl膜を形成し、更に、Al膜上に厚み100nmのTi膜をスパッタリング法によって形成したこと以外は実施例1と同様にして、フレキシブル太陽電池を得た。
(比較例1)
工程(1B)及び工程(2B)において、各層の上面の端部の4箇所の角部分にアライメント用マーク(十字状)を付与しなかったこと、工程(2B)及び工程(3B)において、パターニング装置の機械搬送精度にて位置決めを行い、メカニカルパターニングにより各層のパターニングを行ったこと以外は実施例1と同様にして、フレキシブル太陽電池を得た。
(比較例2)
工程(1B)及び工程(2B)において、各層の上面の端部の4箇所の角部分にアライメント用マーク(十字状)を付与しなかったこと、工程(2B)において、工程(1B)でメカニカルパターニングにより加工を行った削り形状(加工ライン)を画像認識カメラで読み取りアライメントを行った後、メカニカルパターニングにより電子輸送層、光電変換層及びホール輸送層を合わせた層のパターニングを行ったこと、工程(3B)において、工程(2B)でメカニカルパターニングにより加工を行った削り形状(加工ライン)を画像認識カメラで読み取りアライメントを行った後、メカニカルパターニングによりITO膜のパターニングを行ったこと以外は実施例1と同様にして、フレキシブル太陽電池を得た。
<評価>
実施例、比較例で得られたフレキシブル太陽電池について、下記の評価を行った。結果を表1に示した。
(1)性能評価
太陽電池の電極間に電源(KEITHLEY社製、236モデル)を接続し、強度100mW/cmのソーラーシミュレーション(山下電装社製)を用い、露光面積0.01cmで光電変換効率を測定した。
実施例1で得られた太陽電池の光電変換効率を1.0として、実施例、比較例で得られた太陽電池の光電変換効率を規格化した。規格化した光電変換効率が0.9以上を○、0.9未満〜0.7以上を△、0.7未満を×とした。
(2)生産性
実施例、比較例の製造方法を用いてフレキシブル太陽電池を連続生産する場合の生産性を判定した。なお、全ての製造方法において各層のパターニング(削り加工)を行うときの削り幅は同じであるものとして、同じ面積のフレキシブル太陽電池を製造するときに必要となる時間を比較した。
生産性が高い場合を○、○に準ずる生産性である場合を△、位置合わせ精度の高いフレキシブル太陽電池を製造する場合には生産性に難を要し採用が難しい場合を×とした。
Figure 2018056213
本発明によれば、各層が精度よくパターニングされており、優れた性能を有するフレキシブル太陽電池を提供することができる。また、本発明によれば、該フレキシブル太陽電池の製造方法を提供することができる。
1 本発明のフレキシブル太陽電池
1’ 一般的なフレキシブル太陽電池
2,2’ 基板
3,3’ 下部電極
4,4’ 上部電極
5,5’ 光電変換層
6 アライメント用マーク
7’ バリア層

Claims (7)

  1. 基板上に複数の太陽電池セルを有するフレキシブル太陽電池であって、
    前記複数の太陽電池セルは、それぞれ、下部電極と、上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に配置された光電変換層とを有する積層体からなり、
    前記複数の太陽電池セルは、前記上部電極が、隣接する太陽電池セルの前記下部電極と接続することで電気的に接続しており、
    前記基板及び/又は前記下部電極の上面の端部にアライメント用マークが付与されている
    ことを特徴とするフレキシブル太陽電池。
  2. 基板は、金属箔であり、前記金属箔の上面の端部にアライメント用マークが付与されていることを特徴とする請求項1記載のフレキシブル太陽電池。
  3. 更に、光電変換層の上面の端部にもアライメント用マークが付与されていることを特徴とする請求項1又は2記載のフレキシブル太陽電池。
  4. 請求項1記載のフレキシブル太陽電池を製造する方法であって、
    基板上に下部電極を製膜する工程(1A)、
    前記下部電極のパターニングを行うとともに、前記基板及び/又は前記下部電極の上面の端部にアライメント用マークを付与し、積層体(1)を得る工程(1B)、
    前記積層体(1)上に光電変換層を製膜する工程(2A)、
    前記基板及び/又は前記下部電極の上面の端部のアライメント用マークに基づいて前記光電変換層のパターニングを行い、積層体(2)を得る工程(2B)、
    前記積層体(2)上に上部電極を製膜する工程(3A)、及び、
    前記基板及び/又は前記下部電極の上面の端部のアライメント用マークに基づいて前記上部電極のパターニングを行い、積層体(3)を得る工程(3B)を有する
    ことを特徴とするフレキシブル太陽電池の製造方法。
  5. 工程(2B)において、光電変換層のパターニングを行うとともに、前記光電変換層の上面の端部にアライメント用マークを付与し、かつ、工程(3B)において、基板及び/又は下部電極の上面の端部、並びに、前記光電変換層の上面の端部のアライメント用マークに基づいて前記上部電極のパターニングを行うことを特徴とする請求項4記載のフレキシブル太陽電池の製造方法。
  6. 工程(1B)及び/又は工程(2B)において、アライメント用マークを付与する方法は、メカニカルスクライブの刃により削ることでアライメント用マークを形成する方法、レーザーにより削ることでアライメント用マークを形成する方法、又は、穴を開けることでアライメント用マークを形成する方法であることを特徴とする請求項4又は5記載のフレキシブル太陽電池の製造方法。
  7. 工程(1B)、工程(2B)及び/又は工程(3B)において、パターニングを行う方法は、メカニカルスクライブ法、又は、レーザースクライブ法であることを特徴とする請求項4、5又は6記載のフレキシブル太陽電池の製造方法。
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