JP2018037281A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
<実験の設定>
・第1空間に供給されるガス
O2ガス:300sccm
Arガス:10sccm
・高周波電源42の高周波の電力:650W
・高周波電源42の高周波の周波数:13.56MHz
・誘電体窓36と載置台16との間のギャップ長:135mm
・プラズマトラップ14の部材の枚数:1枚
・誘電体窓36とプラズマトラップ14との間のギャップ長:70mm
Claims (5)
- チャンバ本体と、
前記チャンバ本体によって提供されるチャンバ内に設けられており、該チャンバを第1空間と第2空間に分けるプラズマトラップと、
前記第2空間に設けられた載置台と、
前記第1空間に供給されるガスを励起させるプラズマ源と、
前記第1空間において生成されるプラズマと容量的に結合される電極を有し、該プラズマのポテンシャルを調整するよう構成されたポテンシャル調整部と、
を備えるプラズマ処理装置。 - 該プラズマ処理装置は、誘導結合型のプラズマ処理装置であり、
前記プラズマ源は、高周波電源に接続されるアンテナを有し、
該プラズマ処理装置は、前記アンテナと前記第1空間との間に設けられた誘電体窓を更に備え、
前記電極は、前記アンテナと前記誘電体窓との間に設けられたファラデーシールドであり、
前記ポテンシャル調整部は、可変リアクタンス素子を含み前記電極とグランドとの間に接続されたインピーダンス調整回路を更に有する、
請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記ポテンシャル調整部は、前記アンテナに接続された一端、及び、前記インピーダンス調整回路と前記電極との間に接続された他端とを含むコンデンサを更に有する、請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 該プラズマ処理装置は、前記第1空間を上方から画成する誘電体窓を更に備え、
前記プラズマ源は、マイクロ波を前記誘電体窓を介して前記第1空間に導入するように構成されたアンテナを有し、
前記ポテンシャル調整部は、
可変リアクタンス素子を含み、前記電極とグランドとの間に接続されたインピーダンス調整回路と、
前記電極に接続された高周波電源と、
を更に有する、
請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記ポテンシャル調整部は、
前記電極における電圧の波高値を検出する検出器と、
前記載置台上に載置された被加工物に入射するイオンのエネルギーと前記電極における電圧の波高値との予め定められた関係を参照することにより、入力されるイオンのエネルギーの設定値に対応した前記電極における電圧の波高値を取得し、取得した該波高値と前記検出器によって検出された前記電極における電圧の波高値との差を減少させるように、前記インピーダンス調整回路の可変リアクタンス素子を制御する制御部と、
を更に有する、
請求項2〜4の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
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