JP2018032662A - ダイヤモンドコンタクト構造とこれを用いた電子素子 - Google Patents
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Description
自然正孔は、必ずしもこれに限定されるものではないが、ダイヤモンドの表面から深さが約5Å(典型的には3Å)に亘る領域(2次元領域)に存在する。自然正孔の濃度はダイヤモンドの表面性状にもよるため厳密に限定されないものの、例えば、1010原子/cm2以上、好ましくは1012原子/cm2以上、典型的には1013原子/cm2以上、例えば1014原子/cm2以上であり得る。自然正孔の濃度の上限は特に限定されないが、例えば、1015原子/cm2程度とすることができる。
一実施形態に係るダイヤモンドコンタクト構造1は、ダイヤモンド基板10と、このダイヤモンド基板10上に備えられた第1酸化物層12と、を備えている。図1(a)の例では、ダイヤモンド基板10として、リン(P)が添加されるとともに、水素終端されたn型ダイヤモンドが使用されている。ダイヤモンド基板10は、表面の互いに離間する位置に、第1p型領域P1と第2p型領域P2とを備えている。これらのp型領域P1,P2は、ダイヤモンド表面のダングリングボンドを水素で終端させたことで、表面近傍に自然正孔h(正孔導電層)が誘起されることによって形成されている。また、第1酸化物層12は、第1p型領域P1と第2p型領域P2との間のダイヤモンド基板10上に備えられている。第1酸化物層12は、例えば、ダイヤモンド基板10に対して、直接かつ一体的に接合されている。
なお、ここに開示される技術においては、ダイヤモンド基板10として、上記第1実施形態のn型ダイヤモンドに代えて、i型ダイヤモンド(即ち真性ダイヤモンド)を用いることもできる。この場合、例えば図1(b)に示すように、第1酸化物層12に接するダイヤモンド基板10の表面はi型のままであり、表面における電子eや正孔hの数はほぼ同一と見做せる。つまり、電子eおよび自然正孔h等のキャリアは存在しないといえる。このことにより、第1酸化物層12に接するダイヤモンド基板10の表面には、非p型領域Aとしてのi型領域が形成される。このi型領域は、互いに離間する第1p型領域P1と第2p型領域P2との間に存在する。したがってダイヤモンド基板10の表面にpip構造を備えるダイヤモンドコンタクト構造1が実現される。
また、上記実施形態1では、ダイヤモンド基板10として、水素終端されたダイヤモンドを用いて、第1p型領域P1と第2p型領域P2とを表面に備えるダイヤモンド基板10を用意した。しかしながら、p型領域P1,P2を表面に備えるダイヤモンド基板10は、水素終端ダイヤモンドからなるものに限定されない。例えば、図1(c)に示すように、ダイヤモンド基板10の表面に、ダイヤモンドの価電子帯よりも低エネルギー側にLUMOを有する第2金属酸化物からなる第2酸化物層14を備えるようにしてもよい。このような構成によると、上述したように、第2酸化物層14と接するダイヤモンド基板10の表面に自然正孔hを含むp型領域P1,P2を形成することができる。したがって、第1p型領域P1および第2p型領域P2を形成したいダイヤモンド基板10の表面に第2酸化物層14を備えることで、ダイヤモンド基板10の表面の所望の位置に第1p型領域P1および第2p型領域P2を形成することができる。なお、ダイヤモンド基板10の表面と第2酸化物層14との間には、ダイヤモンド基板10基板の表面のダングリングボンドを終端した水素が存在していてもよいし、存在していなくてもよい。
なお、ここに開示されるダイヤモンドコンタクト構造1を集積回路内に作製し、電子素子を構築する場合、自然正孔を含む第1p型領域P1と第2p型領域P2とは、安定性および容量がより一層高められていることが好ましい。そこで、第4実施形態では、例えば、図3に示すように、第3実施形態における第2酸化物層14を、二酸化窒素(NO2)を含むNO2層16を介して、ダイヤモンド基板10上に備えるようにしている。ここで、NO2層16は、1〜数原子層(例えば、1原子層)程度とすることが好ましい。これにより、NO2層16を介した状態であっても、第2酸化物層14と対向するダイヤモンド基板10の表面に自然正孔hを誘起し、p型領域P1,P2を形成することができる。また、第1p型領域P1と第2p型領域P2とにおける自然正孔hの濃度を、NO2層16を備えない場合と比較して10〜1000倍に高めることができる。例えば、自然正孔hの濃度を1013〜1015原子/cm3程度とすることができる。
以上のように、ここに開示されるダイヤモンドコンタクト構造1を利用することで、FET等の電子素子が提供される。
以下、図4を参照しつつ、ダイヤモンドFET100の製造方法の一例を説明する。
ダイヤモンドコンタクト構造1の製造に際しては、まずS1工程として、ダイヤモンド基板10を用意する。ダイヤモンド基板10は、結晶ダイヤモンドであればn型であってもよいし、i型であってもよい。ダイヤモンド基板10の表面面方位は特に制限されず、例えば、(111)面や(001)面の物を好ましく用いることができる。また、ダイヤモンド基板10は、表面のダングリングボンドが水素で終端された水素終端ダイヤモンドであってもよい。CVD法で作製されるダイヤモンドは、CVDリアクター内で水素プラズマに曝すことで、ダイヤモンド表面を水素ラジカル(H+)で終端した状態で用意される。したがって、CVD法で作製した水素終端ダイヤモンド薄膜をそのまま用いてもよい。或いは、他の方法で作製したダイヤモンド薄膜を、水素ラジカルを含むプラズマに暴露する等して、表面を水素で終端させてもよい。かかるダイヤモンド基板10は、例えば、他の材料からなる基板上に薄膜として形成されていてもよい。
そこで、得られたダイヤモンドFET100の出力特性を調べた。具体的には、ゲート電極15aに0V〜−5Vの逆バイアス印加したときの、ドレイン電流(ID)およびドレイン電圧(VD)を測定した。その結果は、ID−VD特性図として図6に示した。なお、ドレイン電流(ID)およびドレイン電圧(VD)の測定に際しては、一方の金属電極15bをソース側電極とし、他方の金属電極15cをドレイン側電極とした。また、図6は、実測値から、ゲートリーク電流補正およびバルクリーク電流補正を行った結果を整理したものである。
10 ダイヤモンド基板
12 第1酸化物層
14,14a,14b 第2酸化物層
16,16a,16b NO2層
15a ゲート電極
15b 電極(ソース側電極)
15c 電極(ドレイン側電極)
P1 第1p型領域
P2 第2p型領域
A 非p型領域
Claims (10)
- 自然正孔を含み、互いに離間する第1p型領域と第2p型領域とを少なくとも表面に備えるダイヤモンド基板と、
前記第1p型領域と前記第2p型領域との間の前記ダイヤモンド基板上に備えられ、ダイヤモンドの価電子帯よりも高エネルギー側に最低空軌道を有する第1金属酸化物からなる第1酸化物層と、
を備え、
前記第1酸化物層に接する前記ダイヤモンド基板の表面は、前記自然正孔が含まれない非p型領域である、ダイヤモンドコンタクト構造。 - 前記第1金属酸化物は、二酸化ケイ素、酸化ハフニウムおよびハフニウムシリケートからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載のダイヤモンドコンタクト構造。
- 前記ダイヤモンド基板は、i型ダイヤモンドまたはn型ダイヤモンドである、請求項1または2に記載のダイヤモンドコンタクト構造。
- 前記ダイヤモンド基板は、前記第1p型領域および前記第2p型領域の表面の未結合手が水素で終端されており、
前記自然正孔は、前記水素による水素終端により誘起されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載のダイヤモンドコンタクト構造。 - 前記ダイヤモンド基板は、前記第1p型領域および前記第2p型領域上に、ダイヤモンドの価電子帯よりも低エネルギー側に最低空軌道を有する第2金属酸化物からなる第2酸化物層を備え、
前記自然正孔は、前記第2酸化物層により誘起されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載のダイヤモンドコンタクト構造。 - 前記第2金属酸化物は、アルミナである、請求項5に記載のダイヤモンドコンタクト構造。
- 前記第2酸化物層は、二酸化窒素を含む層を介して、前記第1p型領域および前記第2p型領域上に備えられる、請求項5または6に記載のダイヤモンドコンタクト構造。
- 前記ダイヤモンド基板は、不純物拡散層を含まない、請求項1〜7のいずれか1項に記載のダイヤモンドコンタクト構造。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載のダイヤモンドコンタクト構造と、
前記ダイヤモンドコンタクト構造における前記第1酸化物層上に備えらえたゲート電極と、
を備える、ノーマリーオフ型ダイヤモンドFET。 - 前記ダイヤモンドコンタクト構造は、前記第1p型領域および前記第2p型領域上に前記第2酸化物層を備えており、
前記第1p型領域上の前記第1酸化物層上にソース側電極を、
前記第2p型領域上の前記第1酸化物層上にドレイン側電極を、
備える、請求項9に記載のノーマリーオフ型ダイヤモンドFET。
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