JP2018029130A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
4 熱処理ユニット
5 基板
6 イオナイザ
7 搬入口
33 ハンド
41 チャンバ
42 ホットプレート
43 プロキシミティピン
100 基板処理装置
Claims (5)
- 基板が載置される載置部と、
載置部に載置された基板の周囲を覆うとともに、基板を搬入するための搬入口が形成されたチャンバと、
基板を支持するハンドを有するとともに、ハンドに支持された基板を、搬入口を介してチャンバ内に搬入する搬送ロボットと、
搬入口の外側からチャンバ内に向けてイオン化された気体を吹き付けるイオナイザと、
を備える基板処理装置。 - 請求項1に記載される基板処理装置において、
イオナイザはハンドに支持された基板と、その後、載置部に載置された基板にイオン化された気体を継続して吹き付ける基板処理装置。 - 請求項2に記載される基板処理装置において、
搬入口は搬送ロボットにより基板をチャンバ外に搬出するための搬出口も兼ねていて、イオナイザは載置部から搬出されるときにハンドに支持された基板にもイオン化された気体を吹きつける基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載される基板処理装置において、
載置部は載置された基板を加熱するホットプレートを有する基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載される基板処理装置において、
載置部は載置された基板を冷却するクールプレートを有する基板処理装置。
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2017
- 2017-08-11 CN CN201721008841.2U patent/CN207381369U/zh active Active
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