JP2008060245A - 基板加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板加熱装置10の表面に沿って第一の加熱用電極13Aを設けてこれを第一の電圧印加手段15Aで発熱させると共に、基板加熱装置の側面に沿って第二の加熱用電極13Bを設けてこれを第二の電圧印加手段15Bで発熱させることにより、側面からの放熱を補って外周部の温度低下を防ぎ、被処理基板Wの温度分布が均一になるように加熱する。
【選択図】図1
Description
R1,R2 放熱
10 基板加熱装置
11 グラファイト基材
12 BN絶縁層
13A 第一の加熱用電極
13B 第二の加熱用電極
14 BN絶縁層
15A 第一の加熱用電極に対する電源部
15B 第二の加熱用電極に対する電源部
20 基板加熱装置
21 静電チャック用電極
22A 第一の加熱用電極
22B 第二の加熱用電極
23 静電チャック用電極に対する電源部
24A 第一の加熱用電極に対する電源部
24B 第二の加熱用電極に対する電源部
Claims (2)
- 半導体基板処理装置において半導体基板を載置支持する基板加熱装置であって、この基板加熱装置の表面に沿って設けられた第一の加熱用電極と、前記第一の加熱用電極に熱を発生させるための第一の電圧印加手段と、基板加熱装置の側面に沿って設けられた第二の加熱用電極と、前記第二の加熱用電極に熱を発生させるための第二の電圧印加手段とを有することを特徴とする基板加熱装置。
- 前記第一の加熱用電極と第二の加熱用電極が各々独立して制御可能であることを特徴とする請求項1記載の基板加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006233864A JP2008060245A (ja) | 2006-08-30 | 2006-08-30 | 基板加熱装置 |
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JP2006233864A JP2008060245A (ja) | 2006-08-30 | 2006-08-30 | 基板加熱装置 |
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JP2008060245A true JP2008060245A (ja) | 2008-03-13 |
Family
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Family Applications (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017228596A (ja) * | 2016-06-20 | 2017-12-28 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | ヒータ付きウェハ載置機構及び成膜装置 |
US10718053B2 (en) | 2017-12-07 | 2020-07-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Wafer loading apparatus and film forming apparatus |
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JPH0227715A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-30 | Mitsubishi Electric Corp | 気相成長装置用加熱ステージ |
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-
2006
- 2006-08-30 JP JP2006233864A patent/JP2008060245A/ja active Pending
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110726 |
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