JP2018017952A - Light projection apparatus and light projection method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ワークに偏光光を照射する光照射装置および光照射方法に関する。 The present invention relates to a light irradiation apparatus and a light irradiation method for irradiating a workpiece with polarized light.
近年、液晶パネルをはじめとする液晶表示素子の配向膜や、視野角補償フィルムの配向層などの配向処理に関し、所定の波長の偏光光を照射して配向を行う、光配向と呼ばれる技術が採用されている。
例えば、特許文献1には、光配向に用いる光照射装置が開示されている。この光照射装置は、光照射領域の幅方向に並べて配置された複数の光源と、当該光源からの光を偏光する偏光素子とを備え、光源を並べた方向に対して直交する方向に搬送されるワークに対して偏光光を照射することで光配向処理を行う。
In recent years, a technique called photo-alignment has been adopted in which alignment is performed by irradiating polarized light of a predetermined wavelength with respect to alignment processing of alignment films for liquid crystal display elements such as liquid crystal panels and alignment layers for viewing angle compensation films. Has been.
For example, Patent Document 1 discloses a light irradiation apparatus used for photo-alignment. This light irradiation apparatus includes a plurality of light sources arranged side by side in the width direction of the light irradiation region and a polarizing element that polarizes light from the light source, and is conveyed in a direction orthogonal to the direction in which the light sources are arranged. A photo-alignment process is performed by irradiating the workpiece with polarized light.
ところで、光配向処理は、テレビ画面用の液晶パネルのような大型の基板のみならず、スマートフォン用など中小型の液晶ディスプレイにも展開されてきている。そのため、大型の液晶ディスプレイと中小型の液晶ディスプレイなど、異なるサイズ、異なる用途のディスプレイを効率的に製造したいという要望がある。
このような要望に応えるためには、1枚の基板上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成し、この基板をマザー基板として複数種類の基板を作成する必要がある。しかしながら、従来の光照射装置は、1枚の基板の全面に対し、一定方向の偏光軸を有する偏光光を照射することしかできない。そのため、1枚の基板上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することはできない。
そこで、本発明は、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の領域を形成することができる光照射装置および光照射方法を提供することを課題としている。
By the way, the photo-alignment process has been developed not only for a large substrate such as a liquid crystal panel for a television screen but also for a small and medium liquid crystal display such as a smartphone. Therefore, there is a demand for efficiently producing displays of different sizes and different uses such as a large liquid crystal display and a small and medium liquid crystal display.
In order to meet such a demand, it is necessary to form a plurality of alignment regions having different alignment directions on a single substrate and to create a plurality of types of substrates using this substrate as a mother substrate. However, the conventional light irradiation apparatus can only irradiate the entire surface of one substrate with polarized light having a polarization axis in a certain direction. Therefore, a plurality of alignment regions having different alignment directions cannot be formed on one substrate.
Therefore, an object of the present invention is to provide a light irradiation apparatus and a light irradiation method capable of forming a plurality of regions having different alignment directions on a single workpiece by one photo-alignment treatment.
上記課題を解決するために、本発明に係る光照射装置の一態様は、光配向膜が形成されたワークに偏光光を照射して光配向を行う光照射装置であって、前記ワークを所定の搬送路に沿って搬送するステージと、前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第一の光照射部群と、前記搬送路上において前記第一の光照射部群に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第二の光照射部群と、前記複数の光照射部の光出射口からそれぞれ出射される偏光光の前記ワークへの照射を個別に阻止することで、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域と、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域とを規定する照射阻止部と、を備える。 In order to solve the above-described problems, one aspect of a light irradiation apparatus according to the present invention is a light irradiation apparatus that performs light alignment by irradiating polarized light onto a work on which a photo-alignment film is formed. A plurality of light irradiators that are installed on a transport path of the workpiece and the work path of the workpiece, and the light from the light source is polarized by the first polarizer and the first polarized light is irradiated from the light exit port. A first light irradiating unit group comprising a first part and a first light irradiating unit group arranged in parallel on the transport path and having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer. A second light irradiating unit group including a plurality of light irradiating units that are polarized by the two polarizers and irradiate the second polarized light from the light emitting port, and emitted from the light emitting ports of the plurality of light irradiating units, respectively. By individually blocking the irradiation of the polarized light to the workpiece, the first polarization Comprising a first region on the workpiece to be photo-alignment by light, and a radiation blocking portion defining a second region on the workpiece to be photo-alignment by the second polarized light.
上記の構成により、遮光阻止部によって、第一の光照射部群から出射される第一の偏光光が照射されるワーク上の領域と、第二の光照射部群から出射される第二の偏光光が照射されるワーク上の領域とを規定することができる。これにより、偏光軸がそれぞれ異なる複数の偏光光を1枚のワークに照射領域を分けて照射することができ、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、異なるサイズ、異なる用途の基板を効率的に製造することができ、生産性を向上させることができる。 With the above configuration, the region on the workpiece irradiated with the first polarized light emitted from the first light irradiation unit group and the second light emitted from the second light irradiation unit group by the light blocking prevention unit. It is possible to define the region on the workpiece that is irradiated with the polarized light. Thereby, it is possible to irradiate a single work with a plurality of polarized lights having different polarization axes, and to irradiate a single work with a plurality of orientations having different orientation directions on a single work. Regions can be formed. Therefore, substrates of different sizes and different applications can be efficiently manufactured, and productivity can be improved.
また、上記の光照射装置において、前記照射阻止部は、前記複数の光照射部の点灯と消灯とを個別に制御可能な照射制御部により構成されていてもよい。このように、各光照射部を個別に点灯制御可能に構成することで、追加部材を必要とすることなく、適切に偏光軸がそれぞれ異なる複数の偏光光を1枚のワークに照射領域を分けて照射することができる。
さらに、上記の光照射装置において、前記照射阻止部は、前記光出射口と前記ワークとの間に配置されることで前記光出射口から出射される前記光配向膜の光配向に寄与する波長の偏光光を遮光可能なプレート部材により構成されていてもよい。このように、プレート部材を用いて各光照射部から出射される偏光光を個別に遮光可能に構成することで、例えば光照射部の点灯および消灯を制御する場合と比較して、偏光光の照射の許容と阻止との切り替えを素早く行うことができる。
In the light irradiation apparatus, the irradiation prevention unit may be configured by an irradiation control unit that can individually control lighting and extinction of the plurality of light irradiation units. In this way, by configuring each light irradiation unit to be individually controllable, the irradiation region is appropriately divided into a single workpiece with a plurality of polarized lights having different polarization axes without the need for additional members. Can be irradiated.
Furthermore, in the above-described light irradiation apparatus, the irradiation blocking portion is disposed between the light emission port and the workpiece, and thereby contributes to the light alignment of the light alignment film emitted from the light emission port. It may be configured by a plate member capable of blocking the polarized light. In this way, by using the plate member so that the polarized light emitted from each light irradiation unit can be individually shielded, for example, compared with the case of controlling the turning on and off of the light irradiation unit, It is possible to quickly switch between allowing and preventing irradiation.
また、上記の光照射装置において、前記第一の光照射部群および前記第二の光照射部群の少なくとも一方は、前記照射阻止部により前記偏光光の前記ワークへの照射が許容された光照射部が配置された照射許容域と、前記照射阻止部により前記偏光光の前記ワークへの照射が阻止された光照射部が配置された照射阻止域との境界位置に、前記偏光光を遮光する遮光部材を備えてもよい。この場合、ワーク上に形成すべき配向方向が異なる複数の配向領域同士が非常に接近している場合であっても、照射許容域の光照射部から出射される偏光光が照射阻止域の直下の領域に回りこむことを防止することができ、ワークへの不所望な偏光光の照射を防止することができる。 In the light irradiation apparatus, at least one of the first light irradiation unit group and the second light irradiation unit group is light that is allowed to be irradiated with the polarized light by the irradiation blocking unit. The polarized light is shielded at a boundary position between an irradiation allowable region where the irradiation unit is arranged and an irradiation prevention region where the light irradiation unit where irradiation of the polarized light is blocked by the irradiation blocking unit is arranged. A light shielding member may be provided. In this case, even when a plurality of alignment regions having different alignment directions to be formed on the workpiece are very close to each other, the polarized light emitted from the light irradiation part in the irradiation allowable region is directly below the irradiation blocking region. It is possible to prevent the workpiece from sneaking into the region, and to prevent the workpiece from being irradiated with undesired polarized light.
さらに、上記の光照射装置において、前記遮光部材は、前記複数の光照射部の各光出射口から出射される前記偏光光の照射可能領域内における前記境界位置と、前記照射可能領域から退避した退避位置との間を移動可能に構成されていてもよい。これにより、ワーク上に形成すべき複数の配向領域の位置(レイアウト)に応じて、適切な位置に遮光部材を配置することができる。また、ワーク上における複数の配向領域間の隙間が比較的大きく、境界位置に遮光部材を配置する必要がない場合などには、遮光部材を退避位置に移動することもできる。 Further, in the light irradiation device, the light shielding member is retracted from the boundary position in the irradiation possible region of the polarized light emitted from each light emission port of the plurality of light irradiation units and the irradiation possible region. You may be comprised so that movement between retreat positions is possible. Thereby, the light shielding member can be arranged at an appropriate position according to the positions (layouts) of the plurality of alignment regions to be formed on the workpiece. In addition, when the gap between the plurality of orientation regions on the workpiece is relatively large and it is not necessary to dispose the light shielding member at the boundary position, the light shielding member can be moved to the retracted position.
また、上記の光照射装置において、前記照射阻止部は、前記搬送路に沿った方向において、前記搬送路に直交する方向における所定区間に位置する前記光照射部からの前記偏光光の前記ワークへの照射を阻止するようにしてもよい。この場合、ワーク上にいずれの光照射部からも偏光光が照射されない領域を形成することができる。つまり、偏光軸の方向が異なる複数の偏光光が混ざることなく、確実に領域を分けてワーク上に照射することができる。したがって、配向方向が異なる複数の配向領域をワーク上に適切に形成することができる。 Further, in the light irradiation apparatus, the irradiation blocking unit may pass the polarized light from the light irradiation unit located in a predetermined section in a direction perpendicular to the conveyance path in the direction along the conveyance path. May be prevented. In this case, it is possible to form an area where polarized light is not irradiated from any light irradiation unit on the work. That is, it is possible to irradiate the work on the workpiece with certain divisions without mixing a plurality of polarized lights having different directions of the polarization axes. Therefore, a plurality of alignment regions having different alignment directions can be appropriately formed on the workpiece.
さらにまた、上記の光照射装置において、前記第一の光照射部群および前記第二の光照射部群の少なくとも一方は、前記搬送路に沿った方向に複数列の前記光照射部を備えてもよい。この場合、一度の光配向処理でワーク上に照射される偏光光の積算光量を確保することができ、光配向処理に要する時間を短縮することができる。
また、上記の光照射装置において、前記複数列の光照射部のうち所定の列に属する複数の光照射部は、異なる列に属する複数の光照射部に対して、それぞれ前記搬送路に直交する方向に変位して配置されていてもよい。これにより搬送路に直交する方向での積算光量のばらつきを抑制することができる。
Furthermore, in the above light irradiation apparatus, at least one of the first light irradiation unit group and the second light irradiation unit group includes a plurality of rows of the light irradiation units in a direction along the conveyance path. Also good. In this case, the integrated light quantity of the polarized light irradiated onto the workpiece can be ensured by a single photo-alignment process, and the time required for the photo-alignment process can be shortened.
In the light irradiation apparatus, a plurality of light irradiation units belonging to a predetermined row among the plurality of light irradiation units are orthogonal to the transport path with respect to the plurality of light irradiation units belonging to different rows, respectively. It may be arranged displaced in the direction. Thereby, the dispersion | variation in the integrated light quantity in the direction orthogonal to a conveyance path can be suppressed.
さらに、上記の光照射装置において、前記複数列の光照射部のうち所定の列に属する複数の光照射部は、前記光出射口から照射される偏光光の前記搬送路に直交する方向の照度分布が、異なる列に属する複数の光照射部の前記光出射口から照射される偏光光の前記搬送路に直交する方向の照度分布と相補的な関係となるよう配置されていてもよい。これにより搬送路に直交する方向での積算光量を均一化することができる。 Furthermore, in the above light irradiation apparatus, the plurality of light irradiation units belonging to a predetermined row among the plurality of rows of light irradiation units are illuminance in a direction orthogonal to the transport path of the polarized light irradiated from the light exit port. The distribution may be arranged so as to have a complementary relationship with the illuminance distribution in the direction orthogonal to the transport path of the polarized light irradiated from the light exits of the plurality of light irradiation units belonging to different columns. Thereby, the integrated light quantity in the direction orthogonal to the transport path can be made uniform.
また、本発明に係る光照射方法の一態様は、光配向膜が形成されたワークに偏光光を照射して光配向を行う光照射方法であって、前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第一の光照射装置群において、前記複数の光照射部の光出射口からそれぞれ出射される前記第一の偏光光の前記ワークへの照射を個別に阻止することで、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域を規定するステップと、前記搬送路上において前記第一の光照射部群に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第二の光照射部群において、前記複数の光照射部の光出射口からそれぞれ出射される前記第二の偏光光の前記ワークへの照射を個別に阻止することで、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域を規定するステップと、前記ワークをステージによって前記搬送路に沿って搬送し、前記ワーク上の前記第一の領域に前記第一の偏光光を照射し、前記ワーク上の前記第二の領域に前記第二の偏光光を照射するステップと、を含む。
上記の構成により、偏光軸がそれぞれ異なる複数の偏光光を1枚のワークに照射領域を分けて照射することができ、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、異なるサイズ、異なる用途の基板を効率的に製造することができ、生産性を向上させることができる。
Another aspect of the light irradiation method according to the present invention is a light irradiation method for performing light alignment by irradiating polarized light onto a work on which a photo-alignment film is formed, the light irradiation method being installed on the work transport path. In the first light irradiating device group including a plurality of light irradiating units that polarize light from the first light polarizer and irradiate the first polarized light from the light exit port, the light emitted from the plurality of light irradiating units Defining a first region on the workpiece to be photo-aligned by the first polarized light by individually blocking irradiation of the first polarized light respectively emitted from the mouth to the workpiece. And the first light irradiating unit group on the transport path, the light from the light source is polarized by a second polarizer having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer, and light is emitted. A first light source having a plurality of light irradiation units for irradiating the second polarized light from the mouth; In the light irradiation unit group of the plurality of light irradiation units, the second polarized light is individually prevented from being irradiated with the second polarized light respectively emitted from the light emission ports of the plurality of light irradiation units, so that light is emitted by the second polarized light. Defining a second region on the workpiece to be oriented, transporting the workpiece along the transport path by a stage, and irradiating the first polarized light on the first region on the workpiece And irradiating the second region on the workpiece with the second polarized light.
With the above configuration, a plurality of polarized light beams having different polarization axes can be irradiated onto a single work by dividing an irradiation region, and a plurality of different alignment directions can be formed on a single work by a single photo-alignment process. The alignment region can be formed. Therefore, substrates of different sizes and different applications can be efficiently manufactured, and productivity can be improved.
本発明によれば、偏光軸がそれぞれ異なる複数の偏光光を1枚のワークに照射領域を分けて照射することができるので、1度の光配向処理で、1枚のワーク上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、異なるサイズ、異なる用途の基板を効率的に製造することができ、生産性を向上させることができる。 According to the present invention, it is possible to irradiate a single workpiece with a plurality of polarized light beams having different polarization axes, so that the orientation direction can be adjusted on one workpiece by one photo-alignment treatment. A plurality of different alignment regions can be formed. Therefore, substrates of different sizes and different applications can be efficiently manufactured, and productivity can be improved.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
(第一の実施形態)
図1は、本実施形態の偏光光照射装置300を示す概略構成図である。
偏光光照射装置300は、第一の光照射装置群(第一の光照射部群)100Aと、第二の光照射装置群(第二の光照射部群)100Bと、ワークWを搬送する搬送部200とを備える。ここで、ワークWは、例えば光配向膜が形成された矩形状の基板である。偏光光照射装置300は、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bの少なくとも一方から偏光光(偏光した光)を照射しながら、搬送部200によってワークWを直線移動させ、ワークWの光配向膜に上記偏光光を照射して光配向処理をする。
本実施形態では、偏光光照射装置300は、1枚のワークWの全面に対して同一方向の偏光軸を有する偏光光を照射する第一の光配向処理と、1枚のワークW上を複数の配向領域に分け、配向領域ごとにそれぞれ異なる方向の偏光軸を有する偏光光を照射する第二の光配向処理とを切り替えて実施可能とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a polarized
The polarized
In the present embodiment, the polarized
搬送部200は、ワークWが載置されるステージ21を備える。ステージ21は、真空吸着等の方法によりワークWを吸着保持可能な平板状のステージである。なお、本実施形態では、ステージ21およびワークWを矩形状としているが、これに限定するものではなく、任意の形状とすることができる。また、ワークWを平板状のステージで吸着保持する構成に限定されるものではなく、複数のピンによってワークWを吸着保持する構成であってもよい。
また、搬送部200は、ステージ21をX方向に移動するためのX方向駆動機構22を備える。X方向駆動機構22は、例えばリニアモータ駆動機構であり、X方向に沿って延びる2本のガイド22Aと、2本のガイド22Aの間に配置されたマグネット板22Bと、コイルモジュール22Cとを備える。2本のガイド22Aとマグネット板22Bとは、不図示の設置台の上面に配置されている。マグネット板22Bは、隣り合う磁極の極性を交互に変えてX方向に等間隔で並べられた複数のマグネットにより構成されている。また、コイルモジュール22Cは、ステージ21の裏面の中央部に、マグネット板22Bと対向するように取り付けられている。なお、X方向駆動機構22としては、例えばボールねじを用いた機構を採用することもできる。
The
The
このように、ステージ21は、搬送軸であるガイド22Aに沿ってX方向に往復移動可能に構成されている。なお、X方向駆動機構22の構成は、図1に示す構成に限定されるものではなく、ステージ21をX方向に移動可能な構成であれば任意の構成を採用することができる。
さらに、搬送部200は、ステージ21をθ方向(Z軸回り)に回転可能な回転制御部を構成するθ移動機構24を備えていてもよい。この場合、ステージ21は、固定ベース25上にθ方向に回転可能に取り付けられ、θ移動機構24は、ステージ21のθ方向の回転角度を調整する。
As described above, the
Furthermore, the
ステージ21の移動経路は、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bの真下を通るように設計されている。搬送部200は、ワークWを、X方向における照射領域の一方の側に設定されたワーク搭載位置から、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bによる偏光光の照射領域に搬送し、且つその照射領域を通過させるように構成されている。さらに、搬送部200は、ワークWが照射領域を完全に通過した後、当該ワークWを折り返し、再び当該照射領域を通過させてもよい。この場合、ワークWの光配向膜に対する光配向処理は、往路移動と復路移動の双方で実施されてもよい。
The moving path of the
第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bは、図2に示すように、それぞれ複数の光照射装置(光照射部)10を含んで構成されている。本実施形態では、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bにそれぞれ属する複数の光照射装置10は、ワークWの搬送方向(X方向)に直交する方向(Y方向)に一列に並んで配置されているものとする。
各光照射装置10は、図3および図4に示すように、線状の光源であるランプ11と、ランプ11の光を反射するミラー12とを備える。また、光照射装置10は、その光出射側に配置された波長選択フィルタ13および偏光子14を備える。さらに、光照射装置10は、ランプ11、ミラー12、波長選択フィルタ13および偏光子14を収容するランプハウス15を備える。
As shown in FIG. 2, the first light irradiation device group 100 </ b> A and the second light irradiation device group 100 </ b> B each include a plurality of light irradiation devices (light irradiation units) 10. In the present embodiment, the plurality of
As shown in FIGS. 3 and 4, each
各光照射装置10は、例えばランプ11の長手方向をワークWの搬送方向(X方向)に一致させた状態で、そのワークWの搬送方向(X方向)に直交する方向(Y方向)に沿って並設されている。なお、各光照射装置10は、ランプ11の長手方向をY方向に一致させた状態で配置してもよいし、ランプ11の長手方向をX方向に対して斜めに配置してもよい。さらに、後述するが、光照射装置10が並設されるのは一列に限定されず、X方向に複数列に配置されていてもよい。また、この場合、異なる列の各光照射装置10を互いにY方向に変位させた状態で配置する、いわゆる千鳥配置したものとしてもよい。
Each
以下、光照射装置10の具体的構成について説明する。
ランプ11は長尺状のいわゆるロングアーク放電ランプである。1本あたりの発光長の長さは20cm〜50cm程度のものである。このランプ11は、例えば高圧水銀ランプや、水銀に他の金属とハロゲンとを加えたメタルハライドランプ、水銀以外の金属とハロゲンとが封入されたメタルハライドランプ等の放電ランプであり、封入発光種に応じて波長200nm〜400nmの紫外光を放射する。
光配向膜の材料としては、波長254nmの光で配向されるもの、波長313nmの光で配向されるもの、波長365nmの光で配向されるものなどが知られており、光源の種類は必要とされる波長に応じて適宜選択する。
Hereinafter, a specific configuration of the
The
As materials for the photo-alignment film, those that are aligned by light having a wavelength of 254 nm, those that are aligned by light having a wavelength of 313 nm, and materials that are aligned by light having a wavelength of 365 nm are known. It selects suitably according to the wavelength to be performed.
ミラー12は、ランプ11からの放射光を所定の方向に反射するものであり、例えばその断面が楕円形または放物線状の樋状集光鏡である。ミラー12は、その長手方向がランプ11の長手方向と一致するように配置されている。
ランプハウス15は、その底面に、ランプ11からの放射光およびミラー12による反射光が通過する光出射口を有する。波長選択フィルタ13および偏光子14は、ランプハウス15の光出射口に取り付けられ、偏光子14は、当該光出射口を通過し、波長選択フィルタ13によって選択された波長の光を偏光する。
波長選択フィルタ13は、例えば、反射防止膜(ARコート)が形成された石英板などを用いることができる。ARコートの材質や厚さなどを適宜選択することで、波長選択フィルタ13は、特定波長よりも短い波長の光を透過するローパスフィルタや、特定波長よりも長い波長の光を透過するハイパスフィルタや、特定の上下限を有する波長領域の光を透過するバンドパスフィルタとして機能することができる。
The
The
As the
偏光子14は、ランプ11の照射領域に対応した領域を覆うように配置されている。偏光子14は、例えばフレーム等により支持されている。この偏光子14は、例えば、ワイヤーグリッド型偏光素子であり、各光照射装置10に配置されている偏光子14の個数は、偏光光を照射する領域の大きさに合わせて適宜選択する。例えば、光照射装置10ごとに1〜2枚の偏光子14がフレームに収められて光出射側に配置されている。
なお、1つの光照射装置群を構成する各偏光子14は、それぞれ透過軸が同一方向を向くように配置されている。本実施形態では、第一の光照射装置群100Aが有する光照射装置10の各偏光子14の透過軸の方向と、第二の光照射装置群100Bが有する光照射装置10の各偏光子14の透過軸の方向とを異なる方向とする。偏光子14の角度は、きわめて微小なレベルではフレームに設けられた角度調整機構により調整可能である。しかしながら、本実施形態の第一の偏光軸と第二の偏光軸のように、大きく軸角度が異なる場合は、異なる偏光板が用いられるか、正方形の場合は手動で角度を変更する。
このように、第一の光照射装置群100Aに属する光照射装置10は、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する。また、第二の光照射装置群100Bに属する光照射装置10は、光源からの光を第二の偏光子によって偏光し、第一の偏光光とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光とは偏光軸の方向が異なる第二の偏光光を照射する。
The
In addition, each
Thus, the
なお、本実施形態では、各光照射装置10の光源が放電ランプである場合について説明するが、光源として紫外光を放射するLEDやLDを用いることもできる。その場合、LEDやLDを並べる方向がランプ11の長手方向に相当する。
図5および図6は、光源としてLEDを用いた場合の光照射装置10´の構成例である。光照射装置10´は、光源であるLED11aと、LED11aが実装されたLED基板11bと、ヒートシンク11cと、レンズ11dと、冷却機構11eとを備える。また、光照射装置10´は、上述した光照射装置10と同様に、その光出射側に配置された波長選択フィルタ13および偏光子14を備える。さらに、光照射装置10´は、これらを収容するランプハウス15を備える。
光源がLEDである場合、光照射装置10のXY平面上における形状は、LED11aの配置に応じて決定することができる。つまり、光照射装置10のXY平面上における形状を正方形などの任意の形状とすることができる。そのため、光照射装置10の配置の自由度が大きい。
In addition, although this embodiment demonstrates the case where the light source of each
5 and 6 are configuration examples of the light irradiation device 10 'when an LED is used as the light source. The
When the light source is an LED, the shape of the
第一の光照射装置群100Aに属する光照射装置10および第二の光照射装置群100Bに属する光照射装置10は、それぞれ個別に点灯制御可能に構成されている。なお、本明細書における「点灯」とは、光照射装置10から照射される偏光光のうち、254nmや313nmといった光配向膜材料が感度を有する波長(光配向に寄与する波長)の光のワークWへの照射が許容された状態のことをいう。また、「消灯」とは、光照射装置10から照射される偏光光のうち、上記の光配向に寄与する波長の光のワークWへの照射が阻止された状態のことをいう。本実施形態では、後述する照射制御部51(図15)が各光照射装置10への投入電力を制御することで、各光照射装置10の点灯および消灯を制御する。
The
偏光光照射装置300は、第二の光配向処理を行う場合、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bの光照射装置10をそれぞれ個別に点灯制御し、図2に示すように、ワークW上に第一の偏光光のみが照射されて光配向処理される第一の配向領域A2と、第二の偏光光のみが照射されて光配向処理される第二の配向領域B2とを形成する。ここで、第一の配向領域A2は、第一の偏光光のみが照射されるべきワークW上の領域(第一の領域)A1を含む領域であり、第二の配向領域B2は、第二の偏光光のみが照射されるべきワークW上の領域(第二の領域)B1を含む領域である。
When the polarized
図2に示すように、ワークWのY方向における所定位置を境界位置Paとして、一方の側(図2の右側)に第一の配向領域A2、他方の側(図2の左側)に第二の配向領域B2を形成する場合、図7に示すように、第一の光照射装置群100Aを構成する光照射装置10のうち、境界位置Paの一方の側(図7の右側)に位置する光照射装置10は点灯状態、境界位置Paの他方の側(図7の左側)に位置する光照射装置10は消灯状態に制御される。また、第二の光照射装置群100Bを構成する光照射装置10のうち、境界位置Paの一方の側(図7の右側)に位置する光照射装置10は消灯状態、境界位置Paの他方の側(図7の左側)に位置する光照射装置10は点灯状態に制御される。
As shown in FIG. 2, a predetermined position in the Y direction of the workpiece W is defined as a boundary position Pa, and the first alignment region A2 is on one side (right side in FIG. 2), and the second is on the other side (left side in FIG. 2). When the alignment region B2 is formed, as shown in FIG. 7, the
この場合、第一の光照射装置群100Aに属する点灯状態の光照射装置10の直下を通過するワークWには第一の偏光光が照射され、消灯状態の光照射装置10の直下を通過するワークWには第一の偏光光は照射されない。同様に、第二の光照射装置群100Bに属する点灯状態の光照射装置10の直下を通過するワークWには第二の偏光光が照射され、消灯状態の光照射装置10の直下を通過するワークWには第二の偏光光は照射されない。
したがって、図8に示すように第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bを通過するワークW上において、境界位置Paの一方の側(図8の右側)には第一の偏光光のみが照射され、他方の側(図8の左側)には第二の偏光光のみが照射される。その結果、図2に示すように、領域A1を含む第一の配向領域A2と領域B1を含む第二の配向領域B2とが、Y方向に分離して形成される。
In this case, the first polarized light is irradiated to the workpiece W that passes directly under the
Therefore, as shown in FIG. 8, on the work W passing through the first light
このように、第一の偏光光を出射する複数の光照射装置10を有する第一の光照射装置群100Aと、第二の偏光光を出射する複数の光照射装置10を有する第二の光照射装置群100BとをX方向に並設し、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bを構成する光照射装置10をそれぞれ個別に点灯制御する。これにより、ワークW上の必要な領域にのみ必要な偏光光を照射し、不要もしくは禁止される領域には偏光光を照射しないようにすることができる。その結果、1度の製造プロセスで、1枚のワークW上に配向方向が異なる複数の配向領域を形成することができる。
As described above, the first light
近年、光配向処理はテレビ画面用の大型の液晶ディスプレイのみならず、スマートフォン用など中小型の液晶ディスプレイにも展開されてきており、様々な種類、寸法の液晶ディスプレイの生産が期待されている。このような様々な種類の基板を効率良く処理するためには、1枚の多面取りマザー基板から種類の異なる複数のセル基板を切り出す必要がある。
本実施形態における偏光光照射装置300は、上述したように1度の光配向処理によって、1枚のワークW上に配向方向の異なる複数の配向領域を形成することができる。したがって、複数種類の基板を効率良く生産することができ、コストメリットが得られる。また、個別のオーダーにも柔軟に対応することができる。
In recent years, photo-alignment processing has been developed not only for large-sized liquid crystal displays for television screens but also for small- and medium-sized liquid crystal displays for smartphones, and production of liquid crystal displays of various types and dimensions is expected. In order to efficiently process such various types of substrates, it is necessary to cut out a plurality of different types of cell substrates from one multi-sided mother substrate.
As described above, the polarized
なお、偏光光照射装置300は、通常プロセスである第一の光配向処理を行う場合、図9に示すように、第一の光照射装置群100Aの全ての光照射装置10を点灯状態とし、第二の光照射装置群100Bの全ての光照射装置10を消灯状態とする。これにより、第一の光照射装置群100Aに属する光照射装置10からワークWの全面に対して第一の偏光光を照射し、光配向処理することができる。つまり、ワークW上には、領域A1を含む第一の配向領域A2のみが形成される。
このように、偏光光照射装置300は、通常プロセスによる通常生産をこなしつつ、多種多様なワークWに対応する柔軟性も確保することができる。
When the polarized
As described above, the polarized
(第二の実施形態)
次に、本発明の第二の実施形態について説明する。
上述した第一の実施形態では、偏光光の照射領域を光照射装置10の点灯制御のみによって分ける場合について説明した。しかしながら、配向方向が異なる複数の配向領域が、ワークW上においてY方向に非常に接近している場合、隣接する配向領域にのみ照射すべき偏光光(照射されてはならない偏光軸角度の偏光光)が照射されてしまう場合がある。
そこで、第二の実施形態では、より適切にワークW上に配向領域を形成するために、図10に示すように、光照射装置10の点灯域と消灯域との境界位置に遮光部16を設ける。ここで、点灯域とは、1つの光照射装置群において、点灯状態に制御された光照射装置10が配置された領域(照射許容域)であり、消灯域とは、消灯状態に制御された光照射装置10が配置された領域(照射阻止域)である。
(Second embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
In the first embodiment described above, the case where the irradiation region of the polarized light is divided only by the lighting control of the
Therefore, in the second embodiment, in order to form the alignment region on the workpiece W more appropriately, as shown in FIG. 10, the
図10に示すように、遮光部16は、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bにそれぞれ設けられている。遮光部16は、光照射装置群の照射可能領域内において、光照射装置10の点灯域と消灯域との境界位置に配置することができる。より具体的には、遮光部16は、点灯域と消灯域との境界において、消灯域に属する光照射装置10のうち最も点灯域に近い光照射装置10の出射側に配置される。
As shown in FIG. 10, the
図11は、第一の光照射装置群100Aが備える遮光部16の構成例を示す図である。なお、第二の光照射装置群100Bが備える遮光部16は、第一の光照射装置群100Aが備える遮光部16と同様の構成を有するため、ここでは第一の光照射装置群100Aが備える遮光部16について説明する。
遮光部16は、点灯域αと消灯域βとの境界位置Paに配置される遮光板16aと、遮光板16aをY方向に移動可能な遮光板駆動部16bとを備える。遮光板16aは、第一の光照射装置群100Aに属する光照射装置10の偏光子14よりも下方でワークWよりも上方に配置される遮光部材である。遮光板16aは金属板でもよいし、偏光光成分をカットする波長選択フィルタであってもよい。遮光板16aは、点灯域αの光照射装置10から照射されるワークWの光配向に寄与する波長の光を遮光し、点灯域αから消灯域βの直下のワークWへの上記光の照射を阻止できる構成であればよい。
FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration example of the
The
遮光板16aは、点灯域αの光照射装置10の光出射口から出射される光の消灯域βへの回り込みを防止するために、高さ方向(Z方向)に所定の長さを有していてもよい。ワークWの上面と遮光板16aの下端面との間のギャップGは、消灯域βへの光の回り込み量の許容値や、遮光板16aとワークWとの接触可能性等を考慮して決定することができる。ただし、遮光板16aの形状は、図11に示す形状に限定されるものではなく、遮光板16aは、例えば図12に示すように水平配置した平板状の部材であってもよい。また、この場合、遮光板16aは、図12に示すように、複数のサブプレート部材の集合によって構成されていてもよい。
The
遮光板駆動部16bは、例えばモータ駆動機構であり、遮光板16aをY方向に移動可能に構成されている。遮光板16aのY方向における位置は、ワークW上で第一の偏光光のみが照射されるべき領域A1と、ワークW上で第二の偏光光のみが照射されるべき領域B1との間の隙間のY方向における中央位置や、当該隙間のY方向における距離に基づいて決定される。この遮光板16aのY方向における位置は、後述する照射制御部51(図15)によって決定され、遮光板駆動部16bは、照射制御部51によって決定された情報をもとに遮光板16aを駆動する。
このような構成により、偏光光照射装置300は、不所望な偏光光の照射を適切に防止することができる。したがって、ワークW上の配向方向が異なる複数の配向領域がY方向に非常に接近している場合であっても、適切にワーク上に上記複数の配向領域を形成することができる。
The light shielding
With such a configuration, the polarized
(第三の実施形態)
次に、本発明の第三の実施形態について説明する。
上述した第二の実施形態では、遮光部16によって不所望な偏光光の照射を防止する場合について説明した。この第三の実施形態では、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bにおいて、X方向でいずれの光照射装置10も点灯していない完全消灯地帯を設けることで、不所望な偏光光の照射を防止する場合について説明する。
図13は、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bにおいて、それぞれ中央に位置する2つの光照射装置10を消灯状態とし、完全消灯地帯17を設けた例である。この場合、ワークW上には、Y方向における第一の配向領域A2と第二の配向領域B2との間に、第一の偏光光、第二の偏光光のいずれも照射されない非照射領域Cが形成される。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
In the second embodiment described above, the case where the
FIG. 13 is an example in which in the first light
ここで、完全消灯地帯17は、例えば、領域A1と領域B1との隙間のY方向における中央位置を中心として、Y方向両側の所定個ずつの光照射装置10を消灯状態として設定する。なお、完全消灯地帯17は、ワーク情報等によって予め領域A1と領域B1とのY方向における間隔が判明している場合、その情報をもとに消灯状態とする光照射装置10の個数を決定してもよい。
このように、完全消灯地帯を設けることで、偏光軸の方向が異なる複数の偏光光が混ざることなく、領域を分けてワークW上に照射することができる。したがって、ワークW上に配向方向が異なる複数の配向領域を適切に形成することができる。また、完全消灯地帯を設けることで、光配向処理に必要ない光照射装置10を消灯状態とすることができるので、不必要に光照射装置10を点灯させることを抑制することができる。
Here, in the complete
In this way, by providing the completely extinguished zone, it is possible to irradiate the work W by dividing the region without mixing a plurality of polarized lights having different directions of the polarization axes. Therefore, a plurality of alignment regions having different alignment directions can be appropriately formed on the workpiece W. Moreover, since the
なお、図14に示すように、第一の光照射装置群100Aと第二の光照射装置群100Bとは、物理的にX方向に離間させて配置されていてもよい。この場合、より確実に不所望な偏光光の照射を防止することができる。
さらに、図14に示すように、第一の光照射装置群100Aと第二の光照射装置群100BとがX方向に離間させて配置されている場合、ワークWが第一の光照射装置群100Aを通過した後、ステージ21をY方向に移動させてから第二の光照射装置群100Bを通過させるようにしてもよい。
As shown in FIG. 14, the first light
Furthermore, as shown in FIG. 14, when the first light
(制御系統)
以上の各実施形態における処理は、図15に示す偏光光照射装置300が備える制御部が行うことができる。制御部は、例えばPLC(プログラマブルロジックコントローラ)であり、偏光光照射装置300の各部を制御可能に構成されている。具体的には、制御部は、図15に示すように、各光照射装置10の点灯制御や、各光照射装置群が備える遮光部16の制御等を行う照射制御部51と、ステージ21の搬送制御やステージ21の回転制御等を行うステージ制御部52とを含んで構成される。
(Control system)
The processing in each of the above embodiments can be performed by a control unit included in the polarized
照射制御部51は、ホストコンピュータ60からワーク情報を取得する。ここで、ワーク情報は、ワークWの品種や型式等の情報を含む。照射制御部51は、取得したワーク情報に基づいて、生産条件(ワークWの搬送速度、光照射装置10への投入電力等)や、ワークW上の配向領域の境界位置等のワークレイアウトを決定する。照射制御部51は、予め記憶されたワーク情報と生産条件やワークレイアウトの対応関係を示す情報に基づいて、ワーク情報から生産条件やワークレイアウトを決定する。
そして、照射制御部51は、これらの決定された情報に基づいて、ランプ点灯制御部により電源70から各光照射装置10へ電力を供給し、光照射装置10の点灯制御を行う。また、照射制御部51は、上記の情報に基づいて、遮光部制御部により遮光部16を構成する遮光板駆動部16bを制御し、遮光板16aを移動する。
The
Then, the
ステージ制御部52は、ホストコンピュータ60からワーク情報を取得し、取得したワーク情報に基づいてX方向駆動機構22やθ移動機構24を駆動制御し、ステージ21の搬送制御や回転制御等を行う。このときステージ制御部52は、X方向駆動機構22やθ移動機構24からステージ21の位置情報(X方向位置およびθ回転角度)を取得し、ステージ21の搬送制御や回転制御等を行う。
以上の構成により、本実施形態における偏光光照射装置300は、上述したように、1度の光配向処理によって、1枚のワークW上に異なる複数の配向領域を形成することができる。
The
With the above configuration, the polarized
(変形例)
上記各実施形態においては、ワークW上をY方向において2つの配向領域に分ける場合について説明したが、3つ以上の配向領域に分けることもできる。例えば、図16に示すように各光照射装置10を点灯制御することで、ワークW上をY方向で3つの配向領域に分けることができる。また、ワークW上をX方向で複数の配向領域に分けることもできる。
また、上記各実施形態においては、偏光光照射装置300は、第一の偏光光と第二の偏光光との2種類の偏光光を照射する光照射装置群を備える場合について説明したが、偏光軸の方向が異なる3種類以上の偏光光を照射する光照射装置群を備えるようにしてもよい。
(Modification)
In each of the above embodiments, the case where the workpiece W is divided into two alignment regions in the Y direction has been described. However, the workpiece W may be divided into three or more alignment regions. For example, as shown in FIG. 16, by controlling lighting of each
Moreover, in each said embodiment, although the polarized
さらに、上記各実施形態においては、光照射装置10の点灯制御することで、光照射装置10の光出射口から出射される偏光光のワークWへの照射の許容と阻止とを制御する場合について説明した。しかしながら、光照射装置10の光出射口とワークWとの間にプレート部材を配置することで、光出射口から出射される光配向膜の光配向に寄与する波長の偏光光を遮光するようにしてもよい。
この場合、プレート部材は、光照射装置10に設置してもよいし、ステージ21に設置してもよい。さらに、プレート部材は、光照射装置10とステージ21の両方に設置してもよい。また、プレート部材は、光照射装置10ごとに設置してもよいし、例えば図12に示す遮光部16のように複数のサブプレート部材の集合によって構成し、複数の光照射装置10で共通としてもよい。さらに、光照射装置10の点灯制御と、上記プレート部材による遮光制御とを組み合わせて実施してもよい。
Further, in each of the above embodiments, the lighting control of the
In this case, the plate member may be installed on the
また、上記各実施形態においては、各光照射装置群は一列のみの光照射装置アレイとする場合について説明したが、X方向における光照射装置10の列数を増加させてもよい。例えば、図17に示すように、第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bは、それぞれ3列ずつ光照射装置10を備えてもよい。これにより、ワークWの搬送速度を遅くせずとも積算光量を適切に確保することができる。
さらに、この場合、異なる列の光照射装置10からそれぞれ照射される偏光光のY方向における照度分布が相補的な関係となるように、異なる列の光照射装置10は、互いにY方向に変位して配置(例えば、千鳥配置)されていてもよい。これにより、Y方向での積算光量を均一化することができる。
Further, in each of the above embodiments, each light irradiation device group has been described as a light irradiation device array having only one column, but the number of columns of the
Further, in this case, the
また、上記各実施形態においては、ワークWが第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bを通過し往路移動が終了した後、ステージ21をY方向に移動させてから復路移動を開始してもよい。この場合、ワークWの光配向膜に対する光配向処理は、往路移動と復路移動の双方で実施する。これにより、上記のように各光照射装置群において複数列の光照射装置10を千鳥配置した場合と同様に、Y方向での積算光量を均一化することができる。
また、上記各実施形態においては、ワークWが第一の光照射装置群100Aおよび第二の光照射装置群100Bを通過しながら、搬送方向に直交する方向(Y方向)に揺動する構成であってもよい。この場合にも、Y方向での積算光量を均一化することができる。
In each of the above embodiments, after the work W passes through the first light
Moreover, in each said embodiment, it is the structure which rock | fluctuates in the direction (Y direction) orthogonal to a conveyance direction, while the workpiece | work W passes the 1st light
さらに、第一の光照射装置群100Aと第二の光照射装置群100Bとで、光照射装置10の列数は異なっていてもよい。例えば、図18に示すように、第一の光照射装置群100Aを3列とし、第二の光照射装置群100Bを2列としてもよい。また、光照射装置群ごとに光照射装置10の配置方向は異ならせてもよい。図18では、第一の光照射装置群100Aに属する光照射装置10の長手方向をX方向に一致させ、第二の光照射装置群100Bに属する光照射装置10の長手方向をY方向に一致させた例を示している。このように、光照射装置10の長手方向をY方向に一致させて配置することで、光照射装置10のX方向の列数が増加することに起因する装置のフットプリントの増加を抑制することができる。
また、この図18に示す例の場合、3列の光照射装置10を備える第一の光照射装置群100Aを通常生産である第一の光配向処理に使用し、第二の光配向処理は第一の光照射装置群100Aと第二の光照射装置群100Bとを用いて行うことができる。その場合、2列の光照射装置10を備える第二の光照射装置群100Bの下を走査して偏光光を照射するときは、ワークWの搬送速度を遅めにして積算光量を調整するようにしてもよい。
Furthermore, the number of columns of the
In the case of the example shown in FIG. 18, the first light irradiation device group 100 </ b> A including the three rows of
なお、上記各実施形態においては、1つのステージ21が灯具(光照射装置群100A、100B)の直下を往復するシングルステージ方式の偏光光照射装置300に本発明を適用する場合について説明したが、偏光光照射装置300の構成は図1に示す構成に限定されない。例えば、2つのステージが灯具の下を往復しあう、所謂ツインステージ方式の偏光光照射装置300に本発明を適用することもできる。また、1つのステージに複数のワークWを載置し、ワークWごとに異なる偏光軸の偏光光を照射して光配向処理を行う装置にも適用可能である。
In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to the single-stage polarized
さらに、上記実施形態においては、ワークWの搬入位置および搬出位置は特に限定されるものではない。例えば、X方向における照射領域の一方の側に設定されたワーク搭載位置において、未処理のワークWの搬入と処理済みのワークWの搬出とを行ってもよいし、X方向における照射領域の一方の側からワークWを搬入し、他方の側からワークWを搬出するようにしてもよい。
また、上記実施形態においては、偏光光照射装置に本発明を適用する場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、DI(ダイレクト・イメージ:直描)露光装置や、紫外線より熱硬化処理を行う紫外線照射装置等の光照射装置にも本発明を適用可能である。これらの光照射装置の場合、ワーク上を複数の領域に分割し、分割された領域ごとに異なる光照射処理を行うことが可能である。
Furthermore, in the said embodiment, the carrying in position and the carrying out position of the workpiece | work W are not specifically limited. For example, the unprocessed work W may be carried in and the processed work W may be carried out at a work mounting position set on one side of the irradiation area in the X direction, or one of the irradiation areas in the X direction may be carried out. The workpiece W may be carried in from the other side, and the workpiece W may be carried out from the other side.
Moreover, in the said embodiment, although the case where this invention was applied to a polarized light irradiation apparatus was demonstrated, it is not limited to this. For example, the present invention can also be applied to a light irradiation apparatus such as a DI (direct image) exposure apparatus or an ultraviolet irradiation apparatus that performs thermosetting treatment from ultraviolet rays. In the case of these light irradiation apparatuses, it is possible to divide the work into a plurality of regions and perform different light irradiation processes for each of the divided regions.
10…光照射装置、11…ランプ、12…ミラー、13…波長選択フィルタ、14…偏光子、15…ランプハウス、16…遮光部、16a…遮光板、16b…遮光板駆動部、17…完全消灯地帯、21…ステージ、100A…第一の光照射装置群、100B…第二の光照射装置群、200…搬送部、300…偏光光照射装置
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記ワークを所定の搬送路に沿って搬送するステージと、
前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第一の光照射部群と、
前記搬送路上において前記第一の光照射部群に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第二の光照射部群と、
前記複数の光照射部の光出射口からそれぞれ出射される偏光光の前記ワークへの照射を個別に阻止することで、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域と、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域とを規定する照射阻止部と、を備えることを特徴とする光照射装置。 A light irradiation device that performs light alignment by irradiating polarized light onto a work on which a photo-alignment film is formed,
A stage for conveying the workpiece along a predetermined conveyance path;
A first light irradiation unit group provided on the transport path of the workpiece, including a plurality of light irradiation units that polarize light from a light source by a first polarizer and irradiate the first polarized light from a light exit port; ,
The light from the light source is arranged in parallel with the first light irradiation unit group on the transport path, and is polarized by a second polarizer having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer. A second light irradiation unit group comprising a plurality of light irradiation units for irradiating the second polarized light;
The first light on the workpiece to be photo-aligned by the first polarized light is individually blocked by irradiating the workpiece with the polarized light respectively emitted from the light exit ports of the plurality of light irradiation sections. A light irradiation apparatus comprising: an irradiation blocking unit that defines a region and a second region on the workpiece to be photo-aligned by the second polarized light.
前記複数の光照射部の点灯と消灯とを個別に制御可能な照射制御部により構成されていることを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。 The irradiation blocking unit is
The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the light irradiation apparatus includes an irradiation control unit capable of individually controlling turning on and off of the plurality of light irradiation units.
前記光出射口と前記ワークとの間に配置されることで前記光出射口から出射される前記光配向膜の光配向に寄与する波長の偏光光を遮光可能なプレート部材により構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の光照射装置。 The irradiation blocking unit is
It is comprised by the plate member which can shield the polarized light of the wavelength which contributes to the photo-alignment of the said photo-alignment film radiate | emitted from the said light exit port by arrange | positioning between the said light exit port and the said workpiece | work. The light irradiation apparatus according to claim 1 or 2.
前記照射阻止部により前記偏光光の前記ワークへの照射が許容された光照射部が配置された照射許容域と、前記照射阻止部により前記偏光光の前記ワークへの照射が阻止された光照射部が配置された照射阻止域との境界位置に、前記偏光光を遮光する遮光部材を備えることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光照射装置。 At least one of the first light irradiation unit group and the second light irradiation unit group is:
An irradiation allowable area in which a light irradiation unit allowed to irradiate the workpiece with the polarized light by the irradiation blocking unit is disposed, and light irradiation in which irradiation of the polarized light to the workpiece is blocked by the irradiation blocking unit. 4. The light irradiation apparatus according to claim 1, further comprising a light blocking member that blocks the polarized light at a boundary position with an irradiation blocking area in which the portion is disposed. 5.
前記搬送路に沿った方向において、前記搬送路に直交する方向における所定区間に位置する前記光照射部からの前記偏光光の前記ワークへの照射を阻止することを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光照射装置。 The irradiation blocking unit is
6. The irradiation of the polarized light from the light irradiation unit located in a predetermined section in a direction orthogonal to the conveyance path in the direction along the conveyance path is prevented. The light irradiation apparatus of any one of these.
前記搬送路に沿った方向に複数列の前記光照射部を備えることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の光照射装置。 At least one of the first light irradiation unit group and the second light irradiation unit group is:
The light irradiation apparatus according to claim 1, comprising a plurality of rows of the light irradiation units in a direction along the conveyance path.
前記ワークの搬送路上に設置され、光源からの光を第一の偏光子によって偏光し、光出射口から第一の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第一の光照射装置群において、前記複数の光照射部の光出射口からそれぞれ出射される前記第一の偏光光の前記ワークへの照射を個別に阻止することで、前記第一の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第一の領域を規定するステップと、
前記搬送路上において前記第一の光照射部群に並設され、光源からの光を前記第一の偏光子とは異なる方向の透過軸を有する第二の偏光子によって偏光し、光出射口から第二の偏光光を照射する複数の光照射部を備える第二の光照射部群において、前記複数の光照射部の光出射口からそれぞれ出射される前記第二の偏光光の前記ワークへの照射を個別に阻止することで、前記第二の偏光光により光配向されるべき前記ワーク上の第二の領域を規定するステップと、
前記ワークをステージによって前記搬送路に沿って搬送し、前記ワーク上の前記第一の領域に前記第一の偏光光を照射し、前記ワーク上の前記第二の領域に前記第二の偏光光を照射するステップと、を含むことを特徴とする光照射方法。
A light irradiation method for performing photo-alignment by irradiating polarized light to a work on which a photo-alignment film is formed,
In the first light irradiation device group including a plurality of light irradiation units installed on the conveyance path of the workpiece, polarizing light from a light source with a first polarizer, and irradiating the first polarized light from a light exit port. The workpiece to be photo-oriented by the first polarized light by individually blocking the irradiation of the first polarized light respectively emitted from the light exit ports of the plurality of light irradiation sections. Defining the first region above;
The light from the light source is arranged in parallel with the first light irradiation unit group on the transport path, and is polarized by a second polarizer having a transmission axis in a direction different from that of the first polarizer. In the second light irradiation unit group including a plurality of light irradiation units that irradiate the second polarized light, the second polarized light respectively emitted from the light emission ports of the plurality of light irradiation units to the workpiece. Defining a second region on the workpiece to be photo-aligned by the second polarized light by individually blocking irradiation;
The work is transported along the transport path by a stage, the first polarized light is irradiated onto the first area on the work, and the second polarized light is applied to the second area on the work. And irradiating with a light irradiation method.
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