JP2018014512A - スペクトルの等高線図のピーク位置と時間の関係を使用する終点方法 - Google Patents
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Abstract
Description
正規化スペクトル=(A−Dark)/(Si−Dark)
上式で、Aは生スペクトルであり、Darkは暗条件下で得られるスペクトルであり、Siはベアシリコン基板から得られるスペクトルである。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
(態様1)
コンピュータ可読媒体上で明確に具体化されたコンピュータプログラム製品であり、
研磨中に監視すべき選択されたスペクトル特徴の識別情報および選択されたスペクトル特徴の特性を受け取る命令と、
基板が研磨されている間に基板から反射された光の一連のスペクトルを測定し、研磨中に材料が除去されるため、一連のスペクトルの少なくとも一部が異なる命令と、
一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する一連の値を生成する命令と、
一連の値に対応する命令と、
関数に基づいて研磨終点または研磨速度に対する調整の少なくとも1つを判定する命令と
を含むコンピュータプログラム製品。
(態様2)
選択されたスペクトル特徴が、スペクトルピーク、スペクトルの谷、またはスペクトルのゼロ交差を含み、特性が、波長、幅、または強度を含む、態様1に記載のコンピュータプログラム製品。
(態様3)
選択されたスペクトル特徴がスペクトルピークを含み、特性がピーク幅を含む、態様2に記載のコンピュータプログラム製品。
(態様4)
研磨終点を判定する命令が、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の差を計算し、差がターゲット差に到達すると研磨を終了することを含む、態様1に記載のコンピュータプログラム製品。
(態様5)
研磨終点を判定する命令が、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の第1の差を計算し、初期値とターゲット値の第2の差を計算し、第1の差と第2の差の重み付きの組合せを生成し、重み付きの組合せがターゲット値に到達すると研磨を終了することを含む、態様1に記載のコンピュータプログラム製品。
(態様6)
光の一連のスペクトルが、基板の第1の部分からのものであり、基板が研磨されている間に基板の第2の部分から反射された光の第2の一連のスペクトルを測定する命令と、
第2の一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する第2の一連の値を生成する命令と、
一連の値に第2の関数を対応させる命令と
をさらに含み、
研磨速度に対する調整を判定する命令が、第1の関数の勾配を使用して基板の第1の部分に対する第1の推定研磨終点時間を計算し、第2の関数の勾配を使用して基板の第2の部分に対する第2の推定研磨終点時間を計算し、第1の部分と第2の部分がほぼ同じ時間に研磨を完了するように、第1または第2の部分の研磨速度を調整することを含む、態様1に記載のコンピュータプログラム製品。
(態様7)
関数が時間の1次関数である、態様1に記載のコンピュータプログラム製品。
(態様8)
研磨方法であって、
基板を研磨するステップと、
研磨中に監視すべき選択されたスペクトル特徴の識別情報および選択されたスペクトル特徴の特性を受け取るステップと、
基板が研磨されている間に基板から反射された光の一連のスペクトルを測定するステップであって、研磨中に材料が除去されるため、一連のスペクトルの少なくとも一部が異なるステップと、
一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する一連の値を生成するステップと、
一連の値に対応するステップと、
関数に基づいて研磨終点または研磨速度に対する調整の少なくとも1つを判定するステップと
を含む方法。
(態様9)
選択されたスペクトル特徴が、スペクトルピーク、スペクトルの谷、またはスペクトルのゼロ交差を含み、特性が、波長、幅、または強度を含む、態様8に記載の方法。
(態様10)
選択されたスペクトル特徴がスペクトルピークを含み、特性がピーク幅を含む、態様9に記載の方法。
(態様11)
研磨終点を判定するステップが、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の差を計算し、差がターゲット差に到達すると研磨を終了することを含む、態様8に記載の方法。
(態様12)
研磨終点を判定するステップが、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の第1の差を計算し、初期値とターゲット値の第2の差を計算し、第1の差と第2の差の重み付きの組合せを生成し、重み付きの組合せがターゲット値に到達すると研磨を終了することを含む、態様8に記載の方法。
(態様13)
光の一連のスペクトルが、基板の第1の部分からのものであり、基板が研磨されている間に基板の第2の部分から反射された光の第2の一連のスペクトルを測定するステップと、
第2の一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する第2の一連の値を生成するステップと、
一連の値に第2の関数を対応させるステップと
をさらに含み、
研磨速度に対する調整を判定するステップが、第1の関数の勾配を使用して基板の第1の部分に対する第1の推定研磨終点時間を計算し、第2の関数の勾配を使用して基板の第2の部分に対する第2の推定研磨終点時間を計算し、第1の部分と第2の部分がほぼ同じ時間に研磨を完了するように、第1または第2の部分の研磨速度を調整することを含む、態様8に記載の方法。
(態様14)
関数が時間の1次関数である、態様12に記載の方法。
(態様15)
研磨中に監視すべきスペクトル特徴および選択されたスペクトル特徴の特性の識別を支援する方法であって、
試験基板を研磨するステップと、
基板が研磨されている間に基板から反射された光の一連のスペクトルを測定し、研磨中に材料が除去されるため、一連のスペクトルの少なくとも一部が異なるステップと、
一連のスペクトルを等高線図として視覚的に表示するステップと
を含む方法。
(態様16)
等高線図が、強度値の色分けまたは強度値の3Dプロットを含む、態様15に記載の方法。
Claims (16)
- コンピュータ可読媒体上で明確に具体化されたコンピュータプログラム製品であり、
研磨中に監視すべき選択されたスペクトル特徴の識別情報および選択されたスペクトル特徴の特性を受け取る命令と、
基板が研磨されている間に基板から反射された光の一連のスペクトルを測定し、研磨中に材料が除去されるため、一連のスペクトルの少なくとも一部が異なる命令と、
一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する一連の値を生成する命令と、
一連の値に対応する命令と、
関数に基づいて研磨終点または研磨速度に対する調整の少なくとも1つを判定する命令と
を含むコンピュータプログラム製品。 - 選択されたスペクトル特徴が、スペクトルピーク、スペクトルの谷、またはスペクトルのゼロ交差を含み、特性が、波長、幅、または強度を含む、請求項1に記載のコンピュータプログラム製品。
- 選択されたスペクトル特徴がスペクトルピークを含み、特性がピーク幅を含む、請求項2に記載のコンピュータプログラム製品。
- 研磨終点を判定する命令が、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の差を計算し、差がターゲット差に到達すると研磨を終了することを含む、請求項1に記載のコンピュータプログラム製品。
- 研磨終点を判定する命令が、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の第1の差を計算し、初期値とターゲット値の第2の差を計算し、第1の差と第2の差の重み付きの組合せを生成し、重み付きの組合せがターゲット値に到達すると研磨を終了することを含む、請求項1に記載のコンピュータプログラム製品。
- 光の一連のスペクトルが、基板の第1の部分からのものであり、基板が研磨されている間に基板の第2の部分から反射された光の第2の一連のスペクトルを測定する命令と、
第2の一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する第2の一連の値を生成する命令と、
一連の値に第2の関数を対応させる命令と
をさらに含み、
研磨速度に対する調整を判定する命令が、第1の関数の勾配を使用して基板の第1の部分に対する第1の推定研磨終点時間を計算し、第2の関数の勾配を使用して基板の第2の部分に対する第2の推定研磨終点時間を計算し、第1の部分と第2の部分がほぼ同じ時間に研磨を完了するように、第1または第2の部分の研磨速度を調整することを含む、請求項1に記載のコンピュータプログラム製品。 - 関数が時間の1次関数である、請求項1に記載のコンピュータプログラム製品。
- 研磨方法であって、
基板を研磨するステップと、
研磨中に監視すべき選択されたスペクトル特徴の識別情報および選択されたスペクトル特徴の特性を受け取るステップと、
基板が研磨されている間に基板から反射された光の一連のスペクトルを測定するステップであって、研磨中に材料が除去されるため、一連のスペクトルの少なくとも一部が異なるステップと、
一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する一連の値を生成するステップと、
一連の値に対応するステップと、
関数に基づいて研磨終点または研磨速度に対する調整の少なくとも1つを判定するステップと
を含む方法。 - 選択されたスペクトル特徴が、スペクトルピーク、スペクトルの谷、またはスペクトルのゼロ交差を含み、特性が、波長、幅、または強度を含む、請求項8に記載の方法。
- 選択されたスペクトル特徴がスペクトルピークを含み、特性がピーク幅を含む、請求項9に記載の方法。
- 研磨終点を判定するステップが、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の差を計算し、差がターゲット差に到達すると研磨を終了することを含む、請求項8に記載の方法。
- 研磨終点を判定するステップが、関数から特性の初期値を計算し、関数から特性の現在値を計算し、初期値と現在値の第1の差を計算し、初期値とターゲット値の第2の差を計算し、第1の差と第2の差の重み付きの組合せを生成し、重み付きの組合せがターゲット値に到達すると研磨を終了することを含む、請求項8に記載の方法。
- 光の一連のスペクトルが、基板の第1の部分からのものであり、基板が研磨されている間に基板の第2の部分から反射された光の第2の一連のスペクトルを測定するステップと、
第2の一連のスペクトル内のそれぞれのスペクトルに対する選択されたスペクトル特徴の特性の値を判定して、特性に対する第2の一連の値を生成するステップと、
一連の値に第2の関数を対応させるステップと
をさらに含み、
研磨速度に対する調整を判定するステップが、第1の関数の勾配を使用して基板の第1の部分に対する第1の推定研磨終点時間を計算し、第2の関数の勾配を使用して基板の第2の部分に対する第2の推定研磨終点時間を計算し、第1の部分と第2の部分がほぼ同じ時間に研磨を完了するように、第1または第2の部分の研磨速度を調整することを含む、請求項8に記載の方法。 - 関数が時間の1次関数である、請求項12に記載の方法。
- 研磨中に監視すべきスペクトル特徴および選択されたスペクトル特徴の特性の識別を支援する方法であって、
試験基板を研磨するステップと、
基板が研磨されている間に基板から反射された光の一連のスペクトルを測定し、研磨中に材料が除去されるため、一連のスペクトルの少なくとも一部が異なるステップと、
一連のスペクトルを等高線図として視覚的に表示するステップと
を含む方法。 - 等高線図が、強度値の色分けまたは強度値の3Dプロットを含む、請求項15に記載の方法。
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