JP2018014450A - ウェーハの加工方法 - Google Patents
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 27
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 4
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
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Abstract
Description
図3に示すように、フレーム1と一体となったウェーハWを保持する保持手段10によってウェーハWを保持するとともに、保持手段10によって保持されたウェーハWを研削手段20によって研削して薄化する。保持手段10は、ウェーハWを保持する保持面11aを有する保持テーブル11と、保持テーブル11の周縁に配設されたクランプ手段12とを備えている。
図4に示すように、レーザビーム照射手段30を用いて、ウェーハWの裏面Wb側からレーザビームを照射し、図1に示した分割予定ラインSに沿ってウェーハWの内部に分割起点となる改質層3を形成する。レーザビーム照射手段30は、レーザビームを集光するための集光器31と、ウェーハWに対して透過性を有する波長のレーザビームLB1を発振する発振器とを少なくとも備えている。レーザビーム照射手段30は、上下方向に移動可能となっており、上下に集光器31を移動させてレーザビームLB1の集光位置を調整することができる。
分割起点形成ステップを実施した後、図6に示すように、ウェーハWの裏面Wbに接着層4を形成する。接着層4は、例えば、ポリイミド系の樹脂、エポキシ系の樹脂、アクリル系の樹脂等により構成されるシート状のダイアタッチフィルム(DAF)と称される接着フィルムである。かかる接着フィルムをウェーハWの裏面Wbの全面に貼着して接着層4を形成する。また、液状のダイアタッチ剤をウェーハWの裏面Wbの全面に塗布することによって接着層4を構成してもよい。
接着層形成ステップを実施した後、保持手段10の上方側に配置されるカメラ40により分割起点となる改質層3を検出し、検出した分割起点に沿って接着層4を分断する。カメラ40は、例えばIRカメラにより構成されている。カメラ40では、レンズが向く方向に不透明体が存在しても、赤外光によって不透明体を透過させウェーハWの内部を撮像することが可能となっている。かかるカメラ40は、ウェーハWの裏面Wb側から撮像することにより、接着層4を透過してウェーハWの内部に形成された改質層3を検出する。
接着層分断ステップを実施した後、図10に示すように、分割手段60を用いてエキスパンドシート2を拡張させウェーハWを個々のデバイスチップCに分割する。分割手段60は、図10(a)に示すように、ウェーハWを保持する保持テーブル61と、保持テーブル61の外周側に配設されフレーム1が載置されるフレーム載置台62と、フレーム載置台62に連設される軸部63と、軸部63を中心として回転しフレーム載置台62に載置されたフレーム1をクランプするクランプ部64と、フレーム載置台62の下部に連結されフレーム載置台62を上下方向に昇降させる昇降手段65とを備えている。昇降手段65は、シリンダ65aと、シリンダ65aにより昇降駆動されるピストン65bとにより構成され、ピストン65bが上下に移動することにより、フレーム載置台62を昇降させることができる。
また、分割起点形成ステップを実施する前または後にウェーハを薄化する薄化ステップを実施するため、あらかじめウェーハWを所望の厚みに薄化してから、ウェーハWの裏面Wbに接着層4を形成し、その後、接着層4の分断とウェーハWの分割とを順次行うことができ、効率よくウェーハWを個々のデバイスチップCに分割することができる。
6:隙間 10:保持手段 11:保持テーブル 11a:保持面 12:クランプ手段
13:載置部 14:軸部 15:クランプ部
20:研削手段 21:スピンドル 22:マウント 23:研削ホイール
24:研削砥石
30,30a:レーザビーム照射手段 31:集光器
40:カメラ 50:切削手段 51:スピンドル 52:切削ブレード
60:分割手段 61:保持テーブル 62:フレーム載置台 63:軸部
64:クランプ部 65:昇降手段 65a:シリンダ 65b:ピストン
Claims (2)
- 交差する複数の分割予定ラインで区画された各領域にそれぞれデバイスが形成されたウェーハの加工方法であって、
ウェーハの該分割予定ラインに沿って分割起点を形成する分割起点形成ステップと、
該分割起点形成ステップを実施した後、ウェーハの裏面に接着層を形成する接着層形成ステップと、
該接着層形成ステップを実施した後、該分割起点を検出し、検出した該分割起点に沿って該接着層を分断する接着層分断ステップと、
該接着層分断ステップを実施した後、ウェーハを該分割予定ラインに沿って分割するウェーハ分割ステップと、を備えたウェーハの加工方法。 - 前記分割起点形成ステップを実施する前または後にウェーハを薄化する薄化ステップを備えた請求項1記載のウェーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016144365A JP2018014450A (ja) | 2016-07-22 | 2016-07-22 | ウェーハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016144365A JP2018014450A (ja) | 2016-07-22 | 2016-07-22 | ウェーハの加工方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018014450A true JP2018014450A (ja) | 2018-01-25 |
Family
ID=61020999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016144365A Pending JP2018014450A (ja) | 2016-07-22 | 2016-07-22 | ウェーハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2018014450A (ja) |
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JP2020178064A (ja) * | 2019-04-19 | 2020-10-29 | 株式会社ディスコ | チップの製造方法 |
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JP2006352022A (ja) * | 2005-06-20 | 2006-12-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 接着フィルムの分離方法 |
JP2013214600A (ja) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | 接着フィルム付きチップの形成方法 |
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