JP2018014431A - 配線基板及び配線基板、半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
実施例では、まず、支持体12の主面12a上に剥離層13を形成した。支持体12として、ガラス(OA−10G(日本電気硝子株式会社製)、1.1mm厚)を使用した。支持体12の線膨張係数は、約4ppm/℃であった。支持体12の主面12a上の剥離層13は、3M Light−To−Heat−Conversion(LTHC)Release Coating(住友スリーエム株式会社製)を用いて形成した。剥離層13は、スピンコート法により形成した。
次に、得られた配線基板11を小片化し、小片化後の配線基板11に半導体チップ22を搭載した。半導体チップ22には、Cuポストの先端にSn−3.5Agはんだ層を形成した突起電極23を有しているものを用いた。また、半導体チップ22の線膨張係数は、約3ppm/℃であった。配線基板11には予めアンダーフィル24を供給しておいた。半導体チップ22の突起電極23と配線基板11の接続端子19との位置合わせを行った後、半導体チップ22を配線基板11に圧着させ、加熱した。この後、半導体チップ22を含む配線基板11の上面を、トランスファーモールド法により、モールド樹脂25を用いて封止した。そして、配線基板11の支持体12側より、直線的に往復させながら支持体全体に1064nmのYAGレーザーを照射し、支持体12を配線基板11より取り除いた。
上記のようにして作成された半導体装置1について、X線透視装置(株式会社ユニハイトシステム製、XVA−160α)にて観察を行った。半導体装置1を観察した結果、半導体チップ22の突起電極23と配線基板11の接続端子19との間には、設計値から約3μmの位置ずれが生じていた。ここで、半導体装置の形成に用いられる配線基板の支持体として、樹脂の中で線膨張係数が比較的低いポリイミド製の支持体を用いた場合、半導体チップの突起電極と当該配線基板の接続端子との間には、通常、設計値から約15μmの位置ずれが生じる。このような支持体の材質による位置ずれの違いは、ポリイミド製の支持体の線膨張係数は約12〜50ppm/℃であり、半導体チップの線膨張係数(約2〜4ppm/℃)と大きく異なるからだと考えられる。したがって、配線基板にガラス製の支持体を用いた方が、樹脂製の支持体を用いるよりも、半導体チップと配線基板との間に発生する位置ずれが小さくなっていることが確認できた。
11 配線基板
12 支持体
13 剥離層
14 第1樹脂層
15 シード層
16 レジスト
17 配線パターン
18 第2樹脂層
19 接続端子
20 接続パッド
21 積層体
22 半導体チップ
23 突起電極
24 アンダーフィル
25 モールド樹脂
31 外部接続端子
32 ダイシングテープ
S ガラススクライバー
L レーザー光
Claims (12)
- 透明性を有する支持体と、
前記支持体の主面上の一部分に設けられた、光の照射により分解可能な樹脂からなる剥離層と、
前記剥離層上に設けられた第1樹脂層、
前記第1樹脂層上に設けられた第2樹脂層、及び
少なくとも前記第1樹脂層及び第2樹脂層の間に設けられた配線パターンを有する積層体とを含み、
前記配線パターンの一部分が前記支持体に接触している配線基板。 - 前記支持体の線膨張係数は、−1ppm/℃以上10ppm/℃以下である、請求項1に記載の配線基板。
- 前記支持体は、ガラス基板である、請求項1又は2に記載の配線基板。
- 前記支持体の前記主面の最大高さ粗さは、0.01μm以上5μm以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記剥離層の厚さは、0.1μm以上10μm以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記積層体の厚さは、0.001mm以上1mm以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記第1樹脂層を感光性樹脂を用いて形成する工程を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載される配線基板を準備する工程と、
前記配線基板の前記積層体に半導体チップを搭載すると共に、前記配線パターンに前記半導体チップを接合する工程と、
前記支持体を介して前記剥離層に光を照射することによって、前記支持体を前記積層体から剥離する工程と、を備える半導体装置の製造方法。 - 前記光は、レーザー光である、請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記配線パターンに接合された前記半導体チップを封止樹脂で覆う工程を更に備える請求項8又は9に半導体装置の製造方法。
- 前記配線基板を切断して小片化する工程を更に備える請求項8〜10のいずれか一項に半導体装置の製造方法。
- 前記支持体を積層体から剥離する工程後、前記積層体に外部接続端子を設ける工程と、
前記積層体を切断して個片化する工程と、を更に備える請求項8〜11のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
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