JP2017532429A - 導電性透明層の製造のための銀ナノワイヤーおよびスチレン/(メタ)アクリル酸コポリマーを含む組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
(i)1種または複数のマトリックス形成用結合剤、
(ii)導電性ナノオブジェクトおよび
(iii)任意に補助成分
を含む組成物を基材の表面に塗布し、25℃および101.325kPaで液体である成分(以下、液体状成分と呼ぶ)を、前記基材の前記表面に塗布された前記組成物から、25℃および101.325kPaで固体である塗布された組成物の成分(以下、固体状成分と呼ぶ)を含む導電性透明層が前記基材の前記表面上に形成される程度まで除去することによって製造される。導電性透明層の製造のためのこのような組成物は一般的に、インキと呼ぶ。
(a)導電性粒子、好ましくは銀粒子、より好ましくは銀フレーク
(b)スチレン/(メタ)アクリル酸コポリマー
(c)アニオン性湿潤剤
(d)消泡剤および
(e)水
を含む組成物を開示している。
以下の成分、
(A)水と、
(B)1nmから100nmの範囲の2つの外形寸法および1μmから100μmの範囲の第3の外形寸法を有しており、
質量分率が、組成物の総質量に対して0.01質量%から1質量%の範囲である、
導電性ナノオブジェクトと、
(C)500g/molから22000g/molの範囲の数平均分子量をそれぞれが有しており、
総質量分率が、組成物の総質量に対して0.02質量%から5質量%の範囲である、水に溶解した1種または複数のスチレン/(メタ)アクリル酸コポリマーと
を含む本発明による組成物によって達成される。
共重合された形態の
− モノアルケニル芳香族モノマーMC1に由来する単位C1および
− (メタ)アクリル酸モノマーMC2に由来する単位C2
を含み、またはこれらの単位からなる。
R2は、他の各単位C1のR2から独立に、ハロゲン(好ましくは、塩素)およびアルキル(好ましくは、メチル)からなる群より選択され、R2は、オルト、メタおよびパラからなる群より選択される部位に位置する。)
を有する。
R4は、他の各単位C2のR4から独立に、
− COOHと、
− COOX(式中、Xは、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオンおよび置換アンモニウムカチオンから選択されるカチオンである)と、
− CNと、
− COOR5(式中、R5は、分岐および非分岐アルキル基、分岐および非分岐アルケニル基、分岐および非分岐アルキニル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アラルケニル基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基、イソプロピリデングリセリル基、グリシジル基およびテトラヒドロピラニル基からなる群より選択され、前記分岐および非分岐アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、ヒドロキシ基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン基、スルホ基、ニトロ基、オキサゾリジニル基、モノアルキルアミノ基およびジアルキルアミノ基からなる群より選択される1つまたは複数の基によって置換された分岐および非分岐アルキル基を含む)と、
− CHOと、
− NR6R7(式中、R6およびR7は、水素、アルキルおよびフェニルからなる群より独立に選択される)と
からなる群より選択される)
を有する。
R2は、他の各モノマーMC1のR2から独立に、ハロゲン(好ましくは、塩素)およびアルキル(好ましくは、メチル)からなる群より選択され、R2は、オルト、メタおよびパラからなる群より選択される部位に位置する)
を有する1種類または複数の種類のモノアルケニル芳香族モノマーMC1と、
式
R4は、他の各単位C1のR4から独立に、
− COOHと、
− COOX(式中、Xは、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオンおよび置換アンモニウムカチオンから選択されるカチオンである)と、
− CNと、
− COOR5(式中、R5は、分岐および非分岐アルキル基、分岐および非分岐アルケニル基、分岐および非分岐アルキニル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アラルケニル基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基、イソプロピリデングリセリル基、グリシジル基およびテトラヒドロピラニル基からなる群より選択され、前記分岐および非分岐アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、ヒドロキシ基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン基、スルホ基、ニトロ基、オキサゾリジニル基、モノアルキルアミノ基およびジアルキルアミノ基からなる群より選択される1つまたは複数の基によって置換されたアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基を含む)と、
− CHOと、
−NR6R7(式中、R6およびR7は、水素、アルキルおよびフェニルからなる群より独立に選択される)と
からなる群より選択される)
を有する1種類または複数の種類の(メタ)アクリル酸モノマーMC2との共重合によって得ることができる。
(D)10nmから1000nmの範囲の平均直径を有しており、25000g/mol以上の数平均分子量を有する、水中に分散されたポリマーの粒子と、
(E)80nmから300nmの範囲の長さおよび5nmから30nmの範囲の直径を有する水中に分散された結晶性セルロースの繊維と、
(F)ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンスルホン酸およびデキストランからなる群より選択される水に溶解した1種または複数の水溶性ポリマーと
からなる群より選択される。
(D)10nmから1000nmの範囲の最大寸法を有しており、25000g/mol以上の数平均分子量を有する、水中に分散されたポリマーの粒子
を含み、またはこれらの成分からなり、
さらなる追加の結合剤を含まず、
組成物の総質量に対する前記粒子(D)の総質量分率は、組成物の総質量に対する前記溶解したコポリマー(C)の総質量分率以下である。
(E)80nmから300nmの範囲の長さおよび5nmから30nmの範囲の直径を有する水中に分散された結晶性セルロースの繊維
を含み、またはこれらの成分からなり、
さらなる追加の結合剤を含まず、
組成物の総質量に対して前記繊維(E)の質量分率が、組成物の総質量に対して前記溶解したコポリマー(C)の総質量分率以下である。
(F)上記に規定の1種または複数の水溶性ポリマー
を含み、またはこれらの成分からなり、
さらなる追加の結合剤を含まず、
組成物の総質量に対して前記1種または複数の水溶性ポリマー(F)の総質量分率が、組成物の総質量に対して前記溶解したコポリマー(C)の総質量分率以下である。
(B)10μmから50μmの範囲の長さおよび3nmから30nmの範囲の直径を有しており、組成物の総質量に対して0.5質量%以下の質量分率である、銀ナノワイヤーと、
(C)1700g/molから15500g/molの範囲の数平均分子量を有しており、質量分率が、組成物の総質量に対して2質量%未満、好ましくは1.5質量%以下である、水に溶解したスチレン/(メタ)アクリル酸コポリマーと
を含み、またはこれらからなる、本発明による組成物であって、
前記銀ナノワイヤー(B)の総質量と、
前記溶解したコポリマー(C)の質量と
の比が、1:5から5:1の範囲である、
組成物が特に好ましい。
上記に規定の本発明による組成物を製造または用意する工程と、
基材の表面に前記組成物を塗布する工程と、
25℃および101.325kPaで液体である成分を、前記基材の前記表面に塗布された前記組成物から、前記基材の前記表面上に層が形成される程度まで除去する工程と
を含む。
− ASTM D1003(手順A)に従って測定して1%以下のヘイズ、
− 4点プローブによって測定して100オーム/スクウェア以下のシート抵抗、
− ASTM D1003(手順A)に従って測定して90%以上の光透過率。
− ASTM D1003(手順A)に従って測定して1%以下のヘイズおよび
− 4点プローブによって測定して100オーム/スクウェア以下のシート抵抗および
− ASTM D1003(手順A)に従って測定して90%以上の光透過率。
1.1 追加の結合剤を含まない組成物
銀ナノワイヤー(上記に規定のナノオブジェクト(B))の水性分散物および上記に規定のスチレン/アクリル酸コポリマー(C)(Joncryl60、BASFから市販)の水溶液を、表1に示した銀ナノワイヤーの濃度および銀ナノワイヤー(B)の溶解したコポリマー(C)に対する質量比を有するインキを得るように混合する。
銀ナノワイヤー(上記に規定のナノオブジェクト(B))の水性分散物、および、追加の結合剤をさらに含む上記に規定のスチレン/アクリル酸コポリマー(C)(Joncryl60、BASFから市販)の水溶液を、表2に示した銀ナノワイヤーの濃度ならびに銀ナノワイヤー(B)の溶解したコポリマー(C)および追加の結合剤に対する質量比を有するインキを得るように混合する。
銀ナノワイヤー(上記に規定のナノオブジェクト(B))の水性分散物および上記に規定のスチレン/アクリル酸コポリマー(C)(Joncryl60、BASFから市販)の水溶液を、表3に示した銀ナノワイヤーの濃度および銀ナノワイヤー(B)の溶解したコポリマー(C)に対する質量比を有するインキを得るように混合する。インキを30分ボールミル粉砕して、均一化を改良する。
3.1 ガラス基材上へのスピンコーティング
銀ナノワイヤー(上記に規定のナノオブジェクト(B))の水性分散物および上記に規定のスチレン/アクリル酸コポリマー(C)(Joncryl60、BASFから市販)の水溶液を、2.5mg/mlの銀ナノワイヤーの濃度および銀ナノワイヤー(B)の溶解したコポリマー(C)に対する質量比1:2を有するインキを得るように混合する。
上記に記載の実施例35の導電性層には、上記に記載の付着試験を施した。剥離手順は、はく離工程の総数が8回になるように繰り返す。乾燥済みの導電性層段階の(上記に規定の)シート抵抗を、1回目のはく離工程の前および8回目のはく離工程の後に4点プローブステーション(Lucas lab pro−4)によって測定する。表5から分かるように、シート抵抗は、8回のはく離工程の完了後に著しく変化していなかった。したがって、層は、基材への強固な付着を有する。
上記に提供の例は、(上記に規定の)本発明による組成物が、
− ASTM D1003に従って測定して80%以上、好ましい実施形態において90%以上の光透過率と、
− 1000オーム/スクウェア以下、好ましい実施形態において100オーム/スクウェア未満のシート抵抗と、
− 好ましい実施形態においてASTM D1003に従って測定して2%以下、さらなる好ましい実施形態において1.5%以下、特に好ましい実施形態において1%以下のヘイズと、
− 基材への強固な付着と
を有する導電性透明層の製造に適していることを示している。
Claims (17)
- (A)水と、
(B)1nmから100nmの範囲の2つの外形寸法および1μmから100μmの範囲の第3の外形寸法を有し、質量分率が、組成物の総質量に対して0.01質量%から1質量%の範囲である導電性ナノオブジェクト(B)と、
(C)500g/molから22000g/molの範囲の数平均分子量をそれぞれ有する、水に溶解した1種または複数のスチレン/(メタ)アクリル酸コポリマー(C)であって、総質量分率が、組成物の総質量に対して0.02質量%から5質量%の範囲である溶解したコポリマー(C)と、
を含む組成物。 - 前記導電性ナノオブジェクト(B)が、1μmから100μmの範囲の長さ、および
1nmから100nmの範囲の直径を有する、請求項1に記載の組成物。 - 前記導電性ナノオブジェクト(B)が、銀、銅、金および炭素からなる群より選択される1種または複数の材料を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記導電性ナノオブジェクト(B)が、ナノワイヤーおよびナノチューブからなる群より選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記導電性ナノオブジェクト(B)の総質量と、前記溶解したコポリマー(C)の総質量との比が、1:20から20:1の範囲である、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。
- 1種または複数の追加の結合剤をさらに含み、
組成物の総質量に対して前記追加の結合剤の総質量分率が、組成物の総質量に対して前記溶解したコポリマー(C)の総質量分率以下である、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物。 - (A)水と、
(B)10μmから50μmの範囲の長さおよび3nmから30nmの範囲の直径を有し、質量分率が、組成物の総質量に対して0.5質量%以下である、銀ナノワイヤー(B)と、
(C)1700g/molから15500g/molの範囲の数平均分子量を有し、質量分率が、組成物の総質量に対して2質量%未満であり、好ましくは1.5質量%以下である、水に溶解したスチレン/(メタ)アクリル酸コポリマー(C)と、
を含み、
前記銀ナノワイヤー(B)の総質量と、前記溶解したコポリマー(C)の質量との比が、1:5から5:1の範囲である、請求項1から6のいずれか一項に記載組成物。 - ASTM D1003(手順A)に従って測定して80%以上の光透過率を有する導電性層を基材上に製造するための方法であって、
請求項1から7のいずれか一項に記載の組成物を製造または用意する工程、
基材の表面に前記組成物を塗布する工程、及び
25℃および101.325kPaで液体である成分を、前記基材の前記表面に塗布された前記組成物から、前記基材の前記表面上に層が形成される程度まで除去する工程、
を含む方法。 - 前記基材の前記表面に前記組成物を塗布することが、スピンコーティング、ドローダウンコーティング、ロールツーロールコーティング、グラビア印刷、マイクログラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷およびスロットダイコーティングからなる群より選択される技法によって実施される、請求項8に記載の方法。
- 前記基材が、ガラスおよび有機ポリマーからなる群より選択される材料を含む、請求項8または9に記載の方法。
- 前記基材の前記表面に塗布された前記組成物から、25℃および101.325kPaで液体の成分を、前記基材の前記表面に塗布された前記組成物を15分以下の持続期間にわたって100℃から150℃の範囲の温度に暴露すことによって除去する、請求項8から10のいずれか一項に記載の方法。
- 25℃および101.325kPaで固体である請求項1から7に記載の組成物の成分を含む、ASTM D1003(手順A)に従って測定して80%以上の光透過率を有する導電性層。
- − ASTM D1003(手順A)に従って測定して2%以下のヘイズおよび
− 4点プローブによって測定して1000オーム/スクウェア以下のシート抵抗
を示す、請求項12に記載の導電性層。 - − ASTM D1003(手順A)に従って測定して1%以下のヘイズと、
− 4点プローブによって測定して100オーム/スクウェア以下のシート抵抗と、
− ASTM D1003(手順A)に従って測定して90%以上の光透過率と
のうちの1つまたは複数を示す、請求項12または13に記載の導電性層。 - − 表面を有する基材および
− 前記基材の前記表面の少なくとも一部の上に配設された請求項12から14のいずれか一項に記載の導電性層
を含む物品。 - 前記導電性層が、10nmから1000nmまで、好ましくは50nmから500nmの範囲の厚さを有する、請求項15に記載の物品。
- − 請求項12から14のいずれか一項に記載の導電性層と、
− 請求項15または16に記載の物品と
から選択される品物の製造のために、請求項1から7のいずれか一項に記載の組成物を使用する方法。
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