JP2017524153A - リソグラフィ装置及び物体位置決めシステム - Google Patents
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- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
Abstract
Description
[0001] 本願は、2014年8月6日に出願した欧州特許出願第14179972.6号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
(基板W/基板ホルダ30の縁部より半径方向外側の)第1ドレイン10の主な機能は、液体閉じ込め構造IHによって囲われた液体が存在する空間11にガス気泡が入ることを防止するのに役立つ。このような気泡は、基板Wの結像に有害な影響をもたらし得る。第1ドレイン10は、ギャップ5内のガスが液体閉じ込め構造IH内の空間11内へと漏れることを回避するのに役立つために存在する。ガスが空間11内へと漏れた場合、これは空間11内に浮く気泡へと繋がり得る。投影ビームの経路内に気泡があった場合、これは結像エラーへと繋がり得る。第1ドレイン10は、基板Wの縁部と基板Wが配置された基板テーブルWT内の凹部の縁部との間のギャップ5からガスを取り除くように構成される。基板テーブルWT内の凹部の縁部は、基板テーブルWTの支持体から任意に離れたカバーリング130によって定めることができる。カバーリング130は、平面図にて、リングとして形作られ、基板Wの外縁部を囲ってもよい。第1ドレイン10は、大部分はガス(例えば、1分毎に20〜100ノルマルリットル(Nl/min))及び僅か少量の液浸液(例えば、約10〜20ml/min)を抽出する。そのような二相流では、液浸液の一部が蒸発し、したがって、基板Wの縁部を囲う基板テーブルWTを冷却する。すなわち、二相流の蒸発は、チャネルを囲う基板テーブルWTに熱負荷を加えさせる。これは基板テーブルWT及び/又は基板Wの変形をもたらし、最終的にはオーバーレイ性能の低下へと繋がり得る。熱負荷は、物体及び/又は物体テーブルに作用し得る変動負荷の一例である。
Claims (15)
- リソグラフィ装置であって、
物体を支える物体テーブルであって、前記物体テーブルは少なくとも一方向に移動可能であり、動作中に変動負荷が前記物体及び/又は前記物体テーブルに作用して前記物体の一部の変形を引き起こす、物体テーブルと、
前記物体の前記一部の前記変形を表す量に基づいて前記少なくとも一方向の前記物体テーブルの動作を制御する制御システムと
を備える、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
物体を支える物体テーブルであって、動作中に変動負荷が前記物体及び/又は前記物体テーブルに作用して前記物体の一部の変形を引き起こす、物体テーブルと、
投影ビームを用いてパターニングデバイス上のパターンを前記物体上に投影するように構成された投影システムであって、前記物体上の前記投影ビームの配置は、前記物体に対して少なくとも一方向に移動可能である、投影システムと、
前記物体の前記一部の前記変形を表す量に基づいて前記少なくとも一方向の前記物体に対する前記パターンの配置を制御する制御システムと
を備える、リソグラフィ装置。 - 二相流が通過するチャネルを備え、前記チャネルは前記物体テーブル内に形成され、前記チャネルを通る前記二相流は、前記変動負荷を前記物体テーブルに作用させて前記物体の一部の変形を引き起こす、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記二相流の少なくとも1つの特性を測定するために少なくとも1つのセンサを含む測定システムをさらに備え、少なくとも1つの測定される特性は、前記変形を表す量を決定するために使用され、任意選択として、前記測定される特性は、前記二相流の温度、前記二相流の質量流量及び/又は前記二相流の湿度のうちの少なくとも1つであり、前記二相流は、液体流及びガス流を含み、前記測定される特性は、前記液体流及び/又は前記ガス流の測定であり得る、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記物体テーブルの少なくとも1つの特性、前記物体の少なくとも1つの特性、前記リソグラフィ装置内の別の構成部品の少なくとも1つの特性及び/又は前記リソグラフィ装置を囲う環境の少なくとも1つの特性を測定するために少なくとも1つのセンサを含む測定システムをさらに備え、少なくとも1つの測定される特性は、前記変形を表す量を決定するために使用され、任意選択として、前記測定される特性は、前記物体テーブル上又は前記物体テーブル内の配置における前記物体テーブルの温度、前記物体テーブル上又は前記物体テーブル内の配置における前記物体テーブルの歪み、前記物体テーブル上又は前記物体テーブル内の配置における前記物体テーブルの前記温度及び前記歪みの両方、前記リソグラフィ装置を囲う前記環境の温度及び/又は前記リソグラフィ装置を囲う前記環境の湿度のうちの少なくとも1つである、請求項1〜4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 予測器をさらに備え、前記予測器は、前記物体テーブル及び/又は前記物体のモデルに基づいて変形を表す量を決定するように構成され、前記予測器は、少なくとも1つのセンサからの少なくとも1つの測定される特性を使用する、請求項5〜9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 1つ以上のアクチュエータを有するアクチュエータシステム及び位置測定システムをさらに備え、前記位置測定システムは位置センサを含み、前記制御システムは、前記アクチュエータシステムを制御して前記物体テーブルを移動させるように構成され、前記位置センサは、前記物体テーブルの位置の測定を行って前記物体の動作を測定するように構成される、請求項1〜6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 投影システム、基板テーブル及びサポート構造を備え、前記投影システムは、パターニングデバイス上のパターンを基板上に投影するように構成され、前記サポート構造は、前記パターニングデバイスを保持するように構成され、前記基板テーブルは、前記基板を保持するように構成され、前記物体は前記基板を含み、前記物体テーブルは前記基板テーブルを含み、前記物体は前記パターニングデバイスを含み、前記物体テーブルは前記サポート構造を含む、請求項1〜7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
変位測定システムの少なくとも一部を支える物体テーブルであって、前記物体テーブルは少なくとも一方向に移動可能である、物体テーブルと、
変位センサ及びターゲットを含む変位測定システムであって、動作中に変動負荷が前記変位センサ及び/又は前記ターゲットに作用して前記変位センサ及び/又は前記ターゲットのぞれぞれの一部の変形を引き起こす、変位測定システムと、
前記変位測定システムからの出力及び前記変位センサ及び/又は前記ターゲットのそれぞれの一部の変形を表す量に基づいて前記少なくとも一方向の前記物体テーブルの動作を制御する制御システムと
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記変位測定システムは測定システムの一部であり、前記測定システムは、前記変位センサ及び/又は前記ターゲットの少なくとも1つの特性、前記リソグラフィ装置内の別の構成部品の少なくとも1つの特性及び/又は前記リソグラフィ装置を囲う環境の少なくとも1つの特性を測定するために少なくとも1つのセンサを含み、少なくとも1つの測定される特性は、前記変形を表す量を決定するために使用され、任意選択として、前記測定される特性は、前記変位センサ及び/又は前記ターゲットの温度、前記変位センサ及び/又は前記ターゲットの歪み、前記変位センサ及び/又は前記ターゲットの前記温度及び前記歪みの両方、前記リソグラフィ装置を囲う前記環境の温度及び/又は前記リソグラフィ装置を囲う前記環境の湿度のうちの少なくとも1つである、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 予測器をさらに備え、前記予測器は、前記変位センサ及び/又は前記ターゲットのそれぞれのモデルに基づいて変形を表す量を決定するように構成され、前記予測器は、少なくとも1つのセンサからの少なくとも1つの測定される特性を使用する、請求項9又は10に記載のリソグラフィ装置。
- 1つ以上のアクチュエータを有するアクチュエータシステムをさらに備え、前記制御システムは、前記アクチュエータシステムを制御して前記物体テーブルを移動させるように構成され、前記変位センサは、前記物体テーブルの変位の測定を行って前記物体テーブルの動作を測定するように構成される、請求項9〜11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 物体位置決めシステムであって、
物体を支える物体テーブルであって、前記物体テーブルは少なくとも一方向に移動可能であり、動作中に変動負荷が前記物体及び/又は前記物体テーブルに作用して前記物体の一部の変形を引き起こす、物体テーブルと、
前記物体の前記一部の前記変形を表す量に基づいて前記少なくとも一方向の前記物体テーブルの動作を制御する制御システムと
を備える、物体位置決めシステム。 - 物体位置決めシステムであって、
物体を支える物体テーブルであって、動作中に変動負荷が前記物体及び/又は前記物体テーブルに作用して前記物体の一部の変形を引き起こす、物体テーブルと、
投影ビームを用いてパターニングデバイス上のパターンを前記物体上に投影するように構成された投影システムであって、前記物体上の前記投影ビームの配置は、前記物体に対して少なくとも一方向に移動可能である、投影システムと、
前記物体の前記一部の前記変形を表す量に基づいて前記少なくとも一方向の前記物体に対する前記投影ビームの配置を制御する制御システムと
を備える、物体位置決めシステム。 - 物体位置決めシステムであって、
変位測定システムの少なくとも一部を支える物体テーブルであって、前記物体テーブルは少なくとも一方向に移動可能である、物体テーブルと、
変位センサ及びターゲットを含む変位測定システムであって、動作中に変動負荷が前記変位センサ及び/又は前記ターゲットに作用して前記変位センサ及び/又は前記ターゲットのぞれぞれの一部の変形を引き起こす、変位測定システムと、
前記変位測定システムからの出力及び前記変位センサ及び/又は前記ターゲットのそれぞれの一部の変形を表す量に基づいて前記少なくとも一方向の前記物体テーブルの動作を制御する制御システムと
を備える、物体位置決めシステム。
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