JP2017522447A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017522447A5
JP2017522447A5 JP2016565413A JP2016565413A JP2017522447A5 JP 2017522447 A5 JP2017522447 A5 JP 2017522447A5 JP 2016565413 A JP2016565413 A JP 2016565413A JP 2016565413 A JP2016565413 A JP 2016565413A JP 2017522447 A5 JP2017522447 A5 JP 2017522447A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
mixing chamber
cvd
gas flow
flow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016565413A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2017522447A (ja
JP6796491B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102014106523.9A external-priority patent/DE102014106523A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2017522447A publication Critical patent/JP2017522447A/ja
Publication of JP2017522447A5 publication Critical patent/JP2017522447A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6796491B2 publication Critical patent/JP6796491B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2016565413A 2014-05-09 2015-05-07 Ｃｖｄ又はｐｖｄコーティング装置にプロセスガス混合物を供給するための装置及び方法 Active JP6796491B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014106523.9A DE102014106523A1 (de) 2014-05-09 2014-05-09 Vorrichtung und Verfahren zum Versorgen einer CVD- oder PVD-Beschichtungseinrichtung mit einem Prozessgasgemisch
DE102014106523.9 2014-05-09
PCT/EP2015/060017 WO2015169882A1 (de) 2014-05-09 2015-05-07 Vorrichtung und verfahren zum versorgen einer cvd- oder pvd-beschichtungseinrichtung mit einem prozessgasgemisch

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017522447A JP2017522447A (ja) 2017-08-10
JP2017522447A5 true JP2017522447A5 (ko) 2018-06-14
JP6796491B2 JP6796491B2 (ja) 2020-12-09

Family

ID=53199950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016565413A Active JP6796491B2 (ja) 2014-05-09 2015-05-07 Ｃｖｄ又はｐｖｄコーティング装置にプロセスガス混合物を供給するための装置及び方法

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP6796491B2 (ko)
KR (1) KR102413577B1 (ko)
CN (1) CN106457168A (ko)
DE (1) DE102014106523A1 (ko)
TW (1) TWI694168B (ko)
WO (1) WO2015169882A1 (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020020532A (ja) * 2018-08-01 2020-02-06 三菱電機株式会社 温度均一化装置、構造物およびパラボラアンテナ装置
CN110237734A (zh) * 2019-06-10 2019-09-17 中国石油大学(北京) 气体混合器及废气处理装置
US11772058B2 (en) * 2019-10-18 2023-10-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Gas mixing system for semiconductor fabrication
DE102019129176A1 (de) * 2019-10-29 2021-04-29 Apeva Se Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden organischer Schichten
CN110773061B (zh) * 2019-11-05 2021-09-21 浙江工业职业技术学院 一种搅拌装置
CN110917914B (zh) * 2019-12-19 2022-09-16 北京北方华创微电子装备有限公司 气体混合装置及半导体加工设备
DE102020112568A1 (de) 2020-02-14 2021-08-19 AIXTRON Ltd. Gaseinlassorgan für einen CVD-Reaktor
CN111744340A (zh) * 2020-07-02 2020-10-09 天津市英格环保科技有限公司 一种在低温环境下脱硫脱硝的方法
CN111804453B (zh) * 2020-07-21 2021-10-12 宁波诺歌休闲用品有限公司 一种用于铝合金型材的表面喷涂机中的喷涂机构
CN112973483A (zh) * 2021-03-29 2021-06-18 深圳市科曼医疗设备有限公司 一种气体混合装置
CN113430502B (zh) * 2021-06-18 2022-07-22 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及其混合进气装置
CN113813858B (zh) * 2021-11-10 2023-01-31 西安国际医学中心有限公司 一种治疗癌症疼痛膏药制作的混料装置
CN114768578B (zh) * 2022-05-20 2023-08-18 北京北方华创微电子装备有限公司 混气装置及半导体工艺设备

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4408893A (en) * 1982-04-28 1983-10-11 Luwa A.G. Motionless mixing device
JPS5949829A (ja) * 1982-09-14 1984-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 流体混合器およびこれを用いた薄膜装置
US4850705A (en) * 1987-11-18 1989-07-25 Horner Terry A Motionless mixers and baffles
JP3609329B2 (ja) * 1992-09-07 2005-01-12 三菱電機株式会社 窒化膜形成方法
CN1171485A (zh) 1996-03-18 1998-01-28 郑宜智 内燃机用气流旋涡装置及其制造方法
JP3360539B2 (ja) * 1996-07-12 2002-12-24 信越半導体株式会社 ガス供給装置及び気相成長用設備
US6068703A (en) * 1997-07-11 2000-05-30 Applied Materials, Inc. Gas mixing apparatus and method
JPH11293465A (ja) * 1998-04-15 1999-10-26 Ebara Corp Ｃｖｄ装置
US6495233B1 (en) * 1999-07-09 2002-12-17 Applied Materials, Inc. Apparatus for distributing gases in a chemical vapor deposition system
JP4778655B2 (ja) 2000-02-04 2011-09-21 アイクストロン、アーゲー １つまたは多くの被膜を基板に沈積する方法および装置
US20030019428A1 (en) 2001-04-28 2003-01-30 Applied Materials, Inc. Chemical vapor deposition chamber
US6601986B2 (en) * 2001-08-29 2003-08-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Fluid mixing apparatus
JP2003142473A (ja) * 2001-10-31 2003-05-16 Tokyo Electron Ltd ガス供給装置及びガス供給方法、及び成膜装置及び成膜方法
DE60238272D1 (de) * 2001-12-03 2010-12-23 Ulvac Inc Mischer und vorrichtung und verfahren zur herstellung von dünnfilm
US6758591B1 (en) * 2002-03-22 2004-07-06 Novellus Systems, Inc. Mixing of materials in an integrated circuit manufacturing equipment
WO2004073850A1 (en) 2003-02-14 2004-09-02 Tokyo Electron Limited Gas feeding apparatus
WO2006020424A2 (en) * 2004-08-02 2006-02-23 Veeco Instruments Inc. Multi-gas distribution injector for chemical vapor deposition reactors
DE102005003984A1 (de) * 2005-01-28 2006-08-03 Aixtron Ag Gaseinlassorgan für einen CVD-Reaktor
GB0603917D0 (en) * 2006-02-28 2006-04-05 Stein Peter Gas retention vessel
CN201086001Y (zh) * 2007-08-22 2008-07-16 张国栋 静态混合器及其螺旋式混合元件
US8334015B2 (en) * 2007-09-05 2012-12-18 Intermolecular, Inc. Vapor based combinatorial processing
US20090120364A1 (en) 2007-11-09 2009-05-14 Applied Materials, Inc. Gas mixing swirl insert assembly
CN101371975B (zh) * 2008-09-26 2010-06-09 沈阳化工学院 多流道螺旋静态混合器
US9175394B2 (en) 2010-03-12 2015-11-03 Applied Materials, Inc. Atomic layer deposition chamber with multi inject
CN202052481U (zh) * 2010-04-30 2011-11-30 中国人民解放军总装备部后勤部防疫大队 肼类推进剂标准气体发生装置
JP2012030207A (ja) * 2010-08-03 2012-02-16 Soken Kogyo Kk 流体混合器、流体混合輸送路および流体混合方法
KR101829669B1 (ko) * 2011-01-04 2018-02-19 주식회사 원익아이피에스 박막 증착 방법 및 박막 증착 장치
US8485230B2 (en) * 2011-09-08 2013-07-16 Laor Consulting Llc Gas delivery system
US10232324B2 (en) * 2012-07-12 2019-03-19 Applied Materials, Inc. Gas mixing apparatus
CN102974257B (zh) * 2012-12-03 2014-09-17 山西新华化工有限责任公司 动活性检测混合器
DE102013113817A1 (de) * 2012-12-14 2014-06-18 Aixtron Se Gasmischvorrichtung
CN203484064U (zh) * 2013-08-14 2014-03-19 新密港华燃气有限公司 四种气体均匀混合装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017522447A5 (ko)
JP6796491B2 (ja) Ｃｖｄ又はｐｖｄコーティング装置にプロセスガス混合物を供給するための装置及び方法
JP2014240077A5 (ko)
JP2014521506A5 (ko)
WO2016178436A3 (ja) 液体処理ノズル、それを用いた液体処理方法、ガス溶解方法及びガス溶解装置
RU2600901C1 (ru) Форсунка кочетова для распыливания жидкостей
RU2016138770A (ru) Устройство для изменения формы струи текучих продуктов, применение данного устройства и способ изготовления данного устройства
JP2016534312A5 (ko)
JP2013148345A5 (ko)
KR101723315B1 (ko) 포집 장치 및 이것을 구비하는 가스 터빈 플랜트
FI125867B (fi) Suutin nesteen jakoa varten
MX2017002148A (es) Colector para intercambiador de calor de haz de tubos para grandes presiones de producto, metodo para producir intercambiador de calor de haz de tubos que comprende un colector de este tipo y uso de intercambiador de calor de haz de tubos para grandes presiones de producto con un colector de este tipo en instalacion de secado por pulverizacion.
TWI251509B (en) Liquid atomizer
RU2012158332A (ru) Система (варианты) и способ снижения динамики горения в камере сгорания
JP2012524416A5 (ko)
JP2017064099A5 (ko)
EA201990323A1 (ru) Теплообменник "входящий/выходящий поток"
JP2020531244A5 (ko)
EA201900118A1 (ru) Способ и устройство для распределения сыпучего материала во множество линий
WO2014090925A4 (de) Gasmischvorrichtung
EA201791198A1 (ru) Многофазное устройство и система для нагрева, конденсации, смешивания, деаэрации и нагнетания
JP7471409B2 (ja) 多方向出力を備えたスイープジェット装置
RU2015101689A (ru) Распределительная тарелка для колонны обмена между газом и жидкостью с дефектором жидкости, колонна обмена теплом и использование колонны
JP2015102324A5 (ko)
RU2014114476A (ru) Система и способ создания эффекта вентури в отверстии