JPH11293465A

JPH11293465A - Ｃｖｄ装置

Info

Publication number: JPH11293465A
Application number: JP10104325A
Authority: JP
Inventors: Mitsunao Shibazaki; 光直柴崎; Tsutomu Nakada; 勉中田; Hiroyuki Shinozaki; 弘行篠崎; Kuniaki Horie; 邦明堀江
Original assignee: Ebara Corp
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 1998-04-15
Filing date: 1998-04-15
Publication date: 1999-10-26

Abstract

(57)【要約】【課題】配管が単純化され、使用するバルブの個数を
低減でき、且つ配管を一定の温度に管理することが容易
で配管内の反応副生成物の生成が抑制でき、更に原料ガ
ス流れに乗って反応室へ送られる気化残留物及び反応副
生成物を抑制できる複数の気化装置を具備するＣＶＤ装
置を提供すること。【解決手段】液体原料を気化させる複数の気化装置１
−１〜３を具備し、該複数の気化装置１−１〜３からの
気化した原料を合流部３で合流させ、振り分け部４で反
応室９とベント側に振り分けるマニホールドを具備する
ＣＶＤ装置において、振り分け部４が合流部３よりも下
流に又は振り分け部４と合流部３が同一位置にある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液体原料を気化させ
る複数の気化装置を具備し、該複数の気化装置からの気
化した原料を合流部で合流させ、振り分け部で反応室と
ベント側に振り分けるように構成したＣＶＤ装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】図６は、従来のこの種の複数の気化装置
を具備するＣＶＤ装置の概略構成を示す図である。図６
において、１０１、１０２、１０３は液体原料を気化す
る複数（図では３個）の気化装置であり、該各気化装置
１０１、１０２、１０３で気化された原料は分岐部（振
り分け部）１０４でバルブＶ１、Ｖ２、Ｖ３を通してベ
ント側へ、バルブＶ５、Ｖ６、Ｖ７を通して合流部１０
５で合流され、反応室１０６へ供給されるようになって
いる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来構成のＣＶＤ
装置においては、各気化装置１０１、１０２、１０３か
らの気化された原料を分岐部１０４で反応室側とベント
側に分岐した上で複数の気化された原料を合流部１０５
で合流させ、反応室１０６に送り込んでいるため、配管
が複雑となる上、バルブの使用個数が多くコスト高とな
るという問題があった。

【０００４】また、従来のこの種のＣＶＤ装置では各気
化装置で気化した原料を送る配管は、マントルヒータ等
の加熱手段を用いて、温度管理を行なっていた。そのた
め合流・分岐といった複雑な形状の配管全体を一定温度
に保つことが難しく、その温度の不均一が該配管内に副
生成物を生じさせる原因となるという問題もあった。

【０００５】また、従来のこの種のＣＶＤ装置では、気
化した原料を分岐して反応室１０６に送り込む配管は、
従来水平方向に配置されており、気化残留物、反応副生
成物がガス流れに乗って反応室１０６へ送られ易いとい
う問題もあった。

【０００６】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、配管が単純化され、使用するバルブの個数を低減で
き、且つ配管を一定の温度に管理することが容易で配管
内の反応副生成物の生成が抑制でき、更に原料ガス（気
化された原料）流れに乗って反応室へ送られる気化残留
物及び反応副生成物を抑制できる複数の液体原料を気化
する気化装置を具備するＣＶＤ装置を提供することを目
的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、液体原料を気化させる複数の
気化装置を具備し、該複数の気化装置からの気化した原
料を合流部で合流させ、振り分け部で反応室とベント側
に振り分けるマニホールドを具備するＣＶＤ装置におい
て、振り分け部が合流部よりも下流に又は振り分け部と
合流部が同一位置にあることを特徴とする。

【０００８】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載のＣＶＤ装置において、合流部は複数の気化装置
からの気化された原料が通る各配管が一平面内に位置す
るように並べ合流するようになっていることを特徴とす
る。

【０００９】また、請求項３に記載の発明は、請求項１
又は２に記載のＣＶＤ装置において、合流部は複数の気
化装置からの気化された原料が通る各配管は等長及び／
又は等配に配置されていることを特徴とする。

【００１０】また、請求項４に記載の発明は、請求項１
乃至３のいずれか１に記載のＣＶＤ装置において、振り
分け部から反応室に接続される配管の少なくとも一個所
が鉛直上方への上り勾配を有することを特徴とする。

【００１１】また、請求項５に記載の発明は、液体原料
を気化させる複数の気化装置を具備し、該複数の気化装
置からの気化した原料を合流部で合流させるための第１
マニホールドと、気化した原料を振り分け部で反応室と
ベント側に振り分ける第２マニホールドとを具備するＣ
ＶＤ装置において、第１及び第２マニホールドのうちの
少なくとも一方は一定温度に制御された熱媒体に接触
し、所定温度に保たれることを特徴とする。

【００１２】また、請求項６に記載の発明は、液体原料
を気化させる複数の気化装置を具備し、該複数の気化装
置からの気化した原料を合流部で合流させ、振り分け部
で反応室とベント側に振り分けるマニホールドを具備す
るＣＶＤ装置において、振り分け部は反応室に接続する
水平配管とベント側に接続する鉛直下向きの鉛直配管と
が接合された構成であり、該水平配管と鉛直配管の接合
部下側角部に前記反応室側からベント側へ重力方向の勾
配が形成されていることを特徴とする。

【００１３】また、請求項７に記載の発明は、請求項１
又は５又は６に記載のＣＶＤ装置において、振り分け部
に該振り分け部から反応室に接続される配管の断面の一
部を覆うバッフルプレートを設けたことを特徴とする。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図１は本発明のＣＶＤ装置の構
成例を示す図であり、同図（ａ）は配管部の平面図、同
図（ｂ）はその側面図である。図において、３は気化し
た複数の原料ガスを合流させる合流部、４は該合流した
合流部３の下流側に位置し、原料ガスを反応室側とベン
ト側に振り分ける振り分け部である。また、１−１、１
−２、１−３はそれぞれ液体原料を気化して原料ガスに
する気化装置である。

【００１５】上記各気化装置１−１、１−２、１−３に
は配管２−１、２−２、２−３が接続されており、該各
配管２−１、２−２、２−３は合流部３で接合されて一
体となっている。また、振り分け部４では水平方向に延
びる配管６と鉛直下方に延びる配管５に分岐され、配管
５はバルブ７を介してベント側に接続され、配管６はバ
ルブ８を介して反応室９に接続されている。各配管２−
１、２−２、２−３は、上から見て３本が等配（等しい
角度、図では１２０°ピッチで配置）で、且つ等しい長
さである。

【００１６】上記の様に、原料ガスが通る配管２−１、
２−２、２−３を合流部３で合流させその後振り分け部
４に分岐させる構成のマニホールドとすることにより、
図６に示す従来構成と比較し、配管が単純化される上、
使用するバルブ数も少なくできる。また、各気化装置１
−１、１−２、１−３からの配管２−１、２−２、２−
３が上からみて等配、即ち各配管どうしの相対角度はす
べて１２０°で、且つ等長であり、合流部３で合流させ
るので、複数（図では３個）の各気化装置からの原料ガ
スは一様に混合され、且つ原料ガスの通る複数の配管の
対称性を容易に得ることが可能となる。

【００１７】図２は本発明のＣＶＤ装置の他の構成例を
示す図である。同図において、図１と同一の符号を付し
た部分は同一又は相当部分を示す。以下、他の図面にお
いても同様とする。図２に示すように、マニホールドの
合流部３及び振り分け部４を含む配管を密閉構造のケー
シング１０で覆い、該ケーシング１０内に入口１１から
一定温度に制御された熱媒体（例えば油）Ｑを供給し、
ケーシング１０の内部を充満させ、出口１２から排出す
ることにより、マニホールドを構成する各配管の温度を
均一に保つことができ、配管内の反応副生成物の生成を
抑制できる。

【００１８】また、振り分け部４から反応室に接続され
る配管６の少なくとも一個所（図ではＡ部分）を鉛直上
方への上り勾配とする。このように配管６の少なくとも
一個所を上り勾配とすることにより、液体原料が気化さ
れてなる原料ガスの気化残留物や反応生成物が該原料ガ
スの流れに乗って、反応室内に流れ込むのを抑制でき
る。

【００１９】図７のように合流部３を含む第１マニホー
ルドと、振り分け部４を含む第２マニホールドをそれぞ
れケーシング１０、１０ａで覆い、ケーシング１０内に
入口１１から熱媒体Ｑを供給し、出口１２から排出し、
ケーシング１０ａ内に入口１１ａから熱媒体Ｑａを供給
し、出口１２ａから排出するようにすると、各マニホー
ルドを構成する各配管の温度を均一に保つだけでなく、
各マニホールドを個別に温度管理できる。また、熱媒体
Ｑ、Ｑａは互いに異なる媒体でもよく、同じ媒体でもよ
く、互いに異なる温度でもよく、又は同じ温度でもよ
い。

【００２０】図３は本発明のＣＶＤ装置の配管部の他の
構成例を示す図であり、同図（ａ）は配管部の平面図、
同図（ｂ）はその側面部を示す図である。図示するよう
に、配管２−１、２−２、２−３は上から見て直線に配
列され、即ち、同一の鉛直方向に延伸する平面内に位置
し、下端が合流部３で接合されている。また、振り分け
部４は反応室に接続する水平方向に延びる配管６とベン
ト側に接続する鉛直下向に延びる配管５とが接合されて
いる。水平の配管６と鉛直の配管５の接合部下側角部Ｂ
に反応室側からベント側へ重力方向へのゆるやかなカー
ブの勾配が形成されている。また、振り分け部４には配
管６の断面の一部を覆うバッフルプレート１３を設けて
いる。

【００２１】反応室に接続される水平の配管６とベント
側に接続される鉛直の配管５の接合部下側角部Ｂに反応
室側からベント側へ重力方向のゆるやかなカーブの勾配
を形成することにより、このカーブの整流作用により気
化残留物や反応副生成物の反応室への流入を抑制するこ
とができる。

【００２２】また、振り分け部４から一旦反応室側に流
入した気化残留物等は重力の作用により、該カーブに沿
ってベント側に排出される。また、このようなカーブの
勾配を設けることにより、配管６の断面は振り分け部４
から反応室側にいくに従って、除々に小さくなり、反応
室への原料ガスの流速は振り分け部４の近傍では遅く、
反応室側に進むにしたがい除々に増速されるため、配管
６内で反応室側へ向かう急速な流れが生じず、気化残留
物等がガス流に同伴されて反応室側に流れることを抑制
できる。また、振り分け部４に配管６の断面の一部を覆
うバッフルプレート１３を設けることにより、気化残留
物の反応室への流入を更に抑制することができる。

【００２３】図４は本発明のＣＶＤ装置の配管部の他の
構成例を示す図であり、同図（ａ）は配管部の平面図、
同図（ｂ）はその側面図である。図示するように、配管
２−１、２−２、２−３、２−４は上から見て等配（図
では９０°ピッチで配置）、等長で配置され、下端が合
流部３で接合されている。該合流部３は振り分け部４も
兼ねており、なお、振り分け部４から反応室に接続され
る配管６は鉛直上方に延びた後、断面を縮小して水平方
向に延びている。また、ベント側に接続される配管５は
鉛直に下方に延びている。このような構成としても図３
に示す構成と同様、気化残留物や反応副生成物の反応室
への流入を抑制することができる。

【００２４】図５は本発明のＣＶＤ装置の配管部の他の
構成例を示す図である。ここでは合流部は省略している
が、合流部の下流側に位置する振り分け部から反応室に
接続される水平に延びる配管６と鉛直下方に延びる配管
５の接合部下側角部Ｃに反応室側からベント側へ重力方
向のゆるやかな勾配が設けられている。このような構成
としても図３に示す構成と同様、気化残留物、副生成物
の反応室への流入を抑制することができる。

【００２５】

【発明の効果】以上、説明したように請求項１に記載の
発明によれば、振り分け部が合流部よりも下流に又は振
り分け部と合流部が同一位置にあるので、配管が単純化
され使用するバルブの個数を低減でき、コストが安価と
なる。

【００２６】また、請求項２に記載の発明によれば、合
流部は複数の気化装置からの気化された原料が通る各配
管が一平面内に位置するように並べ合流するように構成
されるので、装置の小型化が可能となる。

【００２７】また、請求項３に記載の発明によれば、合
流部は複数の気化装置からの気化された原料が通る各配
管が等長及び／又は等配に配置されているので、複数の
原料ガスの一様な混合、複数の原料ガスを通す配管の対
称性（等配の場合）を容易に得ることが可能となる。

【００２８】また、請求項４に記載の発明によれば、振
り分け部から反応室に接続される配管の少なくとも一個
所が鉛直上方への上り勾配を有するので、原料ガス流れ
に乗って反応室へ送られる気化残留物及び反応副生成物
等を抑制できる。

【００２９】また、請求項５に記載の発明によれば、マ
ニホールドは一定温度に制御された熱媒体に接触し、所
定の温度に保たれるので、配管を一定の温度に管理する
ことが容易で配管内の反応副生成物の生成が抑制でき
る。

【００３０】また、請求項６に記載の発明によれば、振
り分け部は反応室に接続する水平配管とベント側に接続
する鉛直下向きの鉛直配管とが接合された構成であり、
該水平配管と鉛直配管の接合部下側角部に反応室側から
ベント側へ重力方向の勾配が形成されているので、原料
ガス流れに乗って反応室へ送られる気化残留物及び反応
副生成物を抑制できると同時に一旦流入した気化残留物
等も重力の作用によりベント側へ排出される。

【００３１】また、請求項７に記載の発明によれば、振
り分け部から反応室に接続される配管の断面の一部を覆
うバッフルプレートを設けたので、更に原料ガス流れに
乗って反応室へ送られる気化残留物及び反応副生成物を
抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＣＶＤ装置の構成例を示す図であり、
図１（ａ）は配管部の平面図、図１（ｂ）はその側面図
である。

【図２】本発明のＣＶＤ装置の構成例を示す図である。

【図３】本発明のＣＶＤ装置の配管部の構成例を示す図
であり、図３（ａ）は配管部の平面図、図３（ｂ）はそ
の側面図である。

【図４】本発明のＣＶＤ装置の配管部の構成例を示す図
であり、図４（ａ）は配管部の平面図、図４（ｂ）はそ
の側面図である。

【図５】本発明のＣＶＤ装置の配管部の構成例を示す図
である。

【図６】従来のこの種の複数の気化装置を具備するＣＶ
Ｄ装置の概略構成を示す図である。

【図７】本発明のＣＶＤ装置の別の構成例を示す図であ
る。

【符号の説明】

１−１〜３気化装置２−１〜４配管３合流部４振り分け部５配管６配管７バルブ８バルブ９反応室

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者堀江邦明東京都大田区羽田旭町11番１号株式会社荏原製作所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液体原料を気化させる複数の気化装置を
具備し、該複数の気化装置からの気化した原料を合流部
で合流させ、振り分け部で反応室とベント側に振り分け
るマニホールドを具備するＣＶＤ装置において、前記振り分け部が合流部よりも下流に又は振り分け部と
合流部が同一位置にあることを特徴とするＣＶＤ装置。
【請求項２】請求項１に記載のＣＶＤ装置において、前記合流部は前記複数の気化装置からの気化された原料
が通る各配管が一平面内に位置するように並べ合流する
ようになっていることを特徴とするＣＶＤ装置。
【請求項３】請求項１又は２に記載のＣＶＤ装置にお
いて、前記合流部は前記複数の気化装置からの気化された原料
が通る各配管は等長及び／又は等配に配置されているこ
とを特徴とするＣＶＤ装置。
【請求項４】請求項１乃至３のいずれか１に記載のＣ
ＶＤ装置において、前記振り分け部から反応室に接続される配管の少なくと
も一個所が鉛直上方への上り勾配を有することを特徴と
するＣＶＤ装置。
【請求項５】液体原料を気化させる複数の気化装置を
具備し、該複数の気化装置からの気化した原料を合流部
で合流させるための第１マニホールドと、気化した原料
を振り分け部で反応室とベント側に振り分ける第２マニ
ホールドとを具備するＣＶＤ装置において、前記第１及び第２マニホールドのうちの少なくとも一方
は一定温度に制御された熱媒体に接触し、所定温度に保
たれることを特徴とするＣＶＤ装置。
【請求項６】液体原料を気化させる複数の気化装置を
具備し、該複数の気化装置からの気化した原料を合流部
で合流させ、振り分け部で反応室とベント側に振り分け
るマニホールドを具備するＣＶＤ装置において、前記振り分け部は反応室に接続する水平配管とベント側
に接続する鉛直下向きの鉛直配管とが接合された構成で
あり、該水平配管と鉛直配管の接合部下側角部に前記反
応室側からベント側へ重力方向の勾配が形成されている
ことを特徴とするＣＶＤ装置。
【請求項７】請求項１又は５又は６に記載のＣＶＤ装
置において、前記振り分け部に該振り分け部から前記反応室に接続さ
れる配管の断面の一部を覆うバッフルプレートを設けた
ことを特徴とするＣＶＤ装置。