JP2017521437A - アピキサバンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)塩基の存在下においてエチル−6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(化合物II)を、ホルムアミドに接触させて、1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−6−(4−(2−オキソピペリジン−1−イル)フェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキサミド(化合物I):
b)工程a)において得られたアピキサバンを単離する工程と、
c)場合により、慣用の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程と、
d)場合により、工程a)またはb)において得られたアピキサバンを、その薬学的に許容される塩または共結晶に転化させる工程と
を少なくとも含んでなる方法を提供する。
用語「塩基」は、本明細書において使用される場合、アルコキシド塩基を意味する。好適なアルコキシド塩基としては、金属(金属アルコキシド)、アンモニウム(アンモニウムアルコキシド)、ボロン(ボロンアルコキシド)およびシリコン(シリコンアルコキシド)の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシドが挙げられる。金属アルコキシドとしては、アルカリ金属、アルカリ土類金属または遷移金属から選択される金属の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシドが挙げられる。アルコキシド塩基の例は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウムブトキシド、ナトリウムイソブトキシド、ナトリウムsec−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムブトキシド、カリウムイソブトキシド、カリウムsec−ブトキシドおよびカリウムtert−ブトキシド、カルシウムメトキシド、カルシウムエトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド、バリウムメトキシド、バリウムエトキシド、アルミニウムメトキシド、アルミニウムエトキシド、チタンメトキシド、チタンエトキシド、ジルコニウムメトキシド、ジルコニウムエトキシド、アンモニウムメトキシド、アンモニウムエトキシド、シリコンメトキシド、シリコンエトキシド、ボロンメトキシド、ボロンエトキシドである。
b)工程a)において得られたアピキサバンを単離する工程、
c)場合により、従来の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程を含む。
d)場合により、工程a)またはb)において得られたアピキサバンを、それらの薬学的に許容される塩または共結晶に転化させる工程を含む。
a)直鎖状または分岐鎖状C1〜C5アルコキシドのアルカリ金属から選択される塩基の存在下において、エチル6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(化合物II)を、ホルムアミドに接触させることにより、アピキサバン:
b)工程a)において得られたアピキサバンを単離する工程と、
c)場合により、従来の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程と、
を含んでなる方法。
a)直鎖状または分岐鎖状C1〜C5アルコキシドのアルカリ金属またはアルカリ土類金属から選択される塩基の存在下において、さらに有機溶媒の存在下において、エチル6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(化合物II)を、ホルムアミドに接触させることにより、アピキサバン:
b)工程a)において得られたアピキサバンを単離する工程と、
c)場合により、慣用の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程と
を含んでなる方法。
a)アンモニウムアルコキシド塩基の存在下において、さらに有機溶媒の存在下において、エチル6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(化合物II)を、ホルムアミドに接触させることにより、アピキサバン:
b)工程a)において得られたアピキサバンを単離する工程と、
c)場合により、慣用の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程と
を含んでなる方法。
a)0〜50℃の間の温度において、直鎖状または分岐鎖状C1〜C5アルコキシドのアルカリ金属またはアルカリ土類金属から選択される塩基の存在下において、エチル6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(化合物II)を、ホルムアミドに接触させることにより、アピキサバン:
b)工程a)において得られたアピキサバンを単離する工程と、
c)場合により、慣用の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程と
を含んでなる方法。
a)0〜10℃の間の温度において、直鎖状または分岐鎖状C1〜C5アルコキシドのアルカリ金属またはアルカリ土類金属から選択される塩基の存在下において、エチル6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(化合物II)を、ホルムアミドに接触させることにより、アピキサバン:
b)工程a)において得られたアピキサバンを単離する工程と、
c)場合により、慣用の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程と
を含んでなる方法。
200mLのDMFおよび89mL(2.237mmol)のホルムアミド中におけるエチル−6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(50g、88mmol)の混合物に、既に調製したナトリウムメトキシド30%メタノール溶液(47mL、247mmol)を0〜5℃の温度において加えた。結果として得られた反応混合物を、0〜5℃の間の温度において2時間撹拌した。その後、400mLの水を当該反応混合物に加え、結果として得られた懸濁液を2時間撹拌した。得られた固体をろ過し、25mLの水で洗浄して、114.7gの湿潤した固体を得た。当該固体を乾燥させて、37gのアピキサバンを得た。多形体H2−2(国際公開第2007/001385号に記載)が得られた。
純度(HPLC):99.4%
DSC:55℃(−101J/g)、149℃(−9℃J/g)、168℃(97J/g)および232℃(−87J/g)に開始点を有するピーク
1H−NMR(200MHz、DMSO)(2500)δ:1.74〜1.84(m、4H);2.38〜2.49(m、2H);3.20〜3.22(m、2H);3.59〜3.60(m、2H);3.80(s、3H);4.01〜4.05(m、2H);6.97〜7.52(m、8H、NH);7.74(s、1H、NH)
純度(HPLC):99.5%
DSC:237(−132J/g)に開始点を有するピーク
多形体N−1のPXRD(パワーX線回折)は図1に対応する。
1H−NMR(200MHz、DMSO)(2500)δ:1.74〜1.84(m、4H);2.38〜2.49(m、2H);3.20〜3.22(m、2H);3.59〜3.60(m、2H);3.80(s、3H);4.01〜4.05(m、2H);6.97〜7.52(m、8H、NH);7.74(s、1H、NH)
50ml(1.257mmol)のホルムアミド中におけるエチル−6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(10g、17.5mmol)の混合物に、既に調製したナトリウムメトキシド30%メタノール溶液(11mL、58mmol)を0〜5℃において加えた。結果として得られた反応混合物を、23〜25℃において16時間撹拌した。その後、100mLの水を当該混合物に加え、結果として得られた懸濁液を0〜5℃において2時間撹拌した。当該固体をろ過し、5mLの水で洗浄した。当該固体を乾燥させて、7.5gのアピキサバンを得た。多形体H2−2(国際公開第2007/001385号に記載)が得られた。
純度(HPLC):99.3%
DSC:55℃(−101J/g)、149℃(−9℃J/g)、168℃(97J/g)および232℃(−87J/g)に開始点を有するピーク
1H−NMR(200MHz、DMSO)(2500)δ:1.74〜1.84(m、4H);2.38〜2.49(m、2H);3.20〜3.22(m、2H);3.59〜3.60(m、2H);3.80(s、3H);4.01〜4.05(m、2H);6.97〜7.52(m、8H、NH);7.74(s、1H、NH)
純度(HPLC):99%を超える
1H−NMR(200MHz、DMSO)(2500)δ:1.74〜1.84(m、4H);2.38〜2.49(m、2H);3.20〜3.22(m、2H);3.59〜3.60(m、2H);3.80(s、3H);4.01〜4.05(m、2H);6.97〜7.52(m、8H、NH);7.74(s、1H、NH)
Claims (15)
- アピキサバンまたはその薬学的に許容される塩の製造方法であって、当該方法が、
a)エチル−6−(4−(5−ブロモペンタンアミド)フェニル)−1−(4−メトキシフェニル)−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−ピラゾロ[3,4−c]ピリジン−3−カルボキシレート(化合物II)を、ホルムアミドおよび塩基と接触させて、アピキサバン:
b)工程a)において得られた前記アピキサバンを単離する工程と、
c)場合により、慣用の精製技術によって、工程a)またはb)のアピキサバンを精製する工程と、
d)場合により、工程a)またはb)において得られた前記アピキサバンを、その薬学的に許容される塩または共結晶に転化させる工程と
を少なくとも含んでなる、方法。 - 前記工程a)の反応が、有機溶媒の存在下において実施される、請求項1に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記工程a)の有機溶媒が極性有機溶媒である、請求項2に記載の方法。
- 前記工程a)の有機溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、C1〜C4アルキルアルコール、C1〜C4−アルキルアセテートおよびそれらの混合物から選択されるものである、請求項3に記載の方法。
- 前記工程a)において使用される有機溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミドである、請求項4に記載の方法。
- 前記工程a)の塩基が、金属アルコキシド、ボロンアルコキシド、シリコンアルコキシド、アンモニウムアルコキシドおよびそれらの混合物からなる群から選択されるものである、請求項1〜5のいずれか一項に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記塩基が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属およびそれらの混合物からなる群から選択される金属の直鎖状もしくは分岐鎖状アルコキシドである、請求項6に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記塩基が、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびそれらの混合物からなる群から選択される金属の直鎖状もしくは分岐鎖状C1〜C12アルコキシドである、請求項7に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記工程a)の塩基が、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の直鎖状もしくは分岐鎖状C1〜C5アルコキシドである、請求項8に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記工程a)の塩基が、アルカリ金属の直鎖状もしくは分岐鎖状C1〜C5アルコキシドである、請求項9に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記工程a)の塩基が、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシドまたはカリウムエトキシドである、請求項10に記載のアピキサバンの製造方法。
- 塩基と化合物IIの比率が、2:1(mol/mol)から5:1(mol/mol)である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の、アピキサバンを製造する方法。
- 塩基と化合物IIの比率が、2.5:1から3:1である、請求項12に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記工程a)の反応が、0℃と50℃との間の温度において実施される、請求項1〜13のいずれか一項に記載のアピキサバンの製造方法。
- 前記工程a)の反応が、0℃と10℃との間の温度において実施される、請求項14に記載の方法。
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