JP2017514845A5

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Publication number: JP2017514845A5
Application number: JP2016565665A
Authority: JP
Filing date: 2015-04-28
Publication date: 2018-06-14

Claims

式（Ｉ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、

有機アミン塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（Ｖ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は、脱離基である、ことと、

塩基の存在下で、第２の有機溶媒中、約１１０℃〜約１５０℃の範囲の温度で、不活性雰囲気下で、式（ＶＩＩ）の化合物を脱メチル化剤と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることと、
を含む、プロセス。
請求項１に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＶＩＩ）の化合物は、単離されない、プロセス。
式（Ｉ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、

有機アミン塩基の存在下で、ＤＭＦ中、約６０℃の温度で、式（Ｖ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は臭素であり、前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、前記有機アミン塩基は、ジイソプロピルエチルアミンであり、前記ジイソプロピルエチルアミンは、約２〜約３．５モル当量の範囲の量で存在する、ことと、

ＮａＯｔＢｕの存在下で、ＤＭＦ中、約１３１℃の温度で、不活性雰囲気下で、式（ＶＩＩ）の化合物を、ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンと反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることであって、前記ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンは、約３．１モル当量の量で存在し、前記ＮａＯｔＢｕは、約３．５〜約４モル当量の範囲の量で存在する、ことと、
を含む、プロセス。
式（ＶＩＩ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、

有機アミン塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（Ｖ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は脱離基である、こと、
を含む、プロセス。
請求項４に記載のプロセスにおいて、
Ｌ^１は臭素であり、
前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、
前記有機アミン塩基は、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ジエチルアミン、およびモルホリンからなる群から選択され、
前記有機アミン塩基は、約１〜約５モル当量の範囲の量で存在し、
前記第１の有機溶媒は、ＤＭＦであり、
前記式（Ｖ）の化合物は、約６０℃の温度で、前記式（ＶＩ）の化合物と反応させられる、プロセス。
式（Ｉ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、

有機アミン塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（Ｖ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は脱離基である、ことと、

前記式（ＶＩＩ）の化合物を反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることと、
を含む、プロセス。
式（ＩＩ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスであって、
式中、Ｒ^１は、‐ＣＨ_２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ_２‐（シクロブチル）、および‐ＣＨ_２‐ＣＨ＝ＣＨ_２からなる群から選択される、プロセスにおいて、

有機アミン塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（ＩＸ）の化合物を式（Ｘ）の化合物と反応させて、式（ＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^２は、脱離基である、こと、
を含む、プロセス。
請求項７に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｘ）の化合物は、約１．１〜約２．５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項７に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｘ）の化合物は、約１．２５〜約１．７５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項７に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＩＸ）の化合物は、プロモーターの存在下で前記式（Ｘ）の化合物と反応させられる、プロセス。
請求項１０に記載のプロセスにおいて、
前記プロモーターは、ＮａＩであり、
前記ＮａＩは、約５モル％〜約１０モル％の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項７に記載のプロセスにおいて、
Ｒ^１は、‐ＣＨ_２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ _２ ‐（シクロブチル）、または‐ＣＨ _２ ‐ＣＨ＝ＣＨ _２である、プロセス。
式（ＩＩ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスであって、
式中、Ｒ^１は、‐ＣＨ_２‐（シクロプロピル）、および‐ＣＨ_２‐ＣＨ＝ＣＨ_２からなる群から選択される、プロセスにおいて、

有機アミン塩基の存在下で、ＤＭＦ中、約６０℃の温度で、式（ＩＸ）の化合物を式（Ｘ）の化合物と反応させて、式（ＩＩ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は臭素であり、前記式（Ｘ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、前記有機アミン塩基は、ジイソプロピルエチルアミンであり、前記ジイソプロピルアミンは、約１〜約１．２モル当量の範囲の量で存在する、こと、
を含む、プロセス。
請求項１３に記載のプロセスにおいて、
Ｒ^１は、‐ＣＨ_２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ _２ ‐（シクロブチル）、または‐ＣＨ _２ ‐ＣＨ＝ＣＨ _２である、プロセス。
本明細書に記載されたような、式（Ｉ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセス。
本明細書に記載されたような、式（ＩＩ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、
式中、Ｒ^１は、‐ＣＨ_２‐（シクロプロピル）、‐ＣＨ_２‐（シクロブチル）、および‐ＣＨ_２‐ＣＨ＝ＣＨ_２からなる群から選択される、プロセス。
本明細書に記載されたような、式（ＩＩＩ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセス。
式（Ｉ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、

塩基の存在下で、第１の有機溶媒中、約１１０℃〜約１５０℃の範囲の温度で、不活性雰囲気下で、式（Ｖ）を脱メチル化剤と反応させて、式（ＶＩＩＩ）の対応化合物を生じることと、

有機アミン塩基の存在下で、第２の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、前記式（ＶＩＩＩ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は脱離基である、ことと、
を含む、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記脱メチル化剤は、ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンであり、
前記塩基は、アルコキシド塩基である、プロセス。
請求項１９に記載のプロセスにおいて、
前記アルコキシド塩基は、ＮａＯｔＢｕである、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記脱メチル化剤は、約２．５〜約４モル当量、または約２．８〜約３．４モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記塩基は、約２．５〜約４モル当量、または約３〜約４モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項１、７、または１８に記載のプロセスにおいて、
前記第１の有機溶媒は、ＤＭＦである、プロセス。
請求項１８に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物は、単離されない、プロセス。
請求項１、７、または１８に記載のプロセスにおいて、
Ｌ^１は臭素である、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．１〜約２．５モル当量、または約１．２５〜約１．７５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項１、７、または１８に記載のプロセスにおいて、
前記有機アミン塩基は、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ジエチルアミン、およびモルホリンからなる群から選択される、プロセス。
請求項１、７、または１８に記載のプロセスにおいて、
前記有機アミン塩基は、約１〜約５モル当量、約１〜約３．５モル当量、または約１〜約１．５モル当量の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記第２の有機溶媒は、ＤＭＦである、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記第１の有機溶媒、および前記第２の有機溶媒は、同じである、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｖ）の化合物は、プロモーターの存在下で前記式（ＶＩ）の化合物と反応させられる、プロセス。
請求項３１に記載のプロセスにおいて、
前記プロモーターは、ＮａＩであり、
前記ＮａＩは、約５モル％〜約１０モル％の範囲の量で存在する、プロセス。
請求項１または１８に記載のプロセスにおいて、
前記式（Ｉ）の化合物をＨＣｌと反応させて、前記式（Ｉ）の化合物の対応する塩酸塩を生じることをさらに含む、プロセス。
式（Ｉ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、

ＮａＯｔＢｕの存在下で、ＤＭＦ中、約１３１℃の温度で、不活性雰囲気下で、式（Ｖ）の化合物を、ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンと反応させて、式（ＶＩＩＩ）の対応化合物を生じることであって、前記ｔｅｒｔ‐ドデシルメルカプタンは、約３．１モル当量の量で存在し、前記ＮａＯｔＢｕは、約３．５〜約４モル当量の範囲の量で存在する、ことと、

有機アミン塩基の存在下で、ＤＭＦ中、約６０℃の温度で、式（ＶＩＩＩ）の化合物を、式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は臭素であり、前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、前記有機アミン塩基は、ジイソプロピルエチルアミンであり、前記ジイソプロピルエチルアミンは、約２．４〜約３モル当量の範囲の量で存在する、ことと、
を含む、プロセス。
式（ＶＩＩ）の化合物

またはその薬学的に許容可能な塩を調製するプロセスにおいて、

有機アミン塩基の存在下で、第２の有機溶媒中、約４０℃〜約７０℃の範囲の温度で、式（ＶＩＩＩ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物と反応させて、式（Ｉ）の対応化合物を生じることであって、式中、Ｌ^１は脱離基である、こと、
を含む、プロセス。
請求項３５に記載のプロセスにおいて、
Ｌ^１は臭素であり、
前記式（ＶＩ）の化合物は、約１．４モル当量の量で存在し、
前記有機アミン塩基は、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ジエチルアミン、およびモルホリンからなる群から選択され、
前記有機アミン塩基は、約１〜約５モル当量の範囲の量で存在し、
前記第１の有機溶媒は、ＤＭＦであり、
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物は、約６０℃の温度で、前記式（ＶＩ）の化合物と反応させられる、プロセス。