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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020000954A (ja) * 2018-06-25 2020-01-09 住友化学株式会社 機能性膜の製造方法、乾燥装置、及び機能性膜の製造装置
JP6549766B1 (ja) * 2018-07-23 2019-07-24 住友化学株式会社 有機電子デバイスの製造方法
JP2020021707A (ja) * 2018-08-03 2020-02-06 住友化学株式会社 近赤外線と遠赤外線を併用する有機電子素子の製造方法及び有機電子素子の製造装置
JP7561139B2 (ja) * 2019-03-25 2024-10-03 シノヴィア テクノロジーズ 非平衡熱硬化プロセス

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5092059A (en) * 1988-06-07 1992-03-03 W. R. Grace & Co.-Conn. Infrared air float bar
JP2003194467A (ja) * 2001-12-25 2003-07-09 Showa Mfg Co Ltd 均熱処理装置
JP4244382B2 (ja) * 2003-02-26 2009-03-25 セイコーエプソン株式会社 機能性材料定着方法及びデバイス製造方法
JP2005081697A (ja) * 2003-09-09 2005-03-31 Toyo Ink Mfg Co Ltd ガスバリア性積層体の製造方法
US20050124258A1 (en) * 2003-12-08 2005-06-09 E-Lite Technologies, Inc. Electroluminescent lamp construction and electroluminescent lamp made thereby
JP2006085933A (ja) 2004-09-14 2006-03-30 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示装置の製造方法及び製造装置
JP2006100134A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Electric Holdings Co Ltd 色変換フィルタ基板およびそれを用いた有機ｅｌ素子の製造方法
CN101360965B (zh) * 2006-05-18 2010-12-22 富士胶片株式会社 被干燥物的干燥方法及装置
JP2008226642A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Toppan Printing Co Ltd 有機機能性薄膜熱処理装置および有機機能性素子の製造方法
US10422578B2 (en) * 2010-04-08 2019-09-24 Ncc Nano, Pllc Apparatus for curing thin films on a moving substrate
WO2012132986A1 (ja) * 2011-03-25 2012-10-04 宇部興産株式会社 ポリイミドフィルムの製造方法及びポリイミドフィルム製造装置及びポリイミドフィルム
JP5869669B2 (ja) * 2011-07-01 2016-02-24 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー．Ｈｅｗｌｅｔｔ‐Ｐａｃｋａｒｄ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ， Ｌ．Ｐ． 硬化装置、画像形成装置、及び、製造品
WO2013111511A1 (ja) * 2012-01-23 2013-08-01 日本碍子株式会社 Ｐｅｔフィルムの表面に形成された塗膜の乾燥方法および塗膜乾燥炉
JP6432347B2 (ja) * 2012-05-28 2018-12-05 三菱ケミカル株式会社 導電性薄膜積層体の製造方法
US9750091B2 (en) * 2012-10-15 2017-08-29 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for heat treatment of coatings on substrates
CN105325056B (zh) 2013-06-18 2017-09-08 柯尼卡美能达株式会社 有机发光元件

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