JP2017203849A - 表示装置用基板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】混色及び輝度低下を防ぐと共に液晶の汚染を防ぐことができる表示装置用基板及び表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】表示装置用基板は、第１基板と、第１基板に重なる透光性着色層と、透光性着色層に対して第１基板とは反対側に重なる第１透光性樹脂層と、第１透光性樹脂層に対して第１基板とは反対側に重なる遮光層と、遮光層に対して第１基板とは反対側に重なる第２透光性樹脂層と、を備える。透光性着色層を光が透過する表示領域の周囲に設けられた額縁領域の少なくとも一部において、第１透光性樹脂層は第１基板に接する。
【選択図】図３

Description

本発明は、表示装置用基板及び表示装置に関する。

表示装置においては、高画素密度化（高精細化）が求められている。画素密度が高くなると画素ピッチが小さくなるので、混色が生じやすくなる。遮光層（ブラックマトリックスス）の幅を大きくすることで混色は抑制されるものの、開口率が小さくなるので輝度が低下する。例えば特許文献１には、混色及び輝度低下の両方を防ぐための表示装置が記載されている。特許文献１においては、遮光層がカラーフィルタよりも液晶層側に配置されている。

特開２０１４−１７４４３１号公報

ところで、遮光層がカラーフィルタよりも液晶層側に配置されると、遮光層と液晶層との間の距離が小さくなる。これにより、遮光層に含まれる成分によって液晶層が汚染されることがある。

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたもので、混色及び輝度低下を防ぐと共に液晶の汚染を防ぐことができる表示装置用基板及び表示装置を提供することを目的とする。

本発明の一態様の表示装置用基板は、第１基板と、前記第１基板に重なる透光性着色層と、前記透光性着色層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第１透光性樹脂層と、前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、前記遮光層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第２透光性樹脂層と、を備え、前記透光性着色層を光が透過する表示領域の周囲に設けられた額縁領域の少なくとも一部において、前記第１透光性樹脂層は前記第１基板に接する。

本発明の一態様の表示装置は、第１基板を備える表示装置用基板と、前記第１基板に重なる第２基板と、前記表示装置用基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、を備え、前記表示装置用基板は、前記第１基板に重なる透光性着色層と、前記透光性着色層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第１透光性樹脂層と、前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、前記遮光層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第２透光性樹脂層と、を備え、前記透光性着色層を光が透過する表示領域の周囲に設けられた額縁領域の少なくとも一部において、前記第１透光性樹脂層は前記第１基板に接する。

図１は、本実施形態に係る表示装置を示す模式図である。 図２は、本実施形態に係る表示装置を示す平面図である。 図３は、図２におけるＡ−Ａ断面図である。 図４は、図２におけるＡ−Ａ断面とは異なる位置の断面図である。 図５は、本実施形態に係る表示装置の表示領域を拡大して示す平面図である。 図６は、本実施形態に係る表示装置の製造時に形成されるアライメントマークを示す平面図である。 図７は、変形例１に係る表示装置の断面図である。 図８は、変形例２に係る表示装置の断面図である。 図９は、変形例３に係る表示装置の断面図である。

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

図１は、本実施形態に係る表示装置を示す模式図である。図２は、本実施形態に係る表示装置を示す平面図である。図３は、図２におけるＡ−Ａ断面図である。より具体的には、図３は、矩形の画素Ｐｉｘの平行な２辺の中点を含む平面で表示装置１を切った断面である。

表示装置１は、例えばカラー表示が可能な液晶表示装置である。例えば、表示装置１はいわゆる透過型の液晶表示装置である。図１に示すように、表示装置１は、ゲートドライバ１２と、ソースドライバ１３と、複数の走査線ＧＣＬと、複数の信号線ＳＧＬと、複数の画素Ｐｉｘと、を備える。また、図３に示すように、表示装置１は、第１基板２１を含む表示装置用基板１０と、第２基板２２と、液晶層５と、を備える。表示装置用基板１０は、透光性着色層３２と、第１透光性樹脂層４１と、遮光層３３と、スペーサ５３と、配向膜５１と、を備える。

図１に示すように、複数の走査線ＧＣＬは、第１基板２１に平行な平面上に配置されている。走査線ＧＣＬは、ゲートドライバ１２に接続されている。複数の信号線ＳＧＬは、第１基板２１に平行な平面上に配置されている。信号線ＳＧＬは、ソースドライバ１３に接続されている。信号線ＳＧＬは、例えば走査線ＧＣＬに対して直交している。以下の説明において、走査線ＧＣＬに平行なＸ軸、信号線ＳＧＬに平行なＹ軸、及びＸ軸及びＹ軸に対して直交するＺ軸からなるＸＹＺ直交座標系が用いられる。

表示装置１は、図２に示すように表示領域Ａ１と、額縁領域Ａ２とを備える。表示領域Ａ１は、光が透光性着色層３２を透過する領域であって、例えば矩形状である。表示領域Ａ１は、画素Ｐｉｘにより画像が表示される領域であるとも言える。額縁領域Ａ２は、表示領域Ａ１を囲む帯状の領域である。

複数の画素Ｐｉｘは、図２に示す表示領域Ａ１にマトリクス状に配列されている。画素Ｐｉｘは、それぞれ複数の副画素ＳＰｉｘを備える。画素Ｐｉｘが備える副画素ＳＰｉｘの数は、例えば３つである。副画素ＳＰｉｘは、スイッチング素子Ｔｒと、液晶容量７６と、保持容量７７とを有する。スイッチング素子Ｔｒは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）である。スイッチング素子Ｔｒのソースは信号線ＳＧＬに接続されている。スイッチング素子Ｔｒのゲートは走査線ＧＣＬに接続されている。スイッチング素子Ｔｒのドレインは液晶容量７６の一端及び保持容量７７の一端に接続されている。

液晶容量７６は、対向電極６１と画素電極６２との間で発生する容量成分を示す。液晶容量７６の一端がスイッチング素子Ｔｒのドレインに接続され、液晶容量７６の他端にコモン電位Ｖｃｏｍが供給される。保持容量７７の一端がスイッチング素子Ｔｒのドレインに接続され、保持容量７７の他端にコモン電位Ｖｃｏｍが供給される。保持容量７７は、対向電極６１と画素電極６２との間に印加された映像表示用の電圧を保持するための容量成分である。

副画素ＳＰｉｘは、同じ行に属する他の副画素ＳＰｉｘと走査線ＧＣＬで接続されている。ゲートドライバ１２は、走査線ＧＣＬを介して走査信号Ｖｓｃａｎ（図１参照）をスイッチング素子Ｔｒに供給する。また、副画素ＳＰｉｘは、同じ列に属する他の副画素ＳＰｉｘと信号線ＳＧＬで接続されている。ソースドライバ１３は、信号線ＳＧＬを介して画素信号Ｖｐｉｘ（図１参照）を画素電極６２に供給する。

ゲートドライバ１２は、走査線ＧＣＬを順次走査するように駆動する。ゲートドライバ１２は、走査信号Ｖｓｃａｎを副画素ＳＰｉｘのスイッチング素子Ｔｒのゲートに走査線ＧＣＬを介して印加することにより、副画素ＳＰｉｘのうちの１行（１水平ライン）を表示駆動の対象として順次選択する。また、ソースドライバ１３は、画素信号Ｖｐｉｘを、選択された１水平ラインを構成する副画素ＳＰｉｘに信号線ＳＧＬを介して供給する。そして、副画素ＳＰｉｘでは、供給される画素信号Ｖｐｉｘに応じて１水平ラインずつ表示が行われる。

図４は、図２におけるＡ−Ａ断面とは異なる位置の断面図である。より具体的には、図４は、矩形の画素Ｐｉｘの１辺を含む平面で表示装置１を切った断面である。言い換えると、図４は、スペーサ５３が含まれない位置でＡ−Ａ断面に平行な平面で表示装置１を切った断面図である。図５は、本実施形態に係る表示装置の表示領域を拡大して示す平面図である。図６は、本実施形態に係る表示装置の製造時に形成されるアライメントマークを示す平面図である。

第１基板２１は、例えばガラスで形成された基板である。透光性着色層３２は、複数の色領域（色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ及び色領域３２Ｂ）を有する着色層である。透光性着色層３２は、第１基板２１の一方の表面に重なっている。色領域３２Ｒは赤色の領域であり、色領域３２Ｇは緑色の領域であり、色領域３２Ｂは青色の領域である。図５に示すように、複数の色領域はマトリクス状に配列されている。例えば、Ｘ方向に色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ、色領域３２Ｂの順に並んでおり、且つＹ方向に同じ色の色領域が並んでいる。すなわち、Ｙ方向に並んだ色領域３２Ｒの列、Ｙ方向に並んだ色領域３２Ｇの列、及びＹ方向に並んだ色領域３２Ｂの列が、Ｘ方向に順番に並んでいる。以下の説明において、第１基板２１から見て透光性着色層３２の方向は、＋Ｚ方向と記載される。

図３に示すように、額縁領域Ａ２の一部において、第１基板２１に透光性着色層３２が形成されている。額縁領域Ａ２に設けられる透光性着色層３２は、額縁領域Ａ２に設けられるスペーサ５３に重なる位置に配置され、スペーサ５３を支持している。一方、図４に示すように、額縁領域Ａ２のうちスペーサ５３に重ならない領域においては、透光性着色層３２が設けられない。

透光性着色層３２は、例えばフォトリソグラフィ法で製造される。例えば、まず青色のカラーレジストが第１基板２１に塗布され、第１基板２１がスピンさせられる。そして、カラーレジストが減圧乾燥された後、カラーレジストにマスクを介して紫外線が照射される。その後、カラーレジストのうち不要な部分がリンスされ、第１基板２１に残ったカラーレジストがベークにより硬化する。上述したカラーレジストの塗布からカラーレジストのベークまでの工程が、赤色のカラーレジスト及び緑色のカラーレジストを用いて繰り返される。これにより、色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ及び色領域３２Ｂを備える透光性着色層３２が第１基板２１に形成される。

図６に示す第１基板２１のアライメントマーク２１１は、青色のカラーレジストで形成される。すなわち、第１基板２１に色領域３２Ｂが形成される工程においてアライメントマーク２１１が形成される。アライメントマーク２１１は、表示装置１の製造工程において表示装置１の位置決めのために用いられるマークである。このため、従来技術のように黒色のカラーレジスト（ブラックマトリクス）でアライメントマークが形成される場合と比較して、表示装置１の製造工程が１つ減少する。すなわち、表示装置１の製造効率が向上する。

第１透光性樹脂層４１は、樹脂で形成された透明な層である。より具体的には、第１透光性樹脂層４１は、絶縁性の樹脂で形成されている。すなわち、第１透光性樹脂層４１は、透明な絶縁性部材である。第１透光性樹脂層４１は、透光性着色層３２に対して＋Ｚ方向側に重なっている。例えば、Ｚ方向から見て、第１透光性樹脂層４１の面積は第１基板２１の面積と同じである。また、図３及び図４に示すように、額縁領域Ａ２の少なくとも一部においては、第１透光性樹脂層４１が第１基板２１に接している。第１透光性樹脂層４１は、例えば光硬化性樹脂であって、透光性着色層３２に塗布された後に紫外線を照射されることで硬化する。

遮光層３３は、いわゆるブラックマトリックスである。遮光層３３は、第１透光性樹脂層４１に対して＋Ｚ方向側に重なっている。仮に遮光層３３が透光性着色層３２の表面に形成される場合、透光性着色層３２の寸法精度の影響により遮光層３３の形状にはバラツキが生じやすい。これに対して、遮光層３３が第１透光性樹脂層４１の平坦な表面に形成されることで、遮光層３３の形状のバラツキが抑制される。遮光層３３は、図５に示すように格子状に配置されている。具体的には、遮光層３３は、隣接する色領域の境界（隣接する色領域３２Ｒと色領域３２Ｇとの境界、隣接する色領域３２Ｇと色領域３２Ｂとの境界、隣接する色領域３２Ｂと色領域３２Ｒとの境界、隣接する２つの色領域３２Ｒの境界、隣接する２つの色領域３２Ｇの境界、及び隣接する２つの色領域３２Ｂの境界）に重なる。例えば、遮光層３３は１層である。すなわち、表示領域Ａ１及び額縁領域Ａ２の両方のいずれにおいても、Ｚ方向から見て第１基板２１に重なる遮光層３３の数は１つである。

第２透光性樹脂層４２は、樹脂で形成された透明な層である。より具体的には、第２透光性樹脂層４２は、絶縁性の樹脂で形成されている。すなわち、第２透光性樹脂層４２は、透明な絶縁性部材である。第２透光性樹脂層４２は、遮光層３３に対して＋Ｚ方向側に重なっている。例えば、Ｚ方向から見て、第２透光性樹脂層４２の面積は第１基板２１の面積と同じである。第２透光性樹脂層４２は、例えば光硬化性樹脂であって、第１透光性樹脂層４１及び遮光層３３に塗布された後に紫外線を照射されることで硬化する。

スペーサ５３は、液晶層５の厚さ（セルギャップ）を保つための部材である。スペーサ５３は、第２透光性樹脂層４２に対して＋Ｚ方向側に重なっている。また、スペーサ５３は、遮光層３３に重なっている。スペーサ５３は、格子状である遮光層３３の交差部分に配置されることが好ましい。図３に示すように、Ｘ方向におけるスペーサ５３の幅は、遮光層３３の幅より小さい。同様に、Ｙ方向におけるスペーサ５３の幅は、Ｙ方向における遮光層３３の幅よりも小さい。

配向膜５１は、液晶層５の液晶分子を一定方向に配列させるための膜である。配向膜５１は、第２透光性樹脂層４２に対して＋Ｚ方向側に重なっている。

第２基板２２は、例えばガラスで形成された基板であって、第１基板２１に平行である。第２基板２２には対向電極６１と、絶縁膜６３と、複数の画素電極６２とが形成されている。対向電極６１は、例えば透明電極である。具体的には、対向電極６１は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）である。対向電極６１は、第２基板２２の−Ｚ方向側に重なっている。例えば、対向電極６１は、スパッタリング法によって第２基板２２の表面に形成される。絶縁膜６３は、対向電極６１−Ｚ方向側に重なっている。画素電極６２は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）である。例えば、画素電極６２は、スパッタリング法によって絶縁膜６３の表面に形成される。画素電極６２は、絶縁膜６３によって対向電極６１と絶縁されている。複数の画素電極６２は、マトリクス状に配置されている。１つの画素電極６２が１つの副画素ＳＰｉｘに対応している。１つの画素電極６２は、複数のスリット６２１を有する。対向電極６１と画素電極６２との間に生じる電界がスリット６２１を介して液晶層５に作用する。画素電極６２の−Ｚ方向側には、配向膜５２が配置されている。第２基板２２の＋Ｚ方向側には、例えばバックライトが配置される。バックライトの光は、第２基板２２、液晶層５、表示装置用基板１０の順に通過し、第１基板２１の−Ｚ方向側に放たれる。

液晶層５は、電界の状態に応じて光の透過率を変化させることができる。例えば、表示装置１は、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式の表示装置である。対向電極６１及び画素電極６２によって、液晶層５の電界が変化させられる。

なお、表示装置１は、必ずしもＦＦＳ方式の表示装置でなくてもよい。例えば、表示装置１は、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Virtical Alignment）方式又はＩＰＳ（In Plane Switching）方式の表示装置であってもよい。また、表示装置１は、反射型の液晶表示装置であってもよい。表示装置１が反射型の液晶表示装置である場合、画素電極６２が透明電極ではなく光を反射する反射電極とされるか、又は第２基板２２の＋Ｚ方向側に反射板等が配置される。

なお、透光性着色層３２が有する色領域は、必ずしも３色でなくてもよく、複数色であればよい。例えば、透光性着色層３２は、色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ及び色領域３２Ｂに加えて、白色の色領域を備えていてもよい。

なお、第１透光性樹脂層４１及び第２透光性樹脂層４２は、必ずしも完全な透明でなくてもよく、透光性を有していればよい。ただし、第１透光性樹脂層４１及び第２透光性樹脂層４２は、透光性着色層３２を透過した光の色をできる限り変化させないことが望ましい。このため、第１透光性樹脂層４１及び第２透光性樹脂層４２は、できる限り透明に近いことが好ましい。

以上で説明したように、表示装置用基板１０は、第１基板２１と、第１基板２１に重なる透光性着色層３２と、透光性着色層３２に対して第１基板２１とは反対側（＋Ｚ方向側）に重なる第１透光性樹脂層４１と、第１透光性樹脂層４１に対して第１基板２１とは反対側（＋Ｚ方向側）に重なる遮光層３３と、遮光層３３に対して第１基板２１とは反対側（＋Ｚ方向側）に重なる第２透光性樹脂層４２と、を備える。これにより、遮光層３３が透光性着色層３２よりも液晶層５側に配置されることで、混色が抑制される。混色とは、人間が斜め方向（Ｚ軸に対して角度をなす方向）から表示領域Ａ１を見た時に、異なる色の隣接する色領域を透過した光が人間の眼に入射する現象を意味する。

さらに、透光性着色層３２を斜め方向（Ｚ軸に対して角度をなす方向）に通過する光の経路（光路）が広くなるので、表示装置１を斜め方向から見た時の輝度が向上する。また、遮光層３３と液晶層５との間に第２透光性樹脂層４２が設けられるので、遮光層３３による液晶層５の汚染が防がれる。したがって、表示装置用基板１０及び表示装置１は、混色及び輝度低下を防ぐと共に液晶の汚染を防ぐことができる。なお、配向膜５１は遮光層３３と比較して非常に薄いので、配向膜５１だけで遮光層３３による液晶層５の汚染を防ぐことは難しい。

表示装置用基板１０においては、遮光層３３が透光性着色層３２の表面ではなく、第１透光性樹脂層４１の表面に形成される。このため、遮光層３３の形状のバラツキが抑制されるので、遮光層３３を細くすることが容易である。したがって、表示装置用基板１０の開口率が向上するので、表示装置１における透過率（入射光量に対する出射光量の比）が向上する。

（変形例１）
図７は、変形例１に係る表示装置の断面図である。より具体的には、図７は、矩形の画素Ｐｉｘの平行な２辺の中点を含む平面で変形例１に係る表示装置１Ａを切った断面である。変形例１に係る表示装置用基板１０Ａは、上述した第２透光性樹脂層４２とは異なる第２透光性樹脂層４２Ａと、上述したスペーサ５３とは異なるスペーサ４２１と、を備える。

第２透光性樹脂層４２Ａは、樹脂で形成された透明な層である。第２透光性樹脂層４２Ａは、遮光層３３に対して＋Ｚ方向側に重なっている。例えば、Ｚ方向から見て、第２透光性樹脂層４２Ａの面積は第１基板２１の面積と同じである。第２透光性樹脂層４２Ａは、例えば光硬化性樹脂であって、第１透光性樹脂層４１及び遮光層３３に塗布された後に紫外線を照射されることで硬化する。

スペーサ４２１は、液晶層５の厚さ（セルギャップ）を保つための部材である。図７に示すように、スペーサ４２１は、第２透光性樹脂層４２Ａと同じ材料であり且つ第２透光性樹脂層４２Ａと一体に形成されている。例えば、スペーサ４２１は、いわゆるハーフ露光によって形成される。すなわち、第２透光性樹脂層４２Ａのうちスペーサ４２１を除く部分においては、照射される紫外線の量が少なくされる。そして、第２透光性樹脂層４２Ａのうち硬化しない部分が除去されることで、スペーサ４２１が形成される。スペーサ４２１及び第２透光性樹脂層４２Ａが同じ工程で製造されるので、製造効率が向上する。

（変形例２）
図８は、変形例２に係る表示装置の断面図である。より具体的には、図８は、矩形の画素Ｐｉｘの平行な２辺の中点を含む平面で変形例２に係る表示装置１Ｂを切った断面である。変形例２に係る表示装置用基板１０Ｂは、上述した第２透光性樹脂層４２とは異なる第２透光性樹脂層４２Ｂを備える。

第２透光性樹脂層４２Ｂは、樹脂で形成された透明な層である。第２透光性樹脂層４２Ｂは、遮光層３３に対して＋Ｚ方向側に重なっている。Ｚ方向から見て、第２透光性樹脂層４２Ｂの面積は第１基板２１の面積とは異なる。すなわち、第２透光性樹脂層４２Ｂは、図８に示すように遮光層３３に重なる一方、第１透光性樹脂層４１の一部には重ならない。このため、使用される樹脂の量が上述した実施形態より少なくなる。第２透光性樹脂層４２Ｂは、例えば光硬化性樹脂であって、遮光層３３に塗布された後に紫外線を照射されることで硬化する。

具体的には、第２透光性樹脂層４２Ｂは、遮光層３３と同様に格子状に配置されている。第２透光性樹脂層４２Ｂは、遮光層３３が配置されている位置にのみ配置されており、遮光層３３の表面のうち第１透光性樹脂層４１に接してない表面を覆う。変形例２は、遮光層３３が第１透光性樹脂層４１と第２透光性樹脂層４２Ｂとに挟まれることで保護される点については変形例１と同様であるが、第２透光性樹脂層４２Ｂが第１基板２１の全面に配置されない点において変形例１と異なる。図８に示すように、Ｘ方向における第２透光性樹脂層４２Ｂの幅は、遮光層３３の幅よりも大きい。Ｙ方向に関しても同様のことが言える。これにより、第２透光性樹脂層４２Ｂが遮光層３３を覆うことができるので、遮光層３３による液晶層５の汚染が抑制される。Ｚ方向から見て遮光層３３に重なる位置にスペーサ５３が配置される。第２透光性樹脂層４２Ｂ及びスペーサ５３は同一の樹脂材料で形成されていてもよい。この時は、第２透光性樹脂層４２Ｂが形成された後に、スペーサ５３が形成される。

図８に示すように、第１基板２１に垂直な断面において、隣接する遮光層３３の間の隙間は第２透光性樹脂層４２Ｂによって埋められない。このため、配向膜５１の一部及び液晶層５の一部は、隣接する遮光層３３の間に配置されることになる。

（変形例３）
図９は、変形例３に係る表示装置の断面図である。より具体的には、図９は、矩形の画素Ｐｉｘの平行な２辺の中点を含む平面で変形例３に係る表示装置１Ｃを切った断面である。変形例３に係る表示装置用基板１０Ｃは、上述した第２透光性樹脂層４２とは異なる第２透光性樹脂層４２Ｃと、上述したスペーサ５３とは異なるスペーサ４２１Ｃと、を備える。

第２透光性樹脂層４２Ｃは、樹脂で形成された透明な層である。第２透光性樹脂層４２Ｃは、遮光層３３に対して＋Ｚ方向側に重なっている。Ｚ方向から見て、第２透光性樹脂層４２Ｃの面積は第１基板２１の面積より小さい。すなわち、第２透光性樹脂層４２Ｃは、図９に示すように遮光層３３に重なる一方、第１透光性樹脂層４１の一部には重ならない。このため、使用される樹脂の量が上述した実施形態より少なくなる。第２透光性樹脂層４２Ｃは、例えば光硬化性樹脂であって、遮光層３３に塗布された後に紫外線を照射されることで硬化する。

具体的には、第２透光性樹脂層４２Ｃは、遮光層３３と同様に格子状に配置されている。図９に示すように、Ｘ方向における第２透光性樹脂層４２Ｃの幅は、遮光層３３の幅よりも大きい。Ｙ方向に関しても同様のことが言える。これにより、第２透光性樹脂層４２Ｃが遮光層３３を覆うことができるので、遮光層３３による液晶層５の汚染が抑制される。

図９に示すように、第１基板２１に垂直な断面において、隣接する遮光層３３の間の隙間は第２透光性樹脂層４２Ｃによっては埋められない。このため、配向膜５１の一部及び液晶層５の一部は、隣接する遮光層３３の間に配置されることになる。

スペーサ４２１Ｃは、液晶層５の厚さ（セルギャップ）を保つための部材である。図９に示すように、スペーサ４２１Ｃは、第２透光性樹脂層４２Ｃと同じ材料であり且つ第２透光性樹脂層４２Ｃと一体に形成されている。例えば、スペーサ４２１Ｃは、いわゆるハーフ露光によって形成される。すなわち、第２透光性樹脂層４２Ｃのうちスペーサ４２１Ｃを除く部分においては、照射される紫外線の量が少なくされる。そして、第２透光性樹脂層４２Ｃのうち硬化しない部分が除去されることで、スペーサ４２１Ｃが形成される。スペーサ４２１Ｃ及び第２透光性樹脂層４２Ｃが同じ工程で製造されるので、製造効率が向上する。

また、上述した実施形態及び変形例において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。

１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ 表示装置
１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ 表示装置用基板
１２ ゲートドライバ
１３ ソースドライバ
２１ 第１基板
２２ 第２基板
３２ 透光性着色層
３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂ 色領域
３３ 遮光層
４１ 第１透光性樹脂層
４２、４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃ 第２透光性樹脂層
４２１ スペーサ
５ 液晶層
５１、５２ 配向膜
５３ スペーサ
６１ 対向電極
６２ 画素電極
６３ 絶縁膜
７６ 液晶容量
７７ 保持容量
Ａ１ 表示領域
Ａ２ 額縁領域
ＧＣＬ 走査線
Ｐｉｘ 画素
ＳＰｉｘ 副画素
ＳＧＬ 信号線
Ｔｒ スイッチング素子
Ｖｃｏｍ コモン電位
Ｖｐｉｘ 画素信号
Ｖｓｃａｎ 走査信号

Claims (10)

1. 第１基板と、
   前記第１基板に重なる透光性着色層と、
   前記透光性着色層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第１透光性樹脂層と、
   前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、
   前記遮光層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第２透光性樹脂層と、
   を備え、
   前記透光性着色層を光が透過する表示領域の周囲に設けられた額縁領域の少なくとも一部において、前記第１透光性樹脂層は前記第１基板に接する
   表示装置用基板。
2. 前記第１基板に垂直な方向から見て、前記第１透光性樹脂層の面積は前記第１基板の面積と同じである
   請求項１に記載の表示装置用基板。
3. 前記第２透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる配向膜を備える
   請求項１に記載の表示装置用基板。
4. 前記遮光層に対して前記第１基板とは反対側に重なるスペーサを備える
   請求項１に記載の表示装置用基板。
5. 前記スペーサは、前記第２透光性樹脂層と同じ材料であり且つ前記第２透光性樹脂層と一体である
   請求項４に記載の表示装置用基板。
6. 前記第２透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる配向膜を備え、
   前記第１基板に垂直な断面において、前記配向膜の一部は隣接する前記遮光層の間に配置される
   請求項１に記載の表示装置用基板。
7. 前記遮光層に対して前記第１基板とは反対側に重なるスペーサを備え、
   前記スペーサは、前記第２透光性樹脂層と同じ材料であり且つ前記第２透光性樹脂層と一体である
   請求項６に記載の表示装置用基板。
8. 前記第１基板に垂直な方向から見て、前記第１基板に重なる前記遮光層の数は１つである
   請求項１に記載の表示装置用基板。
9. 前記第１基板に垂直な方向から見て、前記第２透光性樹脂層の面積は前記第１基板の面積と同じである
   請求項１に記載の表示装置用基板。
10. 第１基板を備える表示装置用基板と、
    前記第１基板に重なる第２基板と、
    前記表示装置用基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、
    を備え、
    前記表示装置用基板は、
    前記第１基板に重なる透光性着色層と、
    前記透光性着色層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第１透光性樹脂層と、
    前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、
    前記遮光層に対して前記第１基板とは反対側に重なる第２透光性樹脂層と、
    を備え、
    前記透光性着色層を光が透過する表示領域の周囲に設けられた額縁領域の少なくとも一部において、前記第１透光性樹脂層は前記第１基板に接する
    表示装置。

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