JP2017203193A - 電解研磨方法及び装置 - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 56
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 41
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 19
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 13
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 9
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 8
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
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Abstract
Description
さらに上記上下動機構にはこれを駆動させるモーター等のアクチュエータやカム機構等を必要とするだけでなく、この機構による籠型電極の上下動では対象物の支持姿勢の変動効果が十分得られず、その結果研磨ムラが生じる場合があるという問題がある。特に含有酸素分析用の金属小片を対象物として電解研磨する場合、研磨ムラにより対象物表面に残存した酸化層に起因して酸素分析値が高めに出るという問題があった。
また、特許文献1の装置は、電解研磨装置と洗浄装置が並設されているものの、両装置による研磨と洗浄は非連続的に各別に行われる。そのため作業が非効率であり、作業者によって処理時間や電解液洗浄液の交換時期などの運用条件がばらつく結果、電解研磨処理の再現性が確保できていなかった。
本発明は、従来の電解研磨方法及び装置に関わる上述の課題を解決し、より均一且つ安定した処理が可能であり且つ分析作業の現場においてより効率が高く操作に任意性が入る余地が少ない、電解研磨方法及び装置を提供することを目的とする。
2 供給配管
3 排出配管
4 循環ポンプ
6 電解液
7 排液バルブ
8 ホルダー(電極)
9 冷却回路
11 チラー(冷却機)
12 ノズル
13 ガス供給配管
14 超音波洗浄槽
16 洗浄水
17 精製水
18 有機溶剤
19 水洗浄槽
21 溶剤洗浄槽
22 供給タンク
23 供給タンク
24 給液管
26 給液管
27 供給ポンプ
28 供給ポンプ
29 排液管
31 排液管
32 排液ポンプ
33 排液ポンプ
34 排液タンク
36 排液タンク
37 下限センサー
38 上限センサー
39 オーバーフロー管
41 オーバーフロー管
50 電極
51 フレーム
51a 機械室
51b 収納室
52 中床
53 操作パネル
54 電解研磨用電源
55 ハーネス
56 ボンベ
57 受取りホッパー
58 ガイドシリンダー
59 スクリュー軸(ボールねじ)
60 ガイドロッド
61 モーター
62 移送装置
63 スライダー
64 昇降アクチュエータ(エアシリンダー)
65 ハーネス
66 反転装置(ロータリーアクチュエータ)
67 開閉カバー
68 取出室
69 ガイド管
70a フランジ
70b フランジ
71 取出カップ
71a 開閉蓋
72 アクチュエータ(エアシリンダー)
73 吹付ノズル
74 投入管
75 隔壁
76 開閉カバー
77 投入シャッター
78 アクチュエータ
79 開閉カバー
81 操作スイッチパネル
A 研磨部
B 洗浄部
C 取出部
D 供給部
L 処理ライン
Claims (10)
- 電解研磨の対象物を電解槽内に収容した電解液中に浸漬して電解研磨を行う方法であって、電解液中で対象物に対してバブリングガスを噴出させてバブリングを行う動作と、電解槽内の電解液の排出と電解槽内への電解液の供給とを同時に行う電解液の入れ換え動作とのいずれか一方又はこれらの組合せの動作により、該電解液内で対象物の転動又は姿勢変動をさせる電解研磨方法。
- 前記入れ換え動作では、電解槽内の電解液を外部の循環ポンプにより循環させる請求項1に記載の電解研磨方法。
- 電解槽において対象物を籠型の電極からなるホルダー内で保持し、該ホルダー内で対象物を転動又は姿勢変動させる請求項1又は2のいずれかに記載の電解研磨方法。
- 電解槽に供給する電解液を電解槽の外部で冷却する請求項1または2または3のいずれかに記載の電解研磨方法。
- 電解液を収容し、該電解液中に電解研磨の対象物を浸漬して電解研磨を行う電解槽に対し、該電解槽内の電解液中で上記対象物に対してバブリングガスを噴出させてバブリングを行う噴出ノズルと、電解槽に対して電解液の供給・排出を同時に行う供給・排出装置とのいずれか一方又は両方を設置し、上記バブリング又は電解液の供給・排出のうち少なくとも一方により電解液内で対象物の転動又は姿勢変動をさせる電解研磨装置。
- 前記供給・排出装置が、電解液の供給・排出配管と、供給・排出配管の途中に設けられる循環ポンプとを有する請求項5に記載の電解研磨装置。
- 電解槽の電解液供給配管に電解液を冷却するチラー(冷却機)を設けてなる請求項5また6のいずれかに記載の電解研磨装置。
- 前記電解槽と、電解研磨した対象物を洗浄する超音波洗浄槽と、洗浄後の対象物を取出す取出部とを並設して処理ラインを形成し、上記対象物を受取って収容し且つ電解槽と超音波洗浄槽上で昇降して浸漬するホルダーと、上記処理ライン上で該ホルダーを移送する移送装置と、取出部上でホルダーを反転回動させて対象物を取出部に放出する反転装置とを設けてなる請求項5から7のいずれかに記載の電解研磨装置。
- 前記取出部の上方から内部に向かって非酸化性ガスを吹付ける吹付ノズルを設けた請求項8に記載の電解研磨装置。
- 前記処理ラインの途中又は前記処理ラインの延長上にホルダーに対象物を投入する供給部を設けてなる請求項8または9のいずれかに記載の電解研磨装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016096046A JP6697947B2 (ja) | 2016-05-12 | 2016-05-12 | 電解研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016096046A JP6697947B2 (ja) | 2016-05-12 | 2016-05-12 | 電解研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017203193A true JP2017203193A (ja) | 2017-11-16 |
JP6697947B2 JP6697947B2 (ja) | 2020-05-27 |
Family
ID=60322078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016096046A Active JP6697947B2 (ja) | 2016-05-12 | 2016-05-12 | 電解研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6697947B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108396368A (zh) * | 2018-03-02 | 2018-08-14 | 上海大学 | 一种金属件的电解抛光方法 |
EP3613877A4 (en) * | 2018-02-02 | 2020-05-13 | Marui Galvanizing Co., Ltd | METHOD AND DEVICE FOR ELECTROLYTIC POLISHING |
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- 2016-05-12 JP JP2016096046A patent/JP6697947B2/ja active Active
Cited By (2)
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JP6697947B2 (ja) | 2020-05-27 |
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