JP2017202109A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017202109A5
JP2017202109A5 JP2016095586A JP2016095586A JP2017202109A5 JP 2017202109 A5 JP2017202109 A5 JP 2017202109A5 JP 2016095586 A JP2016095586 A JP 2016095586A JP 2016095586 A JP2016095586 A JP 2016095586A JP 2017202109 A5 JP2017202109 A5 JP 2017202109A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tomographic
image
optical
light
ghost
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016095586A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6775995B2 (ja
JP2017202109A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2016095586A priority Critical patent/JP6775995B2/ja
Priority claimed from JP2016095586A external-priority patent/JP6775995B2/ja
Publication of JP2017202109A publication Critical patent/JP2017202109A/ja
Publication of JP2017202109A5 publication Critical patent/JP2017202109A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6775995B2 publication Critical patent/JP6775995B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

上述した課題を解決するために、本発明に係る光断層撮像装置の一例は、
光源から射出された光より分割された測定光が照射された被検体からの戻り光と、前記射出された光より分割された参照光とを合波して得た干渉光より得られる断層情報に基づいて断層画像を生成する画像生成手段と
記測定光を前記被検体に導くための測定光学系を駆動する駆動手段と、
記測定光学系を構成する少なくとも1つの光学素子で反射した反射光と前記参照光との干渉により生じるゴーストが現れていない状態の被検体像を含む断層画像が得られるように、少なくとも前記駆動手段を前記断層情報に基づいて制御する制御手段と、
備えることを特徴とする。

Claims (21)

  1. 光源から射出された光より分割された測定光が照射された被検体からの戻り光と、前記射出された光より分割された参照光とを合波して得た干渉光より得られる断層情報に基づいて断層画像を生成する画像生成手段と
    記測定光を前記被検体に導くための測定光学系を駆動する駆動手段と
    記測定光学系を構成する少なくとも1つの光学素子で反射した反射光と前記参照光との干渉により生じるゴーストが現れていない状態の被検体像を含む断層画像が得られるように、少なくとも前記駆動手段を前記断層情報に基づいて制御する制御手段と、
    備えることを特徴とする光断層撮像装置。
  2. 前記測定光学系を含む光学ヘッドに含まれ、前記測定光の光路長と参照光の光路長との差を調整する調整手段であって、前記光学ヘッドと前記被検体との距離が維持された状態で前記差の調整が可能な調整手段を更に備え、
    前記駆動手段は、少なくとも前記被検体の深さ方向における前記被検体に対する前記光学ヘッドのアライメントが可能であり、
    前記制御手段は、前記ゴーストが現れていない状態の被検体像を含む断層画像が得られるように、前記駆動手段を前記断層情報に基づいて制御し、且つ前記調整手段を前記断層情報に基づいて制御することを特徴とする請求項1に記載の光断層撮像装置。
  3. 前記制御手段は、前記被検体と前記測定光学系との作動距離が所定の作動距離になるように前記駆動手段を制御し且つ前記差が所定の光路長差になるように前記調整手段を制御した後に、前記断層画像における前記ゴーストが被検体像に現れている場合には、前記ゴーストが現れていない状態の被検体像を含む断層画像を得るための前記作動距離の変更であって、前記作動距離の変更に伴う前記被検体に対する前記測定光の光路長の変更が前記差の調整によって低減されるように、前記駆動手段を前記断層情報に基づいて制御し、且つ前記調整手段を前記断層情報に基づいて制御することを特徴とする請求項2に記載の光断層撮像装置。
  4. 前記制御手段は、前記ゴーストの前記断層画像での出現位置と、前記断層画像における前記被検体像の配置とに基づいて、前記駆動手段による前記所定の作動距離からの前記作動距離の変更、及び前記調整手段による前記所定の光路長差からの前記差の変更を実行させることにより、前記ゴーストの前記出現位置を移動させることを特徴とする請求項3に記載の光断層撮像装置。
  5. 光源から射出された光より分割された測定光が照射された被検体からの戻り光と、前記射出された光より分割された参照光とを合波して得た干渉光より得られる断層情報に基づいて断層画像を生成する画像生成手段と
    記測定光を前記被検体に導くための測定光学系を駆動する駆動手段と、
    前記測定光の光路長と前記参照光の光路長との差を調整する調整手段と、
    前記被検体と前記測定光学系との作動距離が所定の作動距離になるように前記駆動手段を制御し且つ前記差が所定の光路長差になるように前記調整手段を制御した後に、前記測定光学系を構成する少なくとも1つの光学素子で反射した反射光により生じるゴーストの前記断層画像での出現位置と、前記断層画像における被検体像の配置とに基づいて、前記駆動手段による前記所定の作動距離からの前記作動距離の変更、及び前記調整手段による前記所定の光路長からの前記の変更の少なくとも何れかを実行させることにより、前記ゴーストの前記出現位置を移動させる制御手段と、
    備えることを特徴とする光断層撮像装置。
  6. 前記ゴーストの前記断層画像での前記出現位置を前記断層情報に基づいて特定
    前記断層情報に基づいて、前記被検体像の前記断層画像における前記配置を特定する特定手段を更に備えることを特徴とする請求項4又は5に記載の光断層撮像装置。
  7. 前記特定手段は、前記断層画像において前記被検体の深さ方向に対応する方向に並ぶ画素群の中で周囲の画素とは無関係に存在する輝度ピークを示す画素を探索することにより前記出現位置を特定し、
    前記断層画像において前記被検体の深さ方向に対応する方向において画素値が連続的に変化するように並ぶ画素群の中で輝度ピークを示す画素を探索することにより前記配置を特定することを特徴とする請求項6に記載の光断層撮像装置。
  8. 前記参照光の前記光路長と前記ゴーストの前記出現位置との関係についてのテーブルに基づいて前記ゴーストの前記出現位置を特定
    前記断層情報に基づいて、前記被検体像の前記断層画像における前記配置を特定する特定手段を更に備えることを特徴とする請求項4又は5に記載の光断層撮像装置。
  9. 前記制御手段は、前記出現位置と前記配置とから、前記断層画像の所定位置に前記被検体像が配置された時に前記ゴーストが前記断層画像に出現すると判定された場合に、少なくとも前記駆動手段によって前記所定の作動距離から前記作動距離を変更した上で、前記被検体像を前記断層画像の前記所定位置に配置させることを特徴とする請求項4乃至8の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  10. 前記制御手段は、前記駆動手段によって前記作動距離を変更できる許容範囲を設定しており、
    前記制御手段は、前記出現位置と前記配置とから、前記断層画像の所定位置に前記被検体像が配置された時に前記ゴーストが前記断層画像に出現すると判定された場合に、前記駆動手段によって前記所定の作動距離から前記作動距離を前記許容範囲まで変更した後、前記調整手段により前記所定の光路長から前記差の変更実行させて前記被検体像を前記断層画像の前記所定位置に配置させることを特徴とする請求項4乃至9の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  11. 前記制御手段は、前記出現位置と前記配置とから、前記断層画像の所定位置に前記被検体像が配置された時に前記ゴーストが前記断層画像に出現しないと判定された場合に、前記調整手段に前記所定の光路長から前記差の変更実行させて前記被検体像を前記断層画像の前記所定位置に配置させることを特徴とする請求項4乃至10の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  12. 前記断層画像における深さ方向の距離と前記の調整量との関係、及び前記断層画像における前記深さ方向の距離と前記作動距離の変更量との関係を記憶する記憶手段を更に備え
    前記制御手段は前記被検体像に対する前記出現位置と、前記記憶手段に記憶された前記関係の少なくとも何れかに基づいて、前記ゴーストの出現位置を移動させることを特徴とする請求項乃至11の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  13. 前記制御手段は、前記被検体像と前記ゴーストとが重ならない状態の断層画像が得られるように、または前記ゴーストが現れていない断層画像が得られるように、少なくとも前記駆動手段を前記断層情報に基づいて制御することを特徴とする請求項1乃至12の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  14. 前記測定光を前記被検体において二次元で走査する走査部を更に備え
    前記画像生成手段は、前記測定光の走査により得られた前記被検体の三次元の前記断層情報に基づいて前記断層画像を生成することを特徴とする請求項1乃至1の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  15. 前記断層画像に出現する前記ゴーストを示す表示形態を、前記断層画像に付記させる表示制御手段を有することを特徴とする請求項1乃至1の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  16. 前記駆動手段の制御中において前記ゴーストが現れていない状態の被検体像を含む断層画像が得られるまで、前記ゴーストが現れている状態の被検体像を含む断層画像を表示手段に表示させる表示制御手段を更に備えることを特徴とする請求項1乃至14の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  17. 前記光源は波長掃引光源であり、
    前記ゴーストは、前記光学素子が前記測定光を反射する反射面までのコヒーレンスゲートからの距離が前記波長掃引光源の共振器長の整数倍となる時に前記反射光と前記参照光との干渉により生じるコヒーレンスリバイバルゴーストであることを特徴とする請求項1乃至1の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  18. 前記被検体は被検眼であることを特徴とする請求項1乃至1の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  19. 光源から射出された光より分割された測定光が照射された被検体からの戻り光と、前記射出された光より分割された参照光とを合波して得た干渉光より得られる断層情報に基づいて断層画像を生成する画像生成手段と、前記測定光を前記被検体に導くための測定光学系を駆動する駆動手段と、を備える光断層撮像装置の作動方法であって、
    記測定光学系を構成する少なくとも1つの光学素子で反射した反射光と前記参照光との干渉により生じるゴーストが現れていない状態の被検体像を含む断層画像が得られるように、少なくとも前記駆動手段を前記断層情報に基づいて制御する工程を含むことを特徴とする光断層撮像装置の作動方法。
  20. 光源から射出された光より分割された測定光が照射された被検体からの戻り光と、前記射出された光より分割された参照光とを合波して得た干渉光より得られた断層情報に基づいて断層画像を生成する画像生成手段と、前記測定光を前記被検体に導くための測定光学系を駆動する駆動手段と、前記測定光の光路長と前記参照光の光路長との差を調整する調整手段と、を備える光断層撮像装置の作動方法であって、
    前記被検体と前記測定光学系との作動距離が所定の作動距離になるように前記駆動手段を制御し且つ前記差が所定の光路長差になるように前記調整手段を制御した後に、前記測定光学系を構成する少なくとも1つの光学素子で反射した反射光により生じるゴーストの前記断層画像での出現位置と、前記断層画像における被検体像の配置とに基づいて、前記駆動手段による前記所定の作動距離からの前記作動距離の変更、及び前記調整手段による前記所定の光路長からの前記の変更の少なくとも何れかを実行させることにより、前記ゴーストの前記出現位置を移動させる工程を含むことを特徴とする光断層撮像装置の作動方法。
  21. 請求項1又は20に記載の作動方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
JP2016095586A 2016-05-11 2016-05-11 光断層撮像装置、光断層撮像装置の作動方法、及びプログラム Active JP6775995B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016095586A JP6775995B2 (ja) 2016-05-11 2016-05-11 光断層撮像装置、光断層撮像装置の作動方法、及びプログラム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016095586A JP6775995B2 (ja) 2016-05-11 2016-05-11 光断層撮像装置、光断層撮像装置の作動方法、及びプログラム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017202109A JP2017202109A (ja) 2017-11-16
JP2017202109A5 true JP2017202109A5 (ja) 2019-06-13
JP6775995B2 JP6775995B2 (ja) 2020-10-28

Family

ID=60322699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016095586A Active JP6775995B2 (ja) 2016-05-11 2016-05-11 光断層撮像装置、光断層撮像装置の作動方法、及びプログラム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6775995B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7476617B2 (ja) 2020-03-31 2024-05-01 株式会社ニデック 眼科装置、および眼科装置用プログラム

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6615072B1 (en) * 1999-02-04 2003-09-02 Olympus Optical Co., Ltd. Optical imaging device
US7621636B2 (en) * 2007-01-10 2009-11-24 Clarity Medical Systems, Inc. Working distance and alignment sensor for a fundus camera
EP2615966A1 (en) * 2010-09-17 2013-07-24 Lltech Management Full-field optical coherence tomography system for imaging an object
JP5981722B2 (ja) * 2011-04-27 2016-08-31 キヤノン株式会社 眼科装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9350925B2 (en) Image processing apparatus and method
RU2017124850A (ru) Внутрихирургическое изображение оптической когерентной томографии операции по удалению катаракты
JP6000554B2 (ja) 顕微鏡システム
WO2016050101A1 (zh) 一种3d激光打标机的可控距离指示方法及可控距离指示装置
US20150116460A1 (en) Method and apparatus for generating depth map of a scene
WO2016095485A1 (zh) 一种3d激光打标机的可控距离指示方法、打标方法、可控距离指示装置及3d激光打标机
JPWO2015189985A1 (ja) 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、形状測定プログラム、及び記録媒体
JP2014102352A (ja) 画像測定機のled照明方法及び装置
JP2018106496A5 (ja)
JP4652252B2 (ja) 画像測定システム、画像測定方法及び画像測定プログラム
JP2012213466A5 (ja)
JP2017129561A5 (ja)
JP5527274B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JP2014147500A5 (ja)
JP2017202109A5 (ja)
JP2014147499A5 (ja)
JP2018007924A5 (ja)
US10189238B2 (en) Exposure molding device and exposure molding method thereof
JP2016130771A (ja) 表示装置、制御方法、プログラム及び記憶媒体
JP2014507674A5 (ja)
DE112018001048B4 (de) Anzeigevorrichtung, Verfahren zum Steuern der Anzeigevorrichtung, Programm, Aufzeichnungsmedium und mit Anzeigevorrichtung ausgestatteter bewegter Körper
US10497142B2 (en) Shape measuring device
CN204178614U (zh) 一种改进型迈克尔逊干涉仪
US10958032B2 (en) Increased spectral linewidth and improved laser control
JP6188384B2 (ja) 形状測定装置