JP2017173105A - 異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法 - Google Patents

異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2017173105A
JP2017173105A JP2016058799A JP2016058799A JP2017173105A JP 2017173105 A JP2017173105 A JP 2017173105A JP 2016058799 A JP2016058799 A JP 2016058799A JP 2016058799 A JP2016058799 A JP 2016058799A JP 2017173105 A JP2017173105 A JP 2017173105A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass plate
glass
foreign matter
ultraviolet light
foreign
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016058799A
Other languages
English (en)
Inventor
大介 北山
Daisuke Kitayama
大介 北山
塚本 徹
Toru Tsukamoto
徹 塚本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2016058799A priority Critical patent/JP2017173105A/ja
Priority to TW106109481A priority patent/TW201736835A/zh
Priority to KR1020170035949A priority patent/KR20170110529A/ko
Priority to CN201710178789.3A priority patent/CN107228862A/zh
Publication of JP2017173105A publication Critical patent/JP2017173105A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02Forming sheets
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/33Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust
    • G01N2021/945Liquid or solid deposits of macroscopic size on surfaces, e.g. drops, films, or clustered contaminants

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

【課題】ガラス板に付着した微小な異物を検出する精度を向上できる異物検出装置を提供する。【解決手段】異物検出装置10は、フロート法を用いて形成されたガラス板Gの溶融錫に接触していた面に紫外領域の波長を有する紫外光を照射する照明部11と、紫外光が照射されるガラス板の領域を撮像する撮像部12と、撮像部により撮像される画像において暗点となる画素または領域の有無に基づいてガラス板の表面における異物の有無を判定する判定部13と、を備える。【選択図】図1

Description

本発明は、異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法に関する。
フロート法を用いたガラス板の成形において、溶融錫と接触していたガラス板の下面に微小の溶融錫が付着した状態で、ガラス板が溶融錫上から引き出される場合がある。ガラス板の下面に付着した溶融錫は、ガラス板が溶融錫上から引き出された後に酸化錫(ドロス)となり、異物となる。ガラス板の製造工程では、ドロス等の異物を検出する技術が用いられている(特許文献1)。
特許第5471157号公報
しかし、特許文献1に記載されている技術は、大きさが50μm程度のドロスの検出を目的としており、大きさが10μm前後のドロスを検出するには芒硝膜等の外乱の影響を受けて、検出の精度が低下したり、検出できなかったりする問題がある。
本発明は、前記事情に鑑み、ガラス板に付着した微小な異物を検出する精度を向上できる異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法を提供する。
本発明の一態様は、フロート法を用いて形成されたガラス板の溶融錫に接触していた面に紫外領域の波長を有する紫外光を照射する照明部と、前記紫外光が照射される前記ガラス板の領域を撮像する撮像部と、前記撮像部により撮像される画像において暗点となる画素または領域の有無に基づいて前記ガラス板の表面における異物の有無を判定する判定部と、を備える異物検出装置である。
また、本発明の一態様は、前記異物検出装置において、前記照明部は、150nmから300nmの範囲内の波長を含む紫外光を前記ガラス板に照射する。
また、本発明の一態様は、前記異物検出装置において、前記照明部は、LED照明、水銀ランプ、YAGレーザーまたはエキシマレーザーを光源として備える。
また、本発明の一態様は、フロート法を用いて形成されたガラス板の溶融錫に接触していた面に紫外領域の波長を有する紫外光を照射する照明工程と、前記照明工程により紫外光が照射される前記ガラス板の領域を撮像する撮像工程と、前記撮像工程により撮像される画像において暗点となる画素または領域の有無に基づいて前記ガラス板の表面における異物の有無を判定する判定工程と、を有する異物検出方法である。
また、本発明の一態様は、前記異物検出方法において、前記照明工程では、150nmから300nmの範囲内の波長を含む紫外光を前記ガラス板に照射する。
また、本発明の一態様は、ガラスの原材料を溶融して溶融ガラスを得る溶融工程と、前記溶融ガラスを連続した板状のガラスリボンに成形する成形工程と、前記ガラスリボンを移動させながら徐々に冷却する徐冷工程と、前記ガラスリボン表面における異物を検出する検査工程と、前記ガラスリボンを切断する切断工程と、を有するガラス板の製造方法であって、前記検査工程は、前記ガラスリボンを対象として前記異物検出方法によって行われる、ガラス板の製造方法である。
本発明によれば、ガラス板に付着した微小な異物を検出する精度を向上できる。
第1の実施形態における異物検出装置の構成を示す模式図。 第1の実施形態における異物検出装置をガラス板の板幅方向から見た図。 第2の実施形態における、異物検出装置を適用したガラス板の製造ラインの概略説明図。 第2の実施形態におけるガラス板の製造方法の工程を示す図。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態における異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法を説明する。実施形態の異物検出装置は、フロート法を用いて成形されるガラス板の下面または上面に付着している約10μmより大きい異物を検出する。ガラス板の下面とは鉛直方向において下側の面であり、ガラス板の上面とは鉛直方向において上側の面である。以下ガラス板の上面と下面とを総称して表面という。
[第1の実施形態]
図1は、第1の実施形態における異物検出装置10の構成を示す模式図である。異物検出装置10は、ローラー上において搬送されるガラス板Gの下面に付着している異物を検出する。検出対象の異物は、たとえば溶融錫に接触していたガラス板Gの下面に付着するドロスである。異物検出装置10は、照明装置11と、撮像装置12と、判定装置13とを備える。図1において、ガラス板Gが搬送される方向をy軸方向とし、ガラス板Gの表面に沿った方向であってy軸方向と垂直な方向をx軸方向(板幅方向)とし、ガラス板Gの表面と垂直な方向(板厚方向)をz軸方向とする。
照明装置11は、紫外領域の波長を有する光(以下「紫外光」という。)を、ガラス板の検査領域に向けてガラス板の下面方向から照射する。照明装置11は、ガラス板Gの下面にx軸方向において満遍なく紫外光を照射する。照明装置11から照射される紫外光の波長は、たとえば150nmから300nmの範囲内の波長である。紫外光の波長は、フロート法を用いて形成されたガラス板Gの下面、すなわち溶融錫に接触した面(以下「錫面」という。)に紫外光を照射したときに錫面が白色蛍光する波長である。照明装置11として、たとえばLED照明と、水銀ランプと、YAGレーザーまたはエキシマレーザーを発生させる光源とのいずれかが用いられる。YAGレーザーまたはエキシマレーザーを用いる場合には、ポリゴンミラーが用いられ、検査領域のx軸方向に満遍なく紫外光を照射する。
撮像装置12は、照明装置11により紫外光が照射されるガラス板Gの検査領域を撮像対象とする。撮像対象には、ガラス板Gの幅方向の両端が含まれる。撮像装置12の撮像センサとして、錫面に紫外光を照射したときの白色蛍光の有無を検出できるモノクロまたはカラーのセンサが用いられる。また、撮像装置12の撮像センサは、エリアセンサまたはラインセンサのいずれでもよい。撮像装置12は、紫外光を直接受けないように、照明装置11が紫外光を照射する光軸上に配置されないことが好ましい。撮像装置12が紫外光の光軸上に配置される場合、撮像装置12に紫外光を減衰させるフィルタを設けることが好ましい。
判定装置13は、撮像装置12により撮像された画像に基づいて、ガラス板Gの表面に異物が付着しているか否かを判定する。ガラス板Gの錫面に紫外光が照射されると錫面が白色蛍光するのに対して、ガラス板Gの錫面に異物が付着している場合には紫外光が異物に遮られて錫面に到達しないため白色蛍光しない。すなわち、錫面に異物が付着している場合、紫外光による白色蛍光が発生せずに、異物が付着している箇所は異物が付着していない箇所に比べて暗くなる。判定装置13は、撮像装置12により撮像された画像において白色蛍光が発生していない暗点を検知することにより、ガラス板Gの錫面における異物の有無を判定する。
判定装置13における暗点の検知は、画像における画素の輝度値がしきい値以下であるか否かを判定することにより行われる。しきい値は、事前に異物が付着しているガラス板を撮像して得られた画像の輝度に基づいて定めてもよいし、画像における全画素の輝度の平均値、最頻値または中央値の統計値に基づいて定めてもよい。
図2は、第1の実施形態における異物検出装置10をガラス板Gの板幅方向から見た図である。照明装置11から照射される紫外光は、異物がガラス板Gの表面に付着していない場合には、ガラス板Gの錫面に到達し、錫面において白色蛍光を生じさせる。これに対して、ガラス板Gの錫面に異物Dが付着している場合、照明装置11から照射される紫外光はガラス板Gの錫面に到達せず、錫面において白色蛍光が生じない。すなわち、異物Dが付着している箇所は、他の箇所に比べて暗くなり、撮像装置12により撮像される画像において暗点となる。判定装置13は、画像における暗点の有無に基づいて異物の有無を判定する。ガラス板Gの錫面における緩衝膜としての芒硝膜は、紫外光が錫面に到達して白色蛍光を生じさせることに影響を与えないため、芒硝膜の有無にかかわらず異物検出装置10は異物を検出できる。ガラス板Gを保護する緩衝膜を芒硝が構成することを例示したが、緩衝膜は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の硫酸塩、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩化物、酸化セラミックス、窒化セラミックスおよび金属硫化物から選択された少なくとも1種類の物質で構成してもよい。
第1の実施形態における異物検出装置10が、フロート法を用いて形成されたガラス板Gの溶融錫に接触していた錫面に紫外領域の波長を有する紫外光を照射する照明装置11と、照明装置11により紫外光が照射されるガラス板Gの領域を撮像する撮像装置12と、撮像装置12により撮像される画像において暗点となる画素または領域の有無に基づいてガラス板Gの表面における異物の有無を判定する判定装置13とを備えるため、フロート法で成形されたガラス板G(ガラスリボン)の下面に表面保護用の芒硝膜が存在していても、芒硝膜の影響を受けることなく、ガラス板Gの表面に付着している異物を検出できる。
第1の実施形態では、検出する異物としてドロスを例にした説明をした。しかし、異物検出装置10は、ガラス板Gの錫面に紫外光が到達することを妨げるものであれば、異物として検出できる。また、ガラス板Gの上面に異物が付着している場合も白色蛍光による光が異物により遮られるため、異物が付着している位置に対応する画素の輝度が低くなり画像に暗点が現れる。すなわち、異物検出装置10は、ガラス板Gの下面および上面のいずれに付着している異物を検出でき、ガラス板に付着した微小な異物を検出する精度を向上できる。
可視領域の光を用いた暗視野で異物の検出を行う場合、ドロスのような透過率を有する異物を検出するには、分解能を細かくしなければならない。すなわち、芒硝膜において幾何光学的な散乱が生じてしまうため、ガラス板Gの芒硝膜を洗浄等で除去した後でないと約10μm前後の微小な異物の検出が難しかった。一方、可視領域の光を用いた明視野で異物の検出を行う場合、暗視野の分解能に比べ明視野の分解能が低いため、芒硝膜の影響下で約10μm前後の微小な異物の検出に10μmより高い解像度の撮像装置を用いる必要がある。これに対して、異物検出装置10によれば、ガラス板Gの芒硝膜を除去する前であっても、検出対象となる異物の最小サイズ(10μm前後)よりも粗い解像度、たとえば15μmの解像度の撮像装置12を用いても約10μm前後の微小な異物を検出できる。
なお、図1には、異物検出装置10が照明装置11と撮像装置12とを一つずつ備える構成を示したが、ガラス板Gの検査領域の広さに応じて、異物検出装置10は複数の照明装置11と撮像装置12とを備えてもよい。また、図1には、撮像装置12がガラス板Gの上面側に設けられる構成を示したが、撮像装置12をガラス板Gの下面側(錫面側)に設けてもよい。
また、異物検出装置10に備えられる照明装置11がガラス板Gの検査領域の全体に紫外光を照射する構成を説明したが、照明装置11は紫外領域の波長を有するレーザーをガラス板Gの検査領域に照射する構成であってもよい。レーザーを照射する場合、照明装置11は、紫外領域の波長を有するレーザーを板幅方向に走査して、搬送されるガラス板Gの全面にレーザーを順次照射する。また、撮像装置12は、照明装置11によりレーザーが照射される領域を撮像対象として、照明装置11の動作に同期した撮像を行う。
また、照明装置11が照射する紫外光の波長が150nmから300nmの範囲内の波長である場合を説明した。しかし、紫外光の波長は、150nmから300nmの範囲内の一部分の波長であってもよい。たとえば、ガラス板Gの錫面における白色蛍光の強度が300nmより強くなる250nmを上限とした範囲を、紫外光の波長としてもよい。また、照明装置11が照射する紫外光として、213nmに強度のピークを有する紫外光を用いてもよい。
[第2の実施形態]
第2の実施形態では、ガラス板の製造ラインにおける異物検出装置10の適用例を説明する。図3は、第2の実施形態における、異物検出装置10を適用したガラス板の製造ラインの概略説明図である。図3に示す製造ラインにおけるガラス板の製造方法は、ガラス原材料を溶融して溶融ガラスを得る溶融工程と、溶融ガラスを連続した板状のガラスリボンに成形する成形工程と、ガラスリボンを移動させながら徐々に冷却する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程と、を有するガラス板の製造方法において、さらに徐冷工程と切断工程との間でガラスリボンの下面に付着した異物(ドロス)を異物検出装置10で検出する検査工程と、を有する。図4は、第2の実施形態におけるガラス板の製造方法の工程を示す図である。図4に示す成形工程は、フロート法を用いたガラス板の製造方法である。
溶融工程(図4のS1)では、珪砂、石灰石、ソーダ灰等の原材料をガラス製品の組成に合わせて調合し混合したバッチを溶融窯に投入し、ガラスの種類に応じて約1400℃以上の温度に加熱溶融して溶融ガラスを得る。たとえば、溶融窯の一端から溶融窯内へバッチを投入し、重油を燃焼して得られる火炎または天然ガスを空気と混合して燃焼して得られる火炎をバッチに吹きつけて、約1550℃以上の温度に加熱してバッチを溶かすことによって溶融ガラスを得る。また、電気溶融炉を用いて溶融ガラスを得てもよい。
成形工程(図4のS2)では、溶融工程で得られた溶融ガラスを溶融窯下流部201から溶融錫浴203へと導入し、溶融錫202上に溶融ガラスを浮かせて図中の搬送方向に進行させることによって連続した板状のガラスリボン204(ガラス板Gに相当する。)とする。このとき、所定の板厚のガラスリボン204を成形するために、ガラスリボン204の両サイド部分に回転するロール(トップロール205)を押圧し、ガラスリボン204を幅方向(搬送方向に垂直な方向)外側に引き伸ばす。
徐冷工程(図4のS3)では、前記成形されたガラスリボン204をリフトアウトロール208によって溶融錫浴203から引き出し、ガラスリボン204を金属ロール209を用いて徐冷炉210内で図中の搬送方向に移動させる。リフトアウトロール208を通過する際に、ガラスリボン204の下面に硫黄成分を含むガスが吹きつけられ、ガラスリボン204表面のナトリウム成分と硫黄成分とが反応して硫酸ナトリウムが析出して芒硝膜が形成される。徐冷炉210においてガラスリボン204は徐々に冷却され、徐冷炉210から出て切断工程に至る間でさらに常温近くまで冷却される。徐冷炉210は、燃焼ガスまたは電気ヒータによって制御された熱量を供給して徐冷を行うための機構を炉内の必要位置に備えている。徐冷炉210から出た段階のガラスリボン204の温度は、ガラスリボン204のガラスの歪点以下の温度となっており、ガラスの種類にもよるが通常は150〜250℃まで冷却されている。徐冷工程は、ガラスリボン204内部の残留応力を取り除くことと、ガラスリボン204の温度を下げる目的で実施される。徐冷工程において、ガラスリボン204は検出部211(異物検出装置10に相当する。)を通り表面に付着した異物の検出が行われる(検査工程、図4のS4)。さらにその後、ガラスリボン204はガラスリボン切断部212まで搬送される。ガラスリボン切断部212において常温近くまで徐冷されたガラスリボン204が切断される(切断工程、図4のS5)。ガラスリボン切断部212におけるガラスリボンの温度は、その場所の雰囲気温度〜50℃であることが通例である。
上述のガラス板の製造方法によれば、ガラス板に付着した微小な異物を精度よく検出でき、異物が付着しているガラス板と異物が付着していないガラス板とを選別できる。
なお、図1における判定装置13の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより、判定装置13を実現してもよい。ここでいう「コンピュータシステム」とは、OSや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD−ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。また前記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもあってもよい。
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は前記の実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。
10…異物検出装置、11…照明装置、12…撮像装置、13…判定装置

Claims (6)

  1. フロート法を用いて形成されたガラス板の溶融錫に接触していた面に紫外領域の波長を有する紫外光を照射する照明部と、
    前記紫外光が照射される前記ガラス板の領域を撮像する撮像部と、
    前記撮像部により撮像される画像において暗点となる画素または領域の有無に基づいて前記ガラス板の表面における異物の有無を判定する判定部と、
    を備える異物検出装置。
  2. 前記照明部は、150nmから300nmの範囲内の波長を含む紫外光を前記ガラス板に照射する、請求項1に記載の異物検出装置。
  3. 前記照明部は、LED照明、水銀ランプ、YAGレーザーまたはエキシマレーザーを光源として備える、請求項1または2に記載の異物検出装置。
  4. フロート法を用いて形成されたガラス板の溶融錫に接触していた面に紫外領域の波長を有する紫外光を照射する照明工程と、
    前記照明工程により紫外光が照射される前記ガラス板の領域を撮像する撮像工程と、
    前記撮像工程により撮像される画像において暗点となる画素または領域の有無に基づいて前記ガラス板の表面における異物の有無を判定する判定工程と、
    を有する異物検出方法。
  5. 前記照明工程では、150nmから300nmの範囲内の波長を含む紫外光を前記ガラス板に照射する、請求項4に記載の異物検出方法。
  6. ガラスの原材料を溶融して溶融ガラスを得る溶融工程と、前記溶融ガラスを連続した板状のガラスリボンに成形する成形工程と、前記ガラスリボンを移動させながら徐々に冷却する徐冷工程と、前記ガラスリボン表面における異物を検出する検査工程と、前記ガラスリボンを切断する切断工程と、を有するガラス板の製造方法であって、
    前記検査工程は、前記ガラスリボンを対象として請求項4または5に記載の異物検出方法によって行われる、
    ガラス板の製造方法。
JP2016058799A 2016-03-23 2016-03-23 異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法 Pending JP2017173105A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016058799A JP2017173105A (ja) 2016-03-23 2016-03-23 異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法
TW106109481A TW201736835A (zh) 2016-03-23 2017-03-22 異物檢測裝置、異物檢測方法及玻璃板之製造方法
KR1020170035949A KR20170110529A (ko) 2016-03-23 2017-03-22 이물질 검출 장치, 이물질 검출 방법 및 유리판의 제조 방법
CN201710178789.3A CN107228862A (zh) 2016-03-23 2017-03-23 异物检测装置、异物检测方法以及玻璃板的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016058799A JP2017173105A (ja) 2016-03-23 2016-03-23 異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017173105A true JP2017173105A (ja) 2017-09-28

Family

ID=59933067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016058799A Pending JP2017173105A (ja) 2016-03-23 2016-03-23 異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2017173105A (ja)
KR (1) KR20170110529A (ja)
CN (1) CN107228862A (ja)
TW (1) TW201736835A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110967349A (zh) * 2020-01-04 2020-04-07 盛广济 幕墙玻璃爆裂主动监控方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107966459A (zh) * 2017-12-27 2018-04-27 湖南航天天麓新材料检测有限责任公司 一种宽幅面玻璃细微划伤在线检测装置
EP3786576A1 (de) * 2019-08-26 2021-03-03 Saint-Gobain Glass France Verfahren und vorrichtung zur messung der geometrie einer gekrümmten floatglas-scheibe mittels fluoreszenzstrahlung nach laseranregung
CN113034863B (zh) * 2021-03-18 2022-07-26 河北光兴半导体技术有限公司 压延辊前异物预警处理系统及预警处理方法
CN115015206B (zh) * 2022-07-15 2022-11-11 合肥工业大学 基于紫外荧光法的玻璃表面洁净度检测装置及检测方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110967349A (zh) * 2020-01-04 2020-04-07 盛广济 幕墙玻璃爆裂主动监控方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170110529A (ko) 2017-10-11
TW201736835A (zh) 2017-10-16
CN107228862A (zh) 2017-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017173105A (ja) 異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法
WO2018128059A1 (ja) ガラス板の検査方法及びその製造方法並びにガラス板の検査装置
KR20150100370A (ko) 레이져 폴리싱 시스템
TWI319744B (ja)
JP2017173106A (ja) 異物検出装置、異物検出方法およびガラス板の製造方法
JP5540849B2 (ja) 金属の欠陥検出方法及び欠陥検出装置
JP2008292273A (ja) パターン検査装置およびパターン検査方法
JP2006292412A (ja) 表面検査装置、表面検査方法、及び基板の製造方法
WO2012114909A1 (ja) 薄膜の表面検査方法および検査装置
JP2012163339A (ja) 透明基板の検査装置、透明基板の検査方法、及びガラス基板の製造方法
WO2010117004A1 (ja) 光透過性板状物のリーム検出方法
KR20130108971A (ko) 콘택트 렌즈 결함 검사
JPWO2020170389A1 (ja) 異物検査装置及び異物検査方法
JP2014169988A (ja) 透過体または反射体の欠陥検査装置
WO2019239502A1 (ja) 異物検査装置及び異物検査方法
JP2011203132A (ja) 外観検査装置
JP4562577B2 (ja) レーザーマーキング装置およびレーザーマーキング方法
KR101744643B1 (ko) 이미지 왜곡이 방지되는 결함 검사장치
KR102602641B1 (ko) 기판 크랙 검사장치
JP4102325B2 (ja) 検査装置
CN116917720A (zh) 玻璃检查
JP7360622B2 (ja) 検査方法及び検査装置
JP2006119112A (ja) 検査装置
WO2019239501A1 (ja) 異物検査装置及び異物検査方法
JP2006275995A (ja) 散乱光発生光源装置