JP2017168770A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017168770A JP2017168770A JP2016054849A JP2016054849A JP2017168770A JP 2017168770 A JP2017168770 A JP 2017168770A JP 2016054849 A JP2016054849 A JP 2016054849A JP 2016054849 A JP2016054849 A JP 2016054849A JP 2017168770 A JP2017168770 A JP 2017168770A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor
- sealing body
- unit
- semiconductor device
- units
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 170
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 73
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3135—Double encapsulation or coating and encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/16—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
- H01L23/053—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/10—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
- H01L25/11—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
- H01L25/115—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
- H01L21/566—Release layers for moulds, e.g. release layers, layers against residue during moulding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49833—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers the chip support structure consisting of a plurality of insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
- H01L25/072—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
- H01L2924/1815—Shape
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
【課題】複数の半導体ユニットを確実に封止する。【解決手段】複数の半導体ユニット100a,100bの各おもて面の溝部161と、側部の(係合されていない側の)係合部162,163とがアンカー効果により密着力が向上する。すなわち、連結された半導体ユニット100a,100bに対する第2封止体15の密着力が向上する。そして、複数の半導体ユニット100a,100bは、それぞれ係合部162,163で係合されて連結されている。このため、各半導体ユニット100a,100bの間に第2封止体15が入り込むことがなく、半導体ユニット100a,100bの間における第2封止体15の剥離を抑制でき、半導体ユニット100a,100bの位置ずれを防止することができる。【選択図】図2
Description
本発明は、半導体装置に関する。
パワー半導体モジュールでは、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、パワーMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)、FWD(Free Wheeling Diode)等の半導体素子を含み、例えば、電力変換装置として広く用いられている。
パワー半導体モジュールは、例えば、半導体素子と、おもて面に回路板、裏面に金属板がそれぞれ形成された絶縁板を有し、回路板上にはんだを介して半導体素子が設けられた積層基板とを有する。パワー半導体モジュールは、さらに、積層基板に対向配置されて、半導体素子並びに回路板にそれぞれ接合された導電ポストが電気的に接続されて形成されたプリント基板を有する。そして、半導体素子と、積層基板と、プリント基板とが封止樹脂により構成される第1封止体で封止されている(例えば、特許文献1参照)。
このようなパワー半導体モジュール(半導体ユニット)を、例えば、4つ用意して2行2列に配置する。各半導体ユニットの制御電極間、主端子間を接続ユニットで接続して、全ての半導体ユニットと接続ユニットとを封止樹脂で構成される第2封止体で封止することで半導体装置が構成される。半導体装置は、4つの半導体ユニットを含んでいることから、電流容量の増大化が図られる。
ところで、半導体ユニットを構成する第1封止体には、封止の際に用いる金型との離型性を高めるために離型剤等が塗布されている。このため、第1封止体と、半導体装置を構成する(半導体ユニットを封止する)ための第2封止体との密着性が低下して、第1封止体と第2封止体との間に剥離が発生するおそれがある。半導体装置内で剥離が進展して、半導体ユニットを確実に封止できなくなると、半導体ユニットの位置ずれが生じ、さらに、半導体装置の機械的な割れ、故障に繋がる。
本発明は、複数の半導体ユニットを確実に封止する半導体装置を提供することを目的とする。
本発明の一観点によれば、半導体素子と、前記半導体素子を封止して形成され、複数の凸部がおもて面に形成された第1封止体とをそれぞれ備え、並列配置されて、互いに係合する係合部を対向する箇所に備え、前記係合部により連結された複数の半導体ユニットと、前記半導体ユニットを封止して形成された第2封止体と、を有する半導体装置が提供される。
開示の技術によれば、半導体装置の機械的な割れ、故障等を防止して、半導体装置の信頼性の低下を抑制することができる。
[第1の実施の形態]
以下、第1の実施の形態について図面を用いて説明する。
まず、半導体装置について、図1及び図2を用いて説明する。
以下、第1の実施の形態について図面を用いて説明する。
まず、半導体装置について、図1及び図2を用いて説明する。
図1は、第1の実施の形態における半導体装置の上面図である。
なお、図1では、半導体ユニット100a,100b,100c,100dの配置位置を破線で示している。
なお、図1では、半導体ユニット100a,100b,100c,100dの配置位置を破線で示している。
図2は、第1の実施の形態における半導体装置の断面図である。
なお、図2は、図1の一点鎖線X−Xにおける断面図である。
半導体装置10は、複数の半導体ユニット100a,100b,100c,100d(場合によって、これらの総称を半導体ユニット100とする)と、ベース板11と、接続ユニット14とを備える。なお、半導体ユニット100の詳細については後述する。そして、ベース板11に、複数の半導体ユニット100の裏面側がそれぞれはんだ12aにより接合されている。また、接続ユニット14と、複数の半導体ユニット100の制御端子152及び主端子151(これらの総称を接続端子とする)とが、はんだ12bで接合されている。そして、接続ユニット14により、複数の半導体ユニット100が電気的に並列に接続されている。なお、本実施の形態では、半導体装置10に、半導体ユニット100が、縦横2列(2行2列)の4つ搭載されている場合を例示している。
なお、図2は、図1の一点鎖線X−Xにおける断面図である。
半導体装置10は、複数の半導体ユニット100a,100b,100c,100d(場合によって、これらの総称を半導体ユニット100とする)と、ベース板11と、接続ユニット14とを備える。なお、半導体ユニット100の詳細については後述する。そして、ベース板11に、複数の半導体ユニット100の裏面側がそれぞれはんだ12aにより接合されている。また、接続ユニット14と、複数の半導体ユニット100の制御端子152及び主端子151(これらの総称を接続端子とする)とが、はんだ12bで接合されている。そして、接続ユニット14により、複数の半導体ユニット100が電気的に並列に接続されている。なお、本実施の形態では、半導体装置10に、半導体ユニット100が、縦横2列(2行2列)の4つ搭載されている場合を例示している。
ベース板11は、熱伝導率に優れた金属、例えば、銅やアルミにより構成されている。
接続ユニット14は、プリント基板14aと、外部接続端子14bと、外部制御端子14cとを有する。
接続ユニット14は、プリント基板14aと、外部接続端子14bと、外部制御端子14cとを有する。
プリント基板14aは、回路層(図示を省略)と絶縁層(図示を省略)とが複数積層されて構成されている。
また、外部接続端子14bは、プリント基板14aに含まれる回路層に電気的に接続されている。外部接続端子14bは外部装置に接続されて、半導体ユニット100からの出力電流を出力する。
また、外部接続端子14bは、プリント基板14aに含まれる回路層に電気的に接続されている。外部接続端子14bは外部装置に接続されて、半導体ユニット100からの出力電流を出力する。
そして、外部制御端子14cは、プリント基板14aの対応する回路層に電気的に接続されている。外部制御端子14cは、制御信号を出力する外部装置に接続されて、所定の制御信号が入力される。
なお、各外部接続端子14bは、プリント基板14aの対応する回路層を経由して、半導体ユニット100の主端子151と電気的に接続されている。また、外部制御端子14cは、プリント基板14aの対応する回路層を経由して、半導体ユニット100の制御端子152と電気的に接続されている。
ケース13は、ベース板11の裏面を露出して、その他の構成の外囲を囲んでいる。また、ケース13の開口部13aから複数の半導体ユニット100がはんだ12aを介してベース板11に配置されている。外部制御端子14cは、ケース13の開口部13bから突出している。
また、ケース13の内側に封止樹脂が充填されて第2封止体15が構成され、ベース板11と、半導体ユニット100と、接続ユニット14とが第2封止体15で封止されている。なお、第2封止体15は、例えば、エポキシ樹脂等の封止樹脂が固化して構成されている。なお、ベース板11、ケース13がない場合でもよい。
次に、半導体ユニット100について、図3及び図4を用いて説明する。
図3は、第1の実施の形態における半導体ユニットの上面図である。
図4は、第1の実施の形態における半導体ユニットの断面図である。
図3は、第1の実施の形態における半導体ユニットの上面図である。
図4は、第1の実施の形態における半導体ユニットの断面図である。
なお、図4は、図3の一点鎖線X−Xにおける断面図である。
半導体ユニット100は、積層基板110と、半導体素子120と、プリント基板140と、主端子151と、制御端子152とを備え、これらが第1封止体160により封止されて構成されている。
半導体ユニット100は、積層基板110と、半導体素子120と、プリント基板140と、主端子151と、制御端子152とを備え、これらが第1封止体160により封止されて構成されている。
積層基板110は、回路板112a,112bと、絶縁板111と、金属板113とが積層して構成される。回路板112a,112bは、絶縁板111のおもて面に配置され、半導体ユニット100内部の所定の回路を構成するパターン形状を有している。金属板113は、絶縁板111の裏面に配置される。絶縁板111は、例えば、窒化アルミニウムや窒化珪素、酸化アルミニウム等の絶縁性セラミックス、またはエポキシ樹脂等の樹脂絶縁材料よりなり、回路板112a,112b、金属板113は、例えば、銅やアルミよりなる。積層基板110は、例えば、DCB(Direct Copper Bonding)基板や、AMB(Active Metal Blazing)基板を用いることができる。
半導体素子120は、例えば、IGBT、MOSFET、FWD等が適宜用いられる。また、半導体素子120の裏面電極は、積層基板110の回路板112b上に、はんだ等の接合材131により接合されている。
プリント基板140は、樹脂層141と、樹脂層141のおもて面及び裏面にそれぞれ配置された回路層142,143とを有する。プリント基板140には、プリント基板140のおもて面側、裏面側にそれぞれ突出する複数の導電ポスト144が設けられている。これらの導電ポスト144は、回路層142,143と電気的に接続されている。また、導電ポスト144は、半導体素子120のおもて面電極(ゲート電極やエミッタ電極、ソース電極)に、上記接合材131と同様に構成された接合材132により電気的に接続、固着されている。
複数の主端子151は、プリント基板140のスルーホール(図示を省略)を貫通して、積層基板110の回路板112a,112bに電気的に接続されている。半導体素子120は、主端子151が外部の正極、負極がそれぞれ接続された状態で、入力される制御信号に応じた出力を行う。
複数の制御端子152は、プリント基板140に固定され、プリント基板140の回路層142,143に電気的に接続されている。制御端子152は、外部から制御信号が入力されて、回路層142,143及び導電ポスト144を経由して、入力された制御信号を半導体素子120に出力する。
第1封止体160は、例えば、エポキシ樹脂等の封止樹脂が固化して構成されている。このような第1封止体160は、積層基板110と、複数の半導体素子120と、プリント基板140とを封止して、プリント基板140に接続されている主端子151と制御端子152とが突出されている。また、第1封止体160は、おもて面に溝部161が形成されることで凸部が構成されている。溝部161は、図3に示されるように、図3中上下に一方向に向けて形成されている。第1封止体160の各辺には係合部162,163,164,165が形成されている。係合部162,165は、上向きの鍵状、係合部163,164は、下向きの鍵状をそれぞれ成している。
なお、第1封止体160の形成で用いる金型には、予め、溝部161と、係合部162,163とに対応する型が形成されている。このような金型の内側には予め離型剤を塗布しておき、積層基板110と、積層基板110の回路板112a,112b上に接合材131を介して設けられた半導体素子120と、半導体素子120に接合材132を介して設けられた導電ポスト144を有するプリント基板140とを収納する。このように収納した金型内にエポキシ樹脂等の封止樹脂を充填して固化した後、金型を取り外す。これにより、積層基板110と、半導体素子120と、プリント基板140と、主端子151と、制御端子152とが第1封止体160により封止された半導体ユニット100が得られる。
また、このような半導体ユニット100の第1封止体160のおもて面には溝部161に嵌合するような電子部品等の部品を搭載することも可能である。
このような複数の半導体ユニット100は、図2に示されるように、互いの係合部162,163により係合して連結された状態で、はんだ12aを介してベース板11上に配置されている。このような状態の半導体ユニット100がケース13に収納されて、第2封止体15で封止されている。
このような複数の半導体ユニット100は、図2に示されるように、互いの係合部162,163により係合して連結された状態で、はんだ12aを介してベース板11上に配置されている。このような状態の半導体ユニット100がケース13に収納されて、第2封止体15で封止されている。
このように第2封止体15に封止されている複数の半導体ユニット100では、それらの各おもて面の溝部161と、側部の(係合されていない側の)係合部162,163,164,165のうち他の半導体ユニット100に係合していないものがアンカー効果により密着力が向上する。すなわち、半導体ユニット100に対する第2封止体15の密着力が向上する。
また、仮に、半導体ユニット100が係合部162,163,164,165を備えていない場合には、2行2列で配列された半導体ユニット100の間に第2封止体15が入り込んでしまう。このようにして入り込んだ第2封止体15が、半導体ユニット100から剥離してしまうと、半導体ユニット100の位置がずれてしまい、また、剥離箇所から割れ、故障等が生じてしまうおそれがある。一方、第1の実施の形態の複数の半導体ユニット100は、それぞれ係合部162,163で係合されて連結されているために、半導体ユニット100の間に第2封止体15が入り込むことがなく、剥離率を低減でき、半導体ユニット100の位置ずれを防止することができるようになる。
上記半導体装置10は、半導体素子120を封止して形成され、複数の凸部を構成する溝部161がおもて面に形成された第1封止体160をそれぞれ備え、並列配置されて、互いに係合する係合部162,163を対向する箇所に備え、係合部162,163,164,165のうち半導体ユニット100の配置によって定まる係合部により連結された複数の半導体ユニット100を有する。半導体装置10は、さらに、これらの半導体ユニット100が第2封止体15で封止されている。
このような半導体装置10では、複数の半導体ユニット100の各おもて面の溝部161と、側部の(係合されていない側の)係合部162,163,164,165のうち他の半導体ユニット100に係合していないものとがアンカー効果により密着力が向上する。すなわち、連結された半導体ユニット100に対する第2封止体15の密着力が向上する。そして、複数の半導体ユニット100は、それぞれ係合部162,163,164,165のうち半導体ユニット100の配置によって定まる係合部で係合されて連結されている。このため、各半導体ユニット100の間に第2封止体15が入り込むことがなく、半導体ユニット100の間における第2封止体15の剥離を抑制でき、半導体ユニット100の位置ずれを防止することができる。したがって、半導体装置10では、複数の半導体ユニット100が第2封止体15により確実に封止されるようになり、半導体装置10の機械的な割れによる故障等が防止されて、半導体装置10の信頼性の低下を抑制することができるようになる。
[第2の実施の形態]
第1の実施の形態では、半導体ユニット100のおもて面に形成された溝部161が、全てが一方向に向いている場合を例に挙げて説明した。
第1の実施の形態では、半導体ユニット100のおもて面に形成された溝部161が、全てが一方向に向いている場合を例に挙げて説明した。
一方、第2の実施の形態では、半導体装置10に含まれる半導体ユニットのおもて面に形成された溝部の全てが一方向に揃っていない場合を例に挙げる。この場合について、図5を用いて説明する。
図5は、第2の実施の形態における半導体ユニットの上面図である。
半導体ユニット200は、第1封止体260のおもて面に形成された溝部以外の構成は、半導体ユニット100と同様の構成を成している。
半導体ユニット200は、第1封止体260のおもて面に形成された溝部以外の構成は、半導体ユニット100と同様の構成を成している。
半導体ユニット200では、第1封止体260のおもて面の領域は2行2列に四等分されている。図5における右上と左下との領域には、図5中上下方向の溝部261が形成されている。一方、図5における左上と右下との領域には、図5中左右方向の溝部262が形成されている。
このような半導体ユニット200は、半導体装置10内でそのおもて面に形成された溝部261,262が、第1の実施の形態と同様に、アンカー効果により第1封止体260に対する密着力が向上する。すなわち、連結された半導体ユニット200に対する第2封止体15の密着性が向上する。
なお、半導体ユニット200の第1封止体260のおもて面の四等分は一例であって、二等分以上に等分することができる。溝部261,262も、図5の場合に限らず、任意の領域に設置することができる。また、溝部261,262は、図5中の上下方向または左右方向に限らず、斜め方向、波線形、楔形、ドット模様等その他、それらを組み合わせた形状に形成することも可能である。
[第3の実施の形態]
第1の実施の形態では、半導体ユニット100の係合部162,163,164,165が鍵型の場合について説明した。
第1の実施の形態では、半導体ユニット100の係合部162,163,164,165が鍵型の場合について説明した。
一方、第3の実施の形態では、半導体ユニットの係合部が別の形状の場合を例に挙げる。この場合について、図6を用いて説明する。
図6は、第3の実施の形態における半導体ユニットの断面図である。
図6は、第3の実施の形態における半導体ユニットの断面図である。
半導体ユニット300は、第1封止体360の係合部361,362並びに図3の係合部164,165に対応する箇所の係合部以外の構成は、第1の実施の形態の半導体ユニット100と同様の構成を成している。
半導体ユニット300の第1封止体360は、そのおもて面に溝部161が形成されている。なお、第1封止体360のおもて面の溝部161は一例であって、第2の実施の形態で説明したような、例えば、溝部261,262を形成することも可能である。
また、第1封止体360には、凸状の係合部361(図6中右側)と、凹状の係合部362(図6中左側)とがそれぞれ形成されている。なお、図3においては係合部163,164に、凸状の係合部361が、係合部162,165には、凹状の係合部362がそれぞれ対応する。
このような複数の半導体ユニット300のうち一対の半導体ユニット300において、一方の半導体ユニット300の係合部361が他方の半導体ユニット300の係合部362に嵌合することで、半導体ユニット300間が次々に連結される。このようにして連結された複数の半導体ユニット300がはんだ12aを介してベース板11上に設けられる。半導体ユニット300の主端子151と制御端子152とが接続ユニット14のプリント基板14aと接続され、ケース13に収納される。そして、ケース13の内側に封止樹脂が充填されて第2封止体15が構成され、ベース板11と、連結された複数の半導体ユニット300と、接続ユニット14とが第2封止体15で封止される。
この場合においても、第2封止体15に封止されている複数の半導体ユニット300では、それらの各おもて面の溝部161と、側部の(係合されていない側の)係合部361,362,163とがアンカー効果により密着力が向上する。すなわち、半導体ユニット300に対する第2封止体15の密着力が向上する。
また、半導体ユニット300は、それぞれ係合部361,362で係合されて連結されているために、半導体ユニット300の間に第2封止体15が入り込むことがなく、剥離率を低減でき、半導体ユニット300の位置ずれを防止することができる。
また、第3の実施の形態の複数の半導体ユニット300は、それぞれ係合部361,362で係合されて連結されているために、半導体ユニット300の間に第2封止体15が入り込むことがなく、剥離率を低減でき、半導体ユニット300の位置ずれを防止することができるようになる。
さらに、プリント基板14aの半導体ユニット100側に、溝部161と係合するように係合部を形成することで、プリント基板14aの位置ずれも防止することができるようになる。なお、本実施形態ではプリント基板14aと溝部161との組み合わせだが、ナット用孔を形成した別部材に、溝部161と係合するように係合部を形成することで、プリント基板14a以外の部品の位置ずれも防止することが可能である。
したがって、複数の半導体ユニット300を備える半導体装置10では、複数の半導体ユニット300が第2封止体15により確実に封止されるようになり、半導体装置10の機械的な割れによる故障等が防止されて、半導体装置10の信頼性の低下を抑制することができるようになる。
10 半導体装置
11 ベース板
12a,12b はんだ
13 ケース
13a,13b 開口部
14 接続ユニット
14a プリント基板
14b 外部接続端子
14c 外部制御端子
15 第2封止体
100,100a,100b,100c,100d,200,300 半導体ユニット
110 積層基板
111 絶縁板
112a,112b 回路板
113 金属板
120 半導体素子
131,132 接合材
140 プリント基板
141 樹脂層
142,143 回路層
144 導電ポスト
151 主端子
152 制御端子
160,260,360 第1封止体
161,261,262 溝部
162,163,164,165,361,362 係合部
11 ベース板
12a,12b はんだ
13 ケース
13a,13b 開口部
14 接続ユニット
14a プリント基板
14b 外部接続端子
14c 外部制御端子
15 第2封止体
100,100a,100b,100c,100d,200,300 半導体ユニット
110 積層基板
111 絶縁板
112a,112b 回路板
113 金属板
120 半導体素子
131,132 接合材
140 プリント基板
141 樹脂層
142,143 回路層
144 導電ポスト
151 主端子
152 制御端子
160,260,360 第1封止体
161,261,262 溝部
162,163,164,165,361,362 係合部
Claims (7)
- 半導体素子と、
前記半導体素子を封止して形成され、複数の凸部がおもて面に形成された第1封止体と
をそれぞれ備え、
並列配置されて、互いに係合する係合部を対向する箇所に備え、前記係合部により連結された複数の半導体ユニットと、
前記半導体ユニットを封止して形成された第2封止体と、
を有する半導体装置。 - 前記半導体ユニットは、前記半導体素子に電気的に接続して、前記第1封止体から突出した接続端子をそれぞれ備え、
前記接続端子に電気的に接続されて、前記半導体ユニットを電気的に並列に接続し、前記第2封止体に前記半導体ユニットと共に封止される接続ユニット、
を有する請求項1記載の半導体装置。 - 前記接続ユニットは、前記複数の凸部に係合する係合部、
を有する請求項2記載の半導体装置。 - 前記係合部は鍵型であって、
前記半導体ユニットは、前記鍵型が係合することで連結される、
請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記係合部は、凹部または凸部であって、
前記半導体ユニットは、前記凹部と前記凸部とが嵌合することで連結される、
請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記第1封止体の前記おもて面に形成された前記凸部は、前記おもて面に複数の溝部が一方向に形成されていることにより構成されている、
請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記溝部の一部は、前記一方向に形成されており、前記溝部の一部は前記一方向に対して垂直方向に形成されている、
請求項6記載の半導体装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016054849A JP2017168770A (ja) | 2016-03-18 | 2016-03-18 | 半導体装置 |
CN201710111772.6A CN107204313A (zh) | 2016-03-18 | 2017-02-28 | 半导体装置 |
DE102017203253.7A DE102017203253A1 (de) | 2016-03-18 | 2017-02-28 | Halbleitervorrichtung |
US15/452,118 US20170271224A1 (en) | 2016-03-18 | 2017-03-07 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016054849A JP2017168770A (ja) | 2016-03-18 | 2016-03-18 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017168770A true JP2017168770A (ja) | 2017-09-21 |
Family
ID=59751764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016054849A Pending JP2017168770A (ja) | 2016-03-18 | 2016-03-18 | 半導体装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170271224A1 (ja) |
JP (1) | JP2017168770A (ja) |
CN (1) | CN107204313A (ja) |
DE (1) | DE102017203253A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024009753A1 (ja) * | 2022-07-05 | 2024-01-11 | ローム株式会社 | 半導体装置および半導体装置ユニット |
JP7460862B2 (ja) | 2020-12-10 | 2024-04-03 | ヒタチ・エナジー・リミテッド | パワー半導体モジュール、パワー半導体アセンブリ、およびパワー半導体モジュールの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7067905B2 (en) * | 2002-08-08 | 2006-06-27 | Micron Technology, Inc. | Packaged microelectronic devices including first and second casings |
JP5241177B2 (ja) | 2007-09-05 | 2013-07-17 | 株式会社オクテック | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP6093455B2 (ja) * | 2014-01-27 | 2017-03-08 | 株式会社日立製作所 | 半導体モジュール |
JP6300682B2 (ja) * | 2014-08-04 | 2018-03-28 | 株式会社東芝 | 半導体装置、および半導体モジュール |
-
2016
- 2016-03-18 JP JP2016054849A patent/JP2017168770A/ja active Pending
-
2017
- 2017-02-28 DE DE102017203253.7A patent/DE102017203253A1/de not_active Withdrawn
- 2017-02-28 CN CN201710111772.6A patent/CN107204313A/zh active Pending
- 2017-03-07 US US15/452,118 patent/US20170271224A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7460862B2 (ja) | 2020-12-10 | 2024-04-03 | ヒタチ・エナジー・リミテッド | パワー半導体モジュール、パワー半導体アセンブリ、およびパワー半導体モジュールの製造方法 |
WO2024009753A1 (ja) * | 2022-07-05 | 2024-01-11 | ローム株式会社 | 半導体装置および半導体装置ユニット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102017203253A1 (de) | 2017-09-21 |
US20170271224A1 (en) | 2017-09-21 |
CN107204313A (zh) | 2017-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3107120B1 (en) | Power semiconductor module | |
JP4635564B2 (ja) | 半導体装置 | |
TWI628750B (zh) | 功率覆蓋結構及其製造方法 | |
US10903130B2 (en) | Semiconductor apparatus and manufacturing method of semiconductor apparatus | |
JP5579402B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法並びに電子装置 | |
WO2021002166A1 (ja) | 半導体装置 | |
JP5930070B2 (ja) | 半導体装置 | |
US9445503B2 (en) | Carrier device, electrical device having a carrier device and method for producing same | |
US10763244B2 (en) | Power module having power device connected between heat sink and drive unit | |
US10312194B2 (en) | Stacked electronics package and method of manufacturing thereof | |
JP6591808B2 (ja) | パワーモジュールおよびインバータ装置 | |
WO2015111202A1 (ja) | 半導体モジュール | |
US11756868B2 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
JP6125089B2 (ja) | パワー半導体モジュールおよびパワーユニット | |
JP4349364B2 (ja) | 半導体装置 | |
CN111341731A (zh) | 半导体装置 | |
WO2015182284A1 (ja) | 半導体装置 | |
JP2017123360A (ja) | 半導体モジュール | |
US20180040562A1 (en) | Elektronisches modul und verfahren zu seiner herstellung | |
JP2017168770A (ja) | 半導体装置 | |
JP7135293B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP6769556B2 (ja) | 半導体装置及び半導体モジュール | |
US20240030122A1 (en) | Dual side cooled power module with three-dimensional direct bonded metal substrates | |
WO2023062972A1 (ja) | 半導体モジュール及び半導体装置 | |
JP7540248B2 (ja) | 半導体モジュール |