JP2017156531A - 偏光板保護フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】長尺状の偏光板保護フィルムをロール体として巻き取った際の耐傷性や巻き形状に優れた薄膜な偏光板保護フィルムを提供する。【解決手段】支持体上にノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層を有する偏光板保護フィルムであって、ポリマー層の層厚が１〜１０μｍの範囲内であり、ノルボルネン系樹脂が、下記一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂であり、ポリマー層のリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、リターデーション値Ｒｔが、−２０〜２０ｎｍの範囲内であり、ポリマー層がシリコーン系添加剤を含有し、かつ、ポリマー層が残留溶媒を含有し、当該残留溶媒質量が５００〜１００００ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする。〔式中、Ｒは、炭素数が１〜３の直鎖又は分岐アルキル基を表す。〕【選択図】なし

Description

本発明は偏光板保護フィルムに関し、より詳しくは、長尺状の偏光板保護フィルムをロール体として巻き取った際の耐傷性や巻き形状に優れた、薄膜な偏光板保護フィルムに関する。

偏光板の薄型化のために、より薄膜の偏光板保護フィルムが求められている。

中でも、偏光板の耐久性の観点からノルボルネン系樹脂の偏光板保護フィルムを使用することが増えてきている。

しかし、膜厚が１０μｍ以下のノルボルネン系樹脂を用いた偏光板保護フィルムでは剛性が低下するため、長尺状のフィルムをロール体として巻いた際に、巻きに伴う傷が発生しやすい問題があった。

また、当該膜厚１０μｍ以下のノルボルネン系樹脂を用いた偏光板保護フィルムは、前記ロール体にした際に巻き形状が変形する問題があった。

一方、薄膜の偏光板保護フィルムを作製する方法として、仮支持体上にシクロオレフィン系ポリマーを塗布製膜することにより、シクロオレフィン系ポリマーフィルムを薄膜で形成する方法が、特許文献１に開示されている。

しかしながら、当該方法によっても、長尺状のフィルムをロール体にした際に耐傷性や巻き形状が変形する問題を解決するには不十分であった。

国際公開第２０１４／１９９９３４号

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、長尺状の偏光板保護フィルムをロール体として巻き取った際の耐傷性や巻き形状に優れた、薄膜な偏光板保護フィルムを提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、支持体上に、特定のノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂とシリコーン系添加剤と残留溶媒とを含有する薄膜なポリマー層を有し、当該ポリマー層が特定のリターデーション値を有する偏光板保護フィルムによって、薄膜かつ長尺状の偏光板保護フィルムをロール体として巻き取った際の傷の発生が低減され、巻き形状に優れた偏光板保護フィルムが得られることを見出した。

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

１．支持体上にノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層を有する偏光板保護フィルムであって、
前記ポリマー層の層厚が１〜１０μｍの範囲内であり、
前記ノルボルネン系樹脂が、下記一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂であり、
前記ポリマー層の下記式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、下記式（ii）で定義されるリターデーション値Ｒｔが、−２０〜２０ｎｍの範囲内であり、
前記ポリマー層がシリコーン系添加剤を含有し、かつ、
前記ポリマー層が残留溶媒を含有し、当該残留溶媒質量が５００〜１００００ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする偏光板保護フィルム。

〔式中、Ｒは、炭素数が１〜３の直鎖又は分岐アルキル基を表す。〕
式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
〔式中、Ｒｏはポリマー層の面内方向のリターデーション値、Ｒｔはポリマー層の厚さ方向のリターデーション値、ｎ_ｘはポリマー層の遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙはポリマー層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎ_ｚはポリマー層の厚さ方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはポリマー層の厚さ（ｎｍ）を表す。〕
２．前記ポリマー層が、マット剤を当該ポリマー層全質量の０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することを特徴とする第１項に記載の偏光板保護フィルム。

３．前記マット剤がシリカ粒子であり、当該シリカ粒子がメタノールウエッタビリティ法による疎水化度試験において、メタノールの混合比率が４５体積％以上であることを特徴とする第２項に記載の偏光板保護フィルム。

４．前記ポリマー層が、さらにポリエステル系可塑剤を含有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

５．前記残留溶媒が、芳香族系の溶媒を含むことを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

６．前記支持体が、ポリエステル系樹脂フィルムであることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

本発明の上記手段により、長尺状の偏光板保護フィルムをロール体として巻き取った際の耐傷性や巻き形状に優れた、薄膜な偏光板保護フィルムを提供することができる。

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

本発明では、特定の構造のノルボルネン系樹脂を含有する薄膜なポリマー層を支持体と一体化させ、偏光板保護フィルムとすることにより、当該偏光板保護フィルムをロール体として巻き取った際の傷の発生を抑制することができる。これは、特定の構造のノルボルネン系樹脂によってポリマー層の剛度が高くなること、及び支持体と一体化することでフィルムの剛性が上昇するために、傷の発生が抑制されるものと推察される。

また、ノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層にシリコーン系添加剤を含有させることにより、長尺状の偏光板保護フィルムをロール体にした際の巻き形状の変形を抑制することができる。これは、シリコーン系添加剤を含有したノルボルネン系樹脂フィルムは、シリコーンの作用によりきしみ値が低下するために、巻き形状の変形を抑制することができるものと推察される。

さらに、マット剤を含有することは、表面の滑り性を向上し、きしみ値を低下させるため、傷の発生や巻き形状の変形をさらに抑制することができる。

本発明に係る支持体としては、ポリエステル系樹脂フィルムを用いることが好ましい。当該ポリエステル系樹脂フィルムは平面性が良いため支持体として用いることで、偏光板保護フィルムの平面性が良くなり、前記巻き形状の変形をさらに抑制することができる。

また、ポリエステル系可塑剤及び芳香族系の溶媒を用いることは、リターデーション値を低減する効果があり、低リターデーション値を有する偏光板保護フィルムとして、ＩＰＳ型液晶表示装置の位相差フィルムとして好適である。

本発明の偏光板保護フィルムの構成を示す模式図 本発明の偏光板保護フィルムを製造する塗布装置の模式図

本発明の偏光板保護フィルムは、支持体上にノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層を有する偏光板保護フィルムであって、前記ポリマー層の層厚が１〜１０μｍの範囲内であり、前記ノルボルネン系樹脂が、前記一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂であり、前記ポリマー層の前記式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、前記式（ii）で定義されるリターデーション値Ｒｔが、−２０〜２０ｎｍの範囲内であり、前記ポリマー層がシリコーン系添加剤を含有し、かつ、前記ポリマー層が残留溶媒を含有し、当該残留溶媒質量が５００〜１００００ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する又は対応する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記ポリマー層が、マット剤を当該ポリマー層全質量の０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することが、好ましく、当該マット剤がシリカ粒子であり、当該シリカ粒子がメタノールウエッタビリティ法による疎水化度試験において、メタノールの混合比率が４５体積％以上であることが、フィルムのきしみ値を低下させる効果が高く、偏光板保護フィルムのロール体の巻き形状の変形をさらに抑制することができ、好ましい。

また、前記ポリマー層が、さらにポリエステル系可塑剤を含有することや、前記残留溶媒が、芳香族系の溶媒を含むことが、リターデーション値を低下する効果を発現し、ＩＰＳ型液晶表示装置に用いる偏光板保護フィルムとして、好ましい実施態様である。

平面性の観点から、前記支持体が、ポリエステル系樹脂フィルムであること好ましく、
本発明に係る前記支持体として用いることによって、偏光板保護フィルムのロール体の巻き形状の変形をさらに抑制することができ、好ましい。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

≪本発明の偏光板保護フィルムの概要≫
本発明の偏光板保護フィルムは、支持体上にノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層を有する偏光板保護フィルムであって、前記ポリマー層の層厚が１〜１０μｍの範囲内であり、前記ノルボルネン系樹脂が、下記一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂であり、前記ポリマー層の下記式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、下記式（ii）で定義されるリターデーション値Ｒｔが、−２０〜２０ｎｍの範囲内であり、前記ポリマー層がシリコーン系添加剤を含有し、かつ、前記ポリマー層が残留溶媒を含有し、当該残留溶媒質量が５００〜１００００ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする。

本発明のシクロオレフィン系フィルム中に含有される上記残留溶媒は、フィルム製造後にフィルム中に含有される溶媒質量をいう。当該溶媒質量は、後述するヘッド・スペース・ガスクロマトグラフィー法により定量することができるが、その測定はフィルム製造後からフィルム加工前までの期間に測定されたときの値をいう。通常、フィルムは、製造されて巻き取られた後に保護シート等にくるまれて準密閉状態で保管され、加工されるまではその状態であるため、残留溶媒量の変動は小さい。したがって、残留溶媒量の測定はフィルム製造後からフィルム加工前までの期間に測定されたときの値をもって、本願発明の構成であるかを判断することができる。

本発明の偏光板保護フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、３０００〜１００００ｍ程度の長さであることがより好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明の偏光板保護フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．３ｍ以上であり、特に１．３〜４ｍであることが好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムの構成を図をもって説明する。

図１は、本発明の偏光板保護フィルムの一例を示す模式図である。

本発明の偏光板保護フィルムＦは、支持体１上にノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層２を有する構成である。当該ポリマー層２は、ノルボルネン系樹脂を含有する塗布組成物を支持体１上に塗布することによって形成することが好ましい。また、本願発明の実施態様として、ノルボルネン系樹脂を含有する組成物を金属支持体上に流延した後剥離してフィルム化し、当該フィルムを本発明に係るポリマー層として前記支持体に接着させて一体化する態様も含むものであるが、通常１〜１０μｍ程度の薄膜なフィルムを均一に破断等の故障なく作製するのは困難であることから、ノルボルネン系樹脂を含有する塗布組成物を支持体１上に塗布することによって、前記ポリマー層２を形成する方法を採用することが、好ましい。

前記支持体１の前記ポリマー層とは反対側の面には、ブロッキング防止層やカール防止層等を設けることができ、前記ポリマー層上には、ハードコート層や光学補償層等の機能性層を適宜設けることができる。

以下、本発明の構成要素を詳細に説明する。

〔１〕一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂
本発明の偏光板保護フィルムは、フィルム構成材料として、下記一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂を含有することを特徴とする。

上記一般式（１）において、Ｒは、炭素数が１〜３の直鎖又は分岐アルキル基を表す。具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、又はｉ−プロピル基を表す。

本発明に係る一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂の好ましい分子量は、３０℃測定での固有粘度〔η〕ｉｎｈで０．２〜５ｃｍ^３／ｇの範囲内、更に好ましくは０．３〜３ｃｍ^３／ｇの範囲内、特に好ましくは０．４〜１．５ｃｍ^３／ｇの範囲内である。

数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００の範囲内、更に好ましくは１００００〜８００００の範囲内、特に好ましくは１２０００〜５００００の範囲内である。

重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００００〜１８００００の範囲内であることが好ましく、１１００００〜１４００００の範囲内であることがより好ましい。

固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲内にあることによって、一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明の偏光板保護フィルムとしての成形加工性が良好となる。

固有粘度〔η〕ｉｎｈは、一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂をクロロホルムに溶解させた樹脂溶液を、ウベローデ型粘度計を用いて測定（測定温度３０℃）することができる。

数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（東ソー社製 ＨＬＣ８２２０ＧＰＣ）、カラム（東ソー社製 ＴＳＫ−ＧＥＬ Ｇ６０００ＨＸＬ−Ｇ５０００ＨＸＬ−Ｇ５０００ＨＸＬ−Ｇ４０００ＨＸＬ−Ｇ３０００ＨＸＬ
直列）を用いて測定する。試料２０ｍｇ±０．５ｍｇをテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶解し、０．４５ｍｍのフィルターで濾過する。この溶液をカラム（温度４０℃）に１００ｍＬ注入し、検出器ＲＩ温度４０℃で測定し、スチレン換算した値を用いる。

〔２〕シリコーン系添加剤
シリコーン系添加剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤等を挙げることができる。ここで、シリコーン系添加剤とは、シロキサン骨格を繰り返し単位として有するオリゴマー又はポリマーであることをいい、このシロキサン繰り返し構造は、主鎖として有していても良いし、グラフトされた側鎖として有していても良い。

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ポリエーテル変性シリコーンやアクリル変性シリコーン等を挙げることができ、上記共栄社化学社製のＧＬシリーズ（例えば、ＧＬ−０１、ＧＬ−０２Ｒ、ＧＬ−０３、ＧＬ−０４Ｒ等）や、日信化学工業社製のシルフェイスシリーズ（例えば、シルフェイスＳＡＧ００２、シルフェイスＳＡＧ００５、シルフェイスＳＡＧ００８、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ等）等を挙げることができる。

シリコーン系添加剤の含有量は、前記ポリマー層を構成する材料中の溶媒を除く全成分に対し、０．０１〜５．０質量％の範囲内が好ましく、０．０５〜３．０質量％の範囲内がより好ましい。含有量が、０．０１質量％以上であることで、本発明の効果を十分に発揮でき、５．０質量％以下であることで、ポリマー層のヘイズを低く抑えつつ滑り性をより確実に付与することができる。

また、本発明の効果を阻害しない範囲で、例えばフッ素系界面活性剤、フッ素−シロキサングラフト化合物又はフッ素系化合物等のフッ素系材料、例えば、ビニル共重合物、ビニル−シロキサングラフト化合物等のビニル系材料、例えば、アクリル−シリコーングラフト化合物、アクリル共重合物等のアクリル系材料を、表面調整剤として適宜用いることもできる。

〔３〕マット剤
本発明に係るポリマー層には、マット剤を含有することが好ましい。

本発明に係るポリマー層に適用可能なマット剤は、通常、フィルムの添加物として用いられるもので、表面の滑り性の悪さを改良するためには、ポリマー層表面に凹凸を付与することが有効であり、有機微粒子又は無機微粒子を含有させて、ポリマー層表面の粗さを増加させ、いわゆるマット化することで、接着性を減少させ、耐擦過性の向上を図るために用いられるものである。

しかしながら、粗い表面にするほどヘイズの上昇を生じ、透明性が低下するため、適用可能なマット剤の平均粒径や含有量は限定される。本発明に使用するマット剤としては、平均粒径が１〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは１〜１００ｎｍの範囲内であり、特に好ましくは３〜５００ｎｍの範囲内である。

〈マット剤の平均粒子径の測定方法〉
本発明に係るポリマー層中におけるマット剤の粒子径の測定は、ミクロトームで断層カットした層断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で適当な倍率で撮影し、断層カット写真に含まれる１００個の粒子の粒子径を測定し、平均値を求め平均粒子径とする。粒子径は、粒子の断面が円形状の場合はその直径とし、円形状以外の場合は面積を算出し、それを円形状に換算したときの直径とする。

ＳＥＭ：ＪＳＭ−６０６０ＬＡ（日本電子株式会社）
ミクロトーム：ライカ製ＥＭ ＵＣ６
また、上記マット剤の添加量としては、フィルム１００質量％に対して、球形、不定形微粒子を問わず、滑り性効果とヘイズのバランスをとる観点から、０．１〜０．５質量％の範囲内とすることが好ましい。

本発明において、マット剤を含有したポリマー層の好ましいヘイズ値は、２．０％以下であり、１．２％以下が更に好ましく、０．５％以下が特に好ましい。

マット剤を添加したポリマー層の好ましい静摩擦係数は、１．５以下であり、１．０以下が特に好ましい。動摩擦係数は、「ＪＩＳ Ｋ７１２５ プラスチック−フィルム及びシート摩擦係数試験方法」に準じて測定することができる。

静摩擦係数が１．５以下であれば、当該ポリマー層を有する偏光板保護フィルムは巻取り時に、ツレや巻きシワを生じず、したがってツレや巻きシワにより巻き姿が損なわれたり、ツレやシワによって不均一な張力が偏光板保護フィルムにかかったりすることがなく、フィルム面に意図しない不均一な光学特性が発現するといった問題が生じない。

本発明で適用可能なマット剤としては、一般的な偏光板保護フィルムに用いられるものであれば、特に制限はなく、またこれらのマット剤は２種以上混ぜて用いることもできる。本発明に係るマット剤としては、無機微粒子、高分子化合物を含む有機微粒子が挙げられる。

無機微粒子としては、例えば、硫酸バリウム、マンガンコロイド、二酸化チタン、硫酸ストロンチウムバリウム、二酸化ケイ素、などの無機物微粒子が挙げられるが、更に、例えば、湿式法やケイ酸のゲル化より得られる合成シリカ等の二酸化ケイ素やチタンスラッグと硫酸により生成する二酸化チタン（ルチル型やアナタース型）等が挙げられる。無機微粒子としては、ケイ素を含むものが、濁度及びフィルムのヘイズを低減できる点で好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面修飾されているものが多いが、このようなものは、フィルムの表面ヘイズを低減できるため好ましい。表面修飾で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどを挙げることができる。

また、有機微粒子を構成する高分子化合物としては、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、デンプン等があり、また、それらの粉砕分級物も挙げられる。又は、懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法若しくは分散法等により球型にした高分子化合物、又は無機化合物を用いることができる。

上記各マット剤の中でも、二酸化ケイ素粒子（シリカ粒子）であるのが好ましい。

特に、シリカ粒子は、炭素数４〜２１のアルキル基を有するアルキルシラン、ジメチルシロキサン、ジメチルシロキサン環状体、メタクリロキシシラン、及びアミノシランから選択される少なくとも１種の化合物により表面修飾されているシリカ粒子であることが好ましい。

このような鎖の長い官能基又は環状官能基を有する化合物により表面修飾しているシリカ粒子を含有させることで、ノルボルネン系樹脂との絡み合いや相互作用が向上して二次凝集体を形成しやすくすることで、当該ノルボルネン系樹脂フィルム自体のマット効果を発現するものである。

また、シリカ粒子表面が疎水化処理されることによって、溶媒に対しての分散性がよく、異物の発生を抑制できることから、好ましい。

シリカ粒子表面の疎水化の程度は、以下のメタノールウエッタビリティ法によって、定量化することができる。

〈メタノールウエッタビリティ法〉
メタノールと純水とを混合させた溶液において、純水に対するメタノールの混合比率を変えながら、各溶液にシリカ粒子を同量（同体積量）添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記シリカ粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、当該溶液におけるシリカ粒子の沈降物の体積が５０％となる溶液のメタノール混合比率をいう。

メタノールの混合比率が４５体積％以上であると、本発明に好ましいシリカ粒子であるといえる。

例えば、純水に対するメタノールの混合比率を変えた溶液を複数用意し、測定するシリカ微粒子の沈降物の体積が２．５ｍＬであり、初めに添加したシリカ粒子の体積が５ｍＬとなる溶液のメタノール混合比率が４５体積％以上であれば、当該シリカ粒子は、本発明に好ましい表面修飾がなされた疎水化シリカ粒子といえる。

本発明に係るシリカ粒子は、市販品を好ましく使用することができ、下記日本アエロジル株式会社の製品アエロジルシリーズは好適である（括弧内は表面修飾剤）。

Ｒ８１２（トリメチルシラン）、Ｒ８０５（オクチルシラン）、Ｒ８１６（ヘキサデシルシラン）、ＮＫＣ１３０（ジメチルシロキサン）、Ｒ７１１、Ｒ７２００（以上、メタクリロキシシラン）、Ｒ２０２、ＲＹ２００、ＲＹ２００Ｓ、ＲＹ３００（以上、ジメチルシロキサン）、Ｒ１０４、Ｒ１０５（以上、ジメチルシロキサン環状体）、ＲＡ２００Ｈ、ＲＡ２００ＨＳ（以上、アミノシラン）（以上、日本アエロジル株式会社製疎水性アエロジル）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でもアエロジルＲ８１２、Ｒ８０５、Ｒ８１６、ＮＫＣ１３０、ＲＹ３００が、ハンドリング時の取扱い性を向上しかつポリマー層のヘイズを低く保つことができ、好ましい。

（マット剤分散液に使用する有機溶媒）
マット剤は、有機溶媒に分散して前記ポリマー層の塗布組成物に添加することが好ましい。

マット剤分散液の調製において用いられる有機溶媒は、マット剤が分散し、分散液を調製できる範囲において、使用できる有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる有機溶媒は、例えば、ジクロロメタン、クロロホルムのような塩素系溶媒、炭素数３〜１２の鎖状炭化水素、環状炭化水素、芳香族炭化水素、エステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及びエーテルは、環状構造を有していてもよい。

本発明において、マット剤分散液の調製方法において用いられる有機溶媒は、１種類の有機溶媒を単独で用いてもよく、２種類以上の有機溶媒を任意の割合で混合して用いてもよい。

上記マット剤を分散する際に、上記の有機溶媒の量が少ないと十分な分散ができず、凝集体を発生し、異物故障の原因となる。逆に、有機溶媒の量が多いときには、微粒子の分散性には優れるものの、大量の分散液を調液することとなり、製造におけるハンドリングの面で好ましくない。したがって、上記有機溶媒の使用量は、上記マット剤１００質量部に対して１０００〜１０００００質量部の範囲内とするのが好ましく、１５００〜４００００質量部の範囲内とするのが更に好ましく、２０００〜２００００質量部の範囲内とするのが特に好ましい。

〔４〕ポリエステル系可塑剤
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、前記ポリマー層にポリエステル系可塑剤を適用することが、リターデーション値を低減する効果に加えて、フィルム弾性率、滑り性、フィルム膜面硬度が向上し、その結果、高品位の面品質を得ることができる点で好ましい。

ポリエステル系可塑剤は、下記一般式（２）で表される構造を有する。

一般式（２）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）_ｎ−Ｇ−Ｂ
上記一般式（２）において、Ｂは、環構造を有するヒドロキシ基含有モノカルボン酸から誘導される基を表す。環構造とは、脂肪族炭化水素環、脂肪族ヘテロ環、芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を有する構造をいい、好ましくは脂肪族炭化水素環又は芳香族炭化水素環を有する構造をいう。環構造を有するヒドロキシ基含有モノカルボン酸は、炭素原子数５〜２０の脂環式モノカルボン酸、炭素原子数７〜２０の芳香族モノカルボン酸及びそれらの混合物でありうる。

炭素原子数５〜２０の脂環式モノカルボン酸は、好ましくは炭素原子数６〜１５の脂環式モノカルボン酸でありうる。脂環式モノカルボン酸の例には、４−ヒドロキシシクロヘキシル酢酸、３−ヒドロキシシクロヘキシル酢酸、２−ヒドロキシシクロヘキシル酢酸、４−ヒドロキシシクロヘキシルプロピオン酸、４−ヒドロキシシクロヘキシル酪酸、４−ヒドロキシシクロヘキシルグリコール酸、４−ヒドロキシ−ｏ−メチルシクロヘキシル酢酸、４−ヒドロキシ−ｍ−メチルシクロヘキシル酢酸、４−ヒドロキシ−ｐ−メチルシクロヘキシル酢酸、５−ヒドロキシ−ｍ−メチルシクロヘキシル酢酸、６−ヒドロキシ−ｏ−メチルシクロヘキシル酢酸、２，４−ジヒドロキシシクロヘキシル酢酸、２，５−ジヒドロキシシクロヘキシル酢酸、２−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシル酢酸、３−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシル酢酸、４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシル酢酸、２−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）シクロヘキシル酢酸、３−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）シクロヘキシル酢酸、４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）シクロヘキシル酢酸等が含まれる。

炭素原子数７〜２０の芳香族モノカルボン酸は、好ましくは炭素原子数７〜１５の芳香族モノカルボン酸でありうる。芳香族モノカルボン酸の例には、４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ安息香酸、２−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ−ｏ−トルイル酸、３−ヒドロキシ−ｐ−トルイル酸、５−ヒドロキシ−ｍ−トルイル酸、６−ヒドロキシ−ｏ−トルイル酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２−（ヒドロキシメチル）安息香酸、３−（ヒドロキシメチル）安息香酸、４−（ヒドロキシメチル）安息香酸、２−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）安息香酸、３−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）安息香酸、４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）安息香酸等が含まれる。

これらの中でも、偏光板保護フィルムに十分な疎水性を付与し、偏光子の水分による劣化を抑制しやすい点から、芳香環を含むヒドロキシ基含有モノカルボン酸（ヒドロキシ基を含む芳香族モノカルボン酸）が好ましい。

式中、Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレンジオール、炭素原子数６〜１２のシクロアルキレンジオール、炭素原子数４〜１２のオキシアルキレンジオール及び炭素原子数６〜１２のアリーレンジオールからなる群より選ばれる少なくとも１種から誘導される基を表す。

炭素原子数２〜１２のアルキレンジオールの例には、エチレングリコール、１，２−プ
ロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等が含まれる。

炭素原子数６〜１２のシクロアルキレンジオールの例には、水素化ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン）、水素化ビスフェノールＢ（２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）ブタン等が含まれる。

炭素原子数４〜１２のオキシアルキレンジオールの例には、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等が含まれる。

炭素原子数６〜１２のアリーレンジオールの例には、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＢ等が含まれる。

ジオールは、１種又は２種以上の混合物として使用される。中でも、ノルボルネン系樹脂との相溶性に優れる点で、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールが好ましい。

式中、Ａは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸、炭素原子数６〜１２のシクロアルキレンジカルボン酸、及び炭素原子数８〜１６のアリーレンジカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種から誘導される基を表す。

炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸の例には、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等が含まれる。

炭素原子数６〜１６のシクロアルキレンジカルボン酸の例には、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，５−デカヒドロナフタレンジカルボン酸、１，４−デカヒドロナフタレンジカルボン酸等が含まれる。

炭素原子数８〜１６のアリーレンジカルボン酸の例には、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸等が含まれる。

ジカルボン酸は、１種又は２種以上の混合物として使用される。ジカルボン酸は、アルキレンジカルボン酸とアリーレンジカルボン酸の混合物であることが好ましい。アルキレンジカルボン酸とアリーレンジカルボン酸の含有割合は、アルキレンジカルボン酸：アリーレンジカルボン酸＝４０：６０〜９９：１であることが好ましく、５０：５０〜９０：１０であることがより好ましい。

式中、ｎは、０以上の整数を表す。

ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、好ましくは３００〜３００００、より好ましくは３００〜７００の範囲内であり、より好ましくは３００〜６００である。数平均分子量が一定以上であると、ブリードアウトを抑制しやすい。数平均分子量が一定以下であると、ノルボルネン系樹脂との相溶性を損ないにくくヘイズ上昇を抑制しやすい。

ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されうる。具体的には、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定装置（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８３３０」）を用いて、下記の測定条件で、エステル系化合物の標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）を測定することができる。

（測定条件）
カラム：「ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」×２本及び「ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ−２０００」×２本
ガードカラム：「ＴＳＫ ＳｕｐｅｒＨ−Ｈ」
展開溶媒：テトラヒドロフラン
流速：０．３５ｍＬ／分
ポリエステル系可塑剤の数平均分子量は、縮合又は重縮合の反応時間によって調整することができる。

ポリエステル系可塑剤の酸価は、好ましくは０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。ポリエステル系可塑剤のヒドロキシ基価は、好ましくは２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。

ポリエステル系可塑剤の合成は、常法によりジカルボン酸、ジオール、及び末端封止用モノカルボン酸のエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法、又はジカルボン酸及び末端封止用モノカルボン酸の酸クロライドとジオールとの界面縮合法のいずれかの方法で行うことができる。ジオールとジカルボン酸の仕込み比は、分子末端がジオールとなるように調整される。

一般式（２）で表される構造を有するポリエステル系可塑剤のノルボルネン系樹脂に対する添加量は１〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。より好ましくは、３〜７質量％の範囲内である。添加量は、１質量％以上の場合で、前記ポリマー層の硬度上昇の効果が認められ、１０質量％以下であると、高温環境下における寸法安定性及びヘイズの安定性を高める観点から好ましい。

〔５〕他の添加剤
本発明に係るポリマー層は、種々な添加剤を含有することができる。中でも、下記紫外線吸収剤、酸化防止剤、衝撃補強剤等を適宜用いることができる。

（紫外線吸収剤）
本発明に適用可能な紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。

本発明に適用可能な紫外線吸収剤としては、例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌ
ビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもＢＡＳＦジャパン社製の市販品であり、好ましく使用できる。

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、前記ポリマー層に対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％が更に好ましい。

（酸化防止剤）
本発明明に係るポリマー層は、酸化防止剤を適用することができる。

本発明では、酸化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系の各化合物を好ましく用いることができる。

例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｆｏｓ ＸＰ４０、Ｉｒｇａｆｏｓ ＸＰ６０」等が挙げられる。

上記イオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰＬ−Ｒ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰ−Ｄ」を挙げることができる。

上記フェノール系化合物としては、２，６−ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６」、「Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０」、（株）ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＥＫＡ ＳＴＡＢ ＡＯ−５０」等を挙げることができる。

上記二重結合系化合物は、住友化学株式会社から「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＭ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＳ」という商品名で市販されている。

上記ヒンダードアミン系化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４」及び「Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２」を挙げることができる。

上記リン系化合物としては、例えば、住友化学株式会社から市販されている「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ」、「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６」及び「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０」、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｆｏｓ Ｐ−ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から市販されている「ＧＳＹ−Ｐ１０１」を挙げることができる。

（衝撃補強材）
本発明に係るポリマー層には、耐衝撃性を高めるために、衝撃補強材として、コア・シェルタイプのアクリル微粒子、スチレン−共役ジエン系化合物又はブチルアクリレート化合物の少なくとも１種を含有することができる。

特に、特開２００９−８４５７４号公報に記載の（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたコア・シェルタイプのグラフト共重合体や、国際公開第２００９／０４７９２４号に記載されているコア・シェルタイプのアクリル微粒子、また、特開２０１３−８３９０７号公報に記載のスチレン−ブタジエン系の弾性有機微粒子などの衝撃補強材を含有することが好ましい。

例えば、コア・シェルタイプのアクリル微粒子は、メチルメタクリレート８０〜９８．
９質量％、アルキルアクリレート１〜２０質量％及び多官能性グラフト剤０．０１〜０．３質量％の混合物を重合して得られる最内硬質層と、アルキルアクリレート７５〜９８．５質量％、多官能性架橋剤０．０１〜５質量％及び多官能性グラフト剤０．５〜５質量％の混合物を重合して得られる軟質層と、メチルメタクリレート８０〜９９質量％、アルキルアクリレート１〜２０質量％の混合物を重合して得られる最外硬質層とを有する。

また、スチレン−共役ジエン系化合物としては、スチレン−ブタジエン系共重合体であることが好ましい。当該共重合体はゴム状弾性体であっても、また弾性有機微粒子であってもよく、具体的には、弾性有機微粒子はコア・シェルタイプの粒子であることが好ましい。

軟質重合体は、共役ジエン単量体由来の構造単位と、必要に応じて他の単量体由来の構造単位とを含む。共役ジエン単量体の例には、１，３−ブタジエン（以下、単に「ブタジエン」と称することもある。）、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、ミルセンなどが含まれ、好ましくはブタジエン、イソプレンである。他の単量体の例には、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン成分が含まれる。軟質重合体における共役ジエン単量体由来の構造単位の含有割合は、通常、５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上である。

他の重合体の例には、アクリロニトリルとスチレンの共重合体や、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸エステルを主成分とする重合体などが含まれる。

市販品としては、例えば、メタブレンＣ−１４０Ａ、Ｃ−２１５Ａ（以上、三菱レイヨン（株）製）、タフプレン１２６、アサフレックス８００、アサフレックス８２５（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、ＴＲ２０００ 、ＴＲ２２５０（以上、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

他のゴム状弾性体としては、アクリル酸エステル系ゴム状重合体が挙げられ、ブチルアクリレートを主成分としたアクリル酸エステル系重合体を主成分とするゴム状重合体が好ましい。

〔６〕ポリマー層の光学特性
本発明に係るポリマー層は、下記式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、下記式（ii）で定義されるリターデーション値Ｒｔが、−２０〜２０ｎｍの範囲内であることを特徴とする。

式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
上記式（ｉ）及び（ii）において、Ｒｏはポリマー層の面内方向のリターデーション値、Ｒｔはポリマー層の厚さ方向のリターデーション値、ｎ_ｘはポリマー層の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙはポリマー層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎ_ｚはポリマー層の厚さ方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはポリマー層の厚さ（ｎｍ）を表す。

当該リターデーション値は、本発明の偏光板保護フィルムにおいて、支持体からポリマー層を剥離し、ポリマー層としてのリターデーション値を下記方法、装置にて測定するものである。

面内方向のリターデーション値Ｒｏ、及び厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚから算出することができる。

上記で規定する式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内、式（ii）で表されるリターデーション値Ｒｔが−２０〜２０ｎｍの範囲内とは、面内方向のリターデーション値Ｒｏ（ｎｍ）及びフィルムの厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（ｎｍ）がほぼゼロのポリマー層であること意味する。

当該ポリマー層の面内のリターデーション値Ｒｏ及び厚さ方向のリターデーション値Ｒｔをほぼゼロとすることにより、当該ポリマー層側をＩＰＳ型液晶セルに貼合したとき、得られるＩＰＳ型液晶表示装置における黒表示時の光漏れを効果的に防止することができる。また、ポリマー層の厚さが薄いことから、偏光板及び液晶表示装置の更なる薄型軽量化を図ることが可能となる。

上記リターデーション値の調整は、ノルボルネン系樹脂の種類、ポリエステル系可塑剤の種類と量、残留溶媒質量、中でも芳香族系の有機溶媒の使用及び塗布条件及び乾燥条件で行うことができる。

〔７〕支持体
支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はないが、透明な樹脂フィルムであることが、塗布故障や傷等を検知しやすい観点から、好ましい。本発明でいう「透明」とは全光線透過率が、６０％以上、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上であることをいう。前記全光線透過率（％）は、例えば分光光度計（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｕ−３３００）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１：１９９７（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）に記載された方法にて、光波長４００〜７００ｎｍの範囲における全光線透過率（％）を測定し、その値を平均値化した値である。

支持体として用いられるフィルムの材質は特に制限されるものではなく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィン系フィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、製造工程において光学特性を検査する目的には、支持体は透明な材料であることが好ましく、また安価であることも好ましいため、ポリカーボネート系フィルムやポリエステル系フィルム等が好ましく、さらに平面性に優れることからポリエステル系フィルムが好ましく用いられる。

本発明に係る支持体の厚さは、好ましくは１０〜１００μｍ、更に好ましくは１５〜５０μｍである。支持体が１０μｍ以上の場合は、巻き取る際にシワになりにくい、また、１００μｍ以内であれば偏光板保護フィルムロール体の巻きの大きさを低減することができ、重量が低減できるため保管や輸送上、ハンドリング性に支障が出にくい。

また、支持体は無延伸フィルムでも延伸フィルムでもよい。延伸フィルムを用いる場合、延伸は一軸延伸であっても二軸延伸であってもよい。一軸延伸は二つ以上のロールの回転差を利用した縦一軸延伸、又はフィルムの両端を把持して幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。さらに、フィルムを縦横方向に延伸したものであってもよい。

〔８〕ポリマー層の塗布方法
ノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層はノルボルネン系樹脂を含む組成物を支持体上に塗布し、さらに塗布層を加熱、乾燥することによって形成できる。

ノルボルネン系樹脂を含む組成物の塗布は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により行うことができる。

ノルボルネン系樹脂を含むポリマー層の形成には特に、このうち、マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。

ノルボルネン系樹脂を含むポリマー層の形成を、塗布方法を用いて行うことで溶液流延法や溶融流延法を用いてフィルム化する方法では達成できない薄膜を形成することができる。

〈塗布工程〉
図２に本発明に用いることができる塗布工程の一例を表す図を示す。

送り出し機１１又は前工程から送り出されてきた支持体１２（仮支持体等）は、塗布装置１０において塗布工程に付される。塗布装置１０は、塗布液タンクからポンプ等により送液された塗布液を支持体１２に塗布する塗布液供給部（以下、塗布ヘッドと呼ぶ。）１４と、塗布ヘッド１４に対向して設けられ、塗布時の支持体１２を外周面で支持する円筒状のバックアップローラー１５により構成されている。塗布ヘッド１４は、塗布ヘッド先端が連続走行する支持体１２と近接され非接触の状態で対向配置される。塗布ヘッド１４と支持体１２の間隔は調整できるよう構成されている。塗布ヘッド１４は塗布液タンクからポンプにより送液され、ポンプの塗布液送り出し量を調整することにより、必要な塗布層厚を得る塗布量を制御することができる。図示しないが、ポンプとしては、塗布液の供給流量が安定化することより、定量ポンプを使用することが好ましい。定量ポンプとしては、例えば、ギアポンプ、ローラーポンプ等、各種のポンプが使用される。

上記塗布工程は、良好な無塵度及び最適な温湿度の環境下で実施されることが好ましい。なお、塗布後の乾燥工程なども、同様に良好な無塵度及び最適な温湿度の環境下で実施されることが好ましい。上記塗布工程等は、クリーンルーム内で行われることが好ましく、特に、塗布装置１０は、クリーン度の高い環境下に設置されることが好ましい。このためには、ダウンフローのクリーンルーム又はクリーンベンチを併用する形態が採用できる。

塗布工程の後は塗布層を乾燥させる乾燥工程に付すことが好ましい。乾燥工程に用いる乾燥装置１６としては、一般的な乾燥装置を限定なく使用することもできる。例えば、熱風による対流乾燥方式、赤外線などの輻射熱による輻射乾燥方式などを用いることができる。熱風を用いる場合には、熱風の温度及び風速を調整して塗膜の乾燥を制御する。また熱風の当て方として、スリットノズル（帯状の支持体の幅方向にスリット状の開口形状を持つノズル）やパンチングノズル（多孔式の平板ノズル）など用いることができる。

本発明の方法において、ノルボルネン系樹脂を含むポリマー層を塗布により形成する際の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例としては、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン、トルエン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）、アルキルアルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール）が挙げられる。また、二種類以上の溶媒を混合して使用してもよい。上記の中で、炭化水素、アルキルハライド、エステル、ケトン及びそれらの混合溶媒が好ましい。中でも、芳香族系の有機溶媒は、ポリマー層のリターデーション値を低減する効果があるため、用いることが好ましい。

本発明に係るポリマー層は残留溶媒を含有することが、ノルボルネン系樹脂の極性基を表面側に向けやすくして支持体との密着性を向上する効果があることから、ポリマー層の残留溶媒質量は５００〜１００００ｐｐｍの範囲内であることが必要である。

特に、芳香族系の溶媒はリターデーション値を低減する効果があることから５０〜１０００ｐｐｍの範囲内で含有することが好ましい。

また、塗布性を向上する観点から、アルキルハライド系の溶媒を３００〜５０００ｐｐｍの範囲内、又は非芳香族系の溶媒（ハロゲン化物系の溶媒を除く）を３００〜６０００ｐｐｍの範囲内で含有することが好ましい。

〔溶媒含有量の定量方法〕
ポリマー層中の残留する溶媒含有量は、ヘッド・スペース・ガスクロマトグラフィー法により定量することができる。

残留溶媒の定量は、ヘッド・スペース・ガスクロマトグラフィー法により行うことができる。すなわち、測定試料（上記ポリマー層）を容器に封入して、例えば、下記温度設定で加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分の定量を行った。揮発成分の定量は、濃度が既知の試料を用いて検量線をあらかじめ作成しておき、測定で得られた揮発成分のピーク面積と検量線とを照合して行った（残留溶媒質量の単位は「ｐｐｍ」で表す。）。
＜測定条件＞
ヘッドスペース装置：７６９４ Ｈｅａｄｓｐａｃｅ Ｓａｍｐｌｅｒ（アジレント・テクノロジー社製）
温度条件：トランスファーライン２００℃、ループ温度２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍＬバイアル
ＧＣ：５８９０（アジレント・テクノロジー社製）
ＭＳ：５９７１（アジレント・テクノロジー社製）
カラム：ＤＢ−６２４（３０ｍ×内径０．２５ｍｍ）
オーブン温度：初期温度４０℃（保持時間３分）、昇温速度１０℃／分、到達温度２００℃（保持時間５分）
測定モード：ＳＩＭ（セレクトイオンモニター）モード
〔９〕偏光板
本発明の偏光板保護フィルムが適用される偏光板の作製方法においては、前記ポリマー層を支持体から剥離し、偏光子を含むフィルムに積層してもよいし、前記ポリマー層を偏光子を含むフィルムに積層し、その後、支持体を剥離してもよい。

支持体を剥離してから積層する場合は、ポリマー層が偏光子を含むフィルム側の面にあってもよいし、ポリマー層以外の層の面が偏光子を含むフィルム側の面にあってもよい。

積層後に支持体を剥離する場合は、支持体からみてポリマー含有層側の面が偏光子を含むフィルム側の面になるように積層する。積層は接着層を介して行えばよい。接着層は接着剤又は粘着剤を含む層であればよい。すなわち、ポリマー層と偏光子を含むフィルムとは接着剤又は粘着剤により接着又は粘着させられていればよい。接着剤としては特に限定はないが、特開２００４−２４５９２５号公報に示されるような、分子内に芳香環を含まないエポキシ化合物の硬化性接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の３６０〜４５０ｎｍの波長におけるモル吸光係数が４００以上である光重合開始剤と紫外線硬化性化合物とを必須成分とする活性エネルギー線硬化型接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の（メタ）アクリル系化合物の合計量１００質量部中に（ａ）分子中に（メタ）アクリロイル基を２以上有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｂ）分子中にヒドロキシ基を有し、重合性二重結合をただ１個有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｃ）フェノールエチレンオキサイド変性アクリレート又はノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレートとを含有する活性エネルギー線硬化型接着剤などが挙げられる。

偏光子は、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明には、いずれの偏光子を用いてもよい。例えば偏光子はポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましい。ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成される偏光子については例えば特開２００９−２３７３７６号公報の記載を参照することができる。偏光子の膜厚は５０μｍ以下であればよく、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下であることが特に好ましい。

偏光子のもう一方の面には、本発明に係るポリマー層を貼合してもよいが、他の偏光板保護フィルムを貼合することもできる。例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ（株）製）等が好ましく用いられる。

〔１０〕液晶表示装置
上記本発明の偏光板保護フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。

上記偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくは、薄膜の偏光板が要求されるＩＰＳ型液晶表示装置である。

液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の２枚の偏光板が用いられるが、上記偏光板のポリマー層側を液晶セル側に用いることが好ましく、両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。

ＩＰＳ型液晶表示装置における上記偏光板の貼合の向きは、特開２００５−２３４４３１号公報を参照して行うことができる。

本発明に用いる液晶セルは、液晶層と、前記液晶層を挟持する一対の基板とを含み、前記一対の基板の厚さが０．３〜０．７ｍｍの範囲内のガラス基板であることが、液晶表示装置の薄型化、軽量化の観点から好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。

最初に、実施例に用いる材料として以下の素材を準備した。

〈ノルボルネン系樹脂〉
一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂として、−ＣＯＯＲのＲの種類として、下記ａ〜ｄを準備した（いずれも重量平均分子量Ｍｗ＝１４００００）。

ａ：Ｒ＝−ＣＨ_３、ｂ：Ｒ＝−Ｃ_２Ｈ_５、ｃ：Ｒ＝−Ｃ_３Ｈ_７（ｎ又はｉｓｏ）、ｄ：Ｒ＝−Ｃ_４Ｈ_９
〈シリコーン系添加剤〉
（共栄社化学社製シリコーン）
ＧＬ−０１：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝５２００
ＧＬ−０３：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝４１００
ＧＬ−０４Ｒ：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝４７００
（日信化学工業社製シリコーン）
シルフェイスＳＡＧ００５：ポリエーテル変性シリコーン（日信化学工業社製、シルフェイスＳＡＧ００５）、重量平均分子量Ｍｗ＝２８００
シルフェイスＳＡＧ００８：ポリエーテル変性シリコーン（日信化学工業社製、シルフェイスＳＡＧ００８）、重量平均分子量Ｍｗ＝７９００
〈支持体〉
東レ株式会社製ポリエチレンテレフタレートフィルム ルミラー（登録商標）（Ｕ４０３）、膜厚５０μｍ
コニカミノルタ（株）製ＫＣ４ＵＹ（ＴＡＣフィルム）、膜厚４０μｍ
〈マット剤〉
下記の日本アエロジル社製シリカ粒子を準備した。

（商品名） （表面修飾剤） （ＭＷ法による疎水化度）
Ｒ９７２ ：ジメチルシラン ：メタノール４２体積％
Ｒ８１２ ：トリメチルシラン ：メタノール４８体積％
Ｒ８０５ ：オクチルシラン ：メタノール５０体積％
Ｒ８１６ ：ヘキサデシルシラン ：メタノール５４体積％
ＮＫＣ１３０：ジメチルシロキサン ：メタノール６７体積％
Ｒ７１１ ：メタクリルロキシシラン ：メタノール５５体積％
ＲＹ３００ ：ジメチルシロキサン ：メタノール６９体積％
Ｒ１０４ ：ジメチルシロキサン環状体：メタノール６０体積％
ＲＡ２００Ｈ：アミノシラン ：メタノール５１体積％
２００Ｖ ：表面修飾剤未添加 ：メタノール１５体積％
〈メタノールウエッタビリティ（ＭＷ）法〉
メタノールと純水とを混合させた溶液において、純水に対するメタノールの混合比率を変えながら、各溶液にシリカ粒子を同量（同体積量）添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記シリカ粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、当該溶液におけるシリカ粒子の沈降物の体積が５０％となる溶液のメタノール混合比率をいう。

メタノールの混合比率が高い程、疎水化度が高いシリカ粒子であるといえる。

〈ポリエステル系可塑剤〉
下記構造を有するポリエステル系可塑剤Ａ及びＢを準備した。

〔実施例１〕
＜偏光板保護フィルム１０１の作製＞
〈ノルボルネン系樹脂含有ポリマー層の形成〉
支持体として、東レ株式会社製ポリエチレンテレフタレートフィルム ルミラー（登録商標）（Ｕ４０３／膜厚５０μｍ）上に、図２で示した塗布装置にて、下記組成のノルボルネン系樹脂含有ポリマー層形成用塗布液にて、７０ｍＬ／ｍ^２を連続的に塗布した。支持体の搬送速度は３０ｍ／分とし、８０℃の温風で６０秒乾燥させ、ポリマー層の乾燥後の膜厚を０．５μｍとした。幅１．６ｍ、長さ５０００ｍで塗布し、乾燥及びリターデーション値Ｒｔの低減のために、１３０℃で６０秒間の熱処理を行った後、ロール体に巻き取り、偏光板保護フィルム１０１を作製した。

（ノルボルネン系樹脂含有ポリマー層形成用塗布液の組成）
ノルボルネン系樹脂ａ １００質量部
シリコーン添加剤ＧＬ−０３ １．０質量部
ジクロロメタン ３３０質量部
エタノール ２０質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、塗布液を調製した。

＜偏光板保護フィルム１０２〜１２３及び１２５〜１２９の作製＞
偏光板保護フィルム１０１の作製において、ポリマー層に用いるノルボルネン系樹脂の種類、ポリマー層の乾燥条件（残留溶媒質量の制御）、乾燥後の膜厚、支持体の有無、シリコーン系添加剤の種類及び量を、表１に記載のように変化させた以外は同様にして、偏光板保護フィルム１０２〜１２３及び１２５〜１２９作製した。

なお、偏光板保護フィルム１０８〜１１５は、ポリマー層を塗布、乾燥後支持体ごと長手方向又は幅手方向にテンター延伸装置を用いて延伸し、表１記載のリターデーション値を有するように制御した。

＜偏光板保護フィルム１２４の作製＞
〈溶融流延によるノルボルネン系樹脂含有ポリマー層の形成〉
［樹脂組成物］
ノルボルネン系樹脂ａ １００質量部
シリコーン添加剤ＧＬ−０３ １．０質量部
得られた樹脂組成物を、二軸式押出機にて２３０℃で溶融混練して、ストランド状に押し出した。ストランド状に押し出された樹脂組成物を水冷した後、カッティングしてペレットを得た。

得られたペレットに、温度７０℃の除湿空気を５時間以上循環させて乾燥させた後、温度１００℃の温度を保ったまま、一軸押出機に投入した。一軸押出機に投入されるペレットの水分量は１２０ｐｐｍであった。

得られたペレットを、一軸押出機にて２３０℃で溶融混練した後、Ｔダイから、支持体上に押し出して、ポリマー層の乾燥後の膜厚を５μｍとした。幅１．６ｍ、長さ５０００ｍでロール体に巻き取り偏光板保護フィルム１２４を作製した。

≪評価≫
（１）ポリマー層のリターデーション値測定
偏光板保護フィルムのポリマー層を支持体から剥離して、下記方法によってリターデーション値Ｒｏ及びＲｔを測定した。

式（ｉ）
Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（ii）
Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
上記式（ｉ）及び（ii）において、Ｒｏはポリマー層の面内方向のリターデーション値、Ｒｔはポリマー層の厚さ方向のリターデーション値、ｎ_ｘはポリマー層の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙはポリマー層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎ_ｚはポリマー層の厚さ方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはポリマー層の厚さ（ｎｍ）を表す。

面内方向のリターデーション値Ｒｏ、及び厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚから算出した。

（２）残留溶媒質量
偏光板保護フィルムのポリマー層を支持体から剥離して、下記方法にてポリマー層の残
留溶媒質量を定量した。

〔残留溶媒の定量方法〕
ポリマー層中の溶媒含有量は、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより、以下の装置、条件で定量した。

測定試料（上記ポリマー層）を容器に封入して、下記温度範囲で加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分の定量を行った。揮発成分の定量は、濃度が既知の試料を用いて検量線をあらかじめ作成しておき、測定で得られた揮発成分のピーク面積と検量線とを照合して行った（残留溶媒質量の単位は「ｐｐｍ」で表す。）。

＜測定条件＞
ヘッドスペース装置：７６９４ Ｈｅａｄｓｐａｃｅ Ｓａｍｐｌｅｒ（アジレント・テクノロジー社製）
温度条件：トランスファーライン２００℃、ループ温度２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍＬバイアル
ＧＣ：５８９０（アジレント・テクノロジー社製）
ＭＳ：５９７１（アジレント・テクノロジー社製）
カラム：ＤＢ−６２４（３０ｍ×内径０．２５ｍｍ）
オーブン温度：初期温度４０℃（保持時間３分）、昇温速度１０℃／分、到達温度２００℃（保持時間５分）
測定モード：ＳＩＭ（セレクトイオンモニター）モード
（３）耐傷性評価
巻き取った偏光板保護フィルムを繰り出して、目視にて傷の発生（耐傷性）の有無を下記方法で評価した。

偏光板保護フィルムのポリマー層側から、ナトリウムランプ（ＫＮＬ−３５Ｄ、株式会社ライテスト社製）と市販の三波長蛍光灯を用いて光を照射し、ポリマー層表面の凹凸及び傷の発生を暗室にて評価した。評価した部位は、端部５ｃｍを除いたそれより内側の表面である。

◎：傷の発生がない
○：傷の発生が軽微にあるが実用上問題ない
△：傷の発生がややあり、実用上問題がある
×：傷の発生が明らかにあり実用上問題がある
（４）巻き形状評価
巻き取ったロール体の巻き姿を、目視にて以下の基準にて評価した。

◎：巻きシワ、巻き変形が全くない
○：巻きシワ、巻き変形が軽微にあるが実用上問題ない
△：巻きシワ、巻き変形がややあり、実用上問題がある
×：巻きシワ、巻き変形が明らかにあり実用上問題がある
以上、偏光板保護フィルムの構成及び評価結果を表１に示す。

表１から、本発明の偏光板保護フィルム１０２〜１０５、１０７、１０８、１１１〜１１４、１１８〜１２３、及び１２６〜１２８は、リターデーション値も低く、耐傷性及び
巻き形状に優れた、薄膜のノルボルネン系樹脂含有ポリマー層を有する偏光板保護フィルムであることが分かる。

比較例である偏光板保護フィルム１０６は、偏光板の薄膜化には不十分であった。

比較例である偏光板保護フィルム１０９、１１０及び１１５は、リターデーション値が本発明の範囲外であったため、偏光板保護フィルムとして偏光板を作製後、ＩＰＳ型液晶表示装置に装着したところ、視野角特性が劣っていた。

比較例である偏光板保護フィルム１２４は、溶融流延によってポリマー層を形成したところ、均一な薄膜形成ができなかった。

比較例である偏光板保護フィルム１２５は、残留溶媒質量が多いため、ポリマー層の剛度が低下し、耐傷性に劣っていた。

比較例である偏光板保護フィルム１２９は、ノルボルネン系樹脂の側鎖が長いことによって、ポリマー層の強度が低下し、耐傷性に劣っていた。

〔実施例２〕
＜偏光板保護フィルム２０１の作製＞．
偏光板保護フィルム１０３の作製において、ポリマー層形成用塗布液に下記シリカ粒子を添加した以外は同様にして、偏光板保護フィルム２０１を作製した。

（微粒子分散液の調製）
シリカ粒子（アエロジルＲ８１２ 日本アエロジル（株）製） １１質量％
ジクロロメタン ８９質量％
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。
（微粒子添加液１の調製）
溶解タンクにジクロロメタンを入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液を５０質量％となるようにゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒子径が、所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子添加液１を調製した。

（ノルボルネン系樹脂含有ポリマー層形成用塗布液の組成）
ノルボルネン系樹脂ａ １００質量部
シリコーン添加剤ＧＬ−０３ １．０質量部
微粒子添加液 フィルム中で０．１０質量％になる量を添加
ジクロロメタン ３３０質量部
エタノール ２０質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、塗布液を調製した。

＜偏光板保護フィルム２０２〜２１４の作製＞
偏光板保護フィルム２０１の作製において、シリカ粒子Ｒ８１２の添加量、シリカ粒子の種類（Ｒ９７２、Ｒ８０５、Ｒ８１６、ＮＫＣ１３０、Ｒ７１１、ＲＹ３００、Ｒ１０４、ＲＡ２００Ｈ、２００Ｖ）を変化させた以外は同様にして、偏光板保護フィルム２０２〜２１４を作製した。

作製した偏光板保護フィルム２０１〜２１４を用いて、実施例１と同様に、ポリマー層
のリターデーション値測定、耐傷性評価、巻き形状評価を行った。結果を表２に示す。

マット剤を添加することによって、滑り性が向上するため、巻き形状に優れる結果であった。さらに、ＭＷ法による疎水化度試験において疎水化度が４５体積％以上である、シリカ粒子を用いた偏光板保護フィルムは、マット剤がポリマー層の表面に多く配向しやす
いためか、耐傷性においても良好な結果であった。

ただし、マット剤を０．７０質量％添加した偏光板保護フィルム２０４は、ややヘイズが高かった。

〔実施例３〕
＜偏光板保護フィルム３０１の作製＞．
偏光板保護フィルム１０３の作製において、ポリマー層形成用塗布液にポリエステルＡを添加した以外は同様にして、偏光板保護フィルム３０１を作製した。

（ノルボルネン系樹脂含有ポリマー層形成用塗布液の組成）
ノルボルネン系樹脂ａ １００質量部
シリコーン添加剤ＧＬ−０３ １．０質量部
ポリエステルＡ １．０質量部
ジクロロメタン ３３０質量部
エタノール ２０質量部
＜偏光板保護フィルム３０２〜３０９の作製＞
偏光板保護フィルム３０１の作製において、ポリマー層形成用塗布液にポリエステルＡ及びポリエステルＢを、添加量を変えて添加した以外は同様にして、偏光板保護フィルム３０２〜３０９を作製した。

作製した偏光板保護フィルム３０１〜３０９を用いて、実施例１と同様に、ポリマー層のリターデーション値測定、耐傷性評価、巻き形状評価、さらに下記耐久巻き形状評価を行った。結果を表３に示す。

（５）耐久巻き形状評価
作製した偏光板保護フィルムロール体を、６０℃・８０％ＲＨの環境試験室に１ケ月保管した後に、ロール体の巻き姿を、目視にて以下の基準にて評価した。

◎：巻き変形が全くない
○：巻き変形が軽微にあるが実用上問題ない
△：巻き変形がややあり、そのままでは実用上問題がある
×：巻き変形が明らかにあり実用上問題がある

表３から、ポリエステル系可塑剤を添加することにより、耐傷性、巻き形状に加えて、耐久巻き形状についても、優れた効果を発現することが分かる。

〔実施例４〕
＜偏光板保護フィルム４０１〜４０３の作製＞．
偏光板保護フィルム２０２の作製において、マット剤の添加量、ポリエステル系可塑剤Ａの添加、さらに支持体として、東レ株式会社製ポリエチレンテレフタレートフィルム ルミラー（登録商標）（Ｕ４０３／５０μｍ、ＰＥＴと略記）、コニカミノルタ（株）製ＫＣ４ＵＹ（ＴＡＣフィルム／４０μｍ、ＴＡＣと略記）、東レ加工フィルム株式会社製ポリエチレンフィルムＲ７８３２Ｃ、膜厚５０μｍ、ＰＥと略記）及び支持体無でポリマー層形成した以外は同様にして、偏光板保護フィルム４０１〜４０４を作製した。

作製した偏光板保護フィルム４０１〜４０４を用いて、実施例１と同様に、ポリマー層のリターデーション値測定、耐傷性評価、巻き形状評価、さらに下記平面性評価を行った。偏光板保護フィルムの構成及び評価結果を表４に示す。

（６）平面性評価
試料を１ｍ四方に裁断し、偏光板保護フィルムのポリマー層側から、市販の三波長蛍光灯を用いて光を照射し、表面の異物・キズ・押され跡・スジ・ムラによるポリマー層表面に反射する蛍光灯の反射像の歪みの程度を暗室にて評価した。

◎：蛍光灯の反射像の歪みの発生がなく、平面性に優れる
○：蛍光灯の反射像の歪みの発生が軽微にあるが実用上問題ない
△：蛍光灯の反射像の歪みの発生がややあり、平面性が劣る
×：蛍光灯の反射像の歪みの発生が明らかにあり平面性において実用上問題がある

表４から、支持体としてポリエステル系樹脂フィルムを用いることで、耐傷性、巻き形状及び平面性に優れることが分かる。

〔実施例５〕
＜偏光板保護フィルム５０１の作製＞
偏光板保護フィルム１０３の作製において、ポリマー層形成用塗布液中の溶媒種を変更及びリターデーション値Ｒｔの低減のための熱処理を行わなかった以外は同様にして、偏光板保護フィルム５０１を作製した。

（ノルボルネン系樹脂含有ポリマー層形成用塗布液の組成）
ノルボルネン系樹脂ａ １００質量部
シリコーン添加剤ＧＬ−０３ １．０質量部
ジクロロメタン ３３０質量部
＜偏光板保護フィルム５０２の作製＞
偏光板保護フィルム５０１の作製において、ポリマー層形成用塗布液中の溶媒種を変更した以外は同様にして、偏光板保護フィルム５０２を作製した。

（ノルボルネン系樹脂含有ポリマー層形成用塗布液の組成）
ノルボルネン系樹脂ａ １００質量部
シリコーン添加剤ＧＬ−０３ １．０質量部
トルエン ５０質量部
ジクロロメタン ２８０質量部
作製した偏光板保護フィルム５０１及び５０２を用いて、実施例４と同様に、ポリマー層のリターデーション値測定、耐傷性評価、巻き形状評価、及び平面性評価を行った。偏光板保護フィルムの構成及び評価結果を表５に示す。

表５から、ポリマー層の残留溶媒が芳香族系の溶媒を含むことによって、リターデーシ
ョン値がより低減することが分かる。

Ｆ 偏光板保護フィルム
１ 支持体
２ ポリマー層
１０ 塗布装置
１１ 送り出し機
１２ 支持体
１３ 搬送ローラー
１４ 塗布ヘッド
１５ バックアップローラー
１６ 乾燥機

Claims (6)

1. 支持体上にノルボルネン系樹脂を含有するポリマー層を有する偏光板保護フィルムであって、
   前記ポリマー層の層厚が１〜１０μｍの範囲内であり、
   前記ノルボルネン系樹脂が、下記一般式（１）で表されるノルボルナン骨格を有するノルボルネン系樹脂であり、
   前記ポリマー層の下記式（ｉ）で定義されるリターデーション値Ｒｏが、０〜１０ｎｍの範囲内であり、下記式（ii）で定義されるリターデーション値Ｒｔが、−２０〜２０ｎｍの範囲内であり、
   前記ポリマー層がシリコーン系添加剤を含有し、かつ、
   前記ポリマー層が残留溶媒を含有し、当該残留溶媒質量が５００〜１００００ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする偏光板保護フィルム。
   

   

   〔式中、Ｒは、炭素数が１〜３の直鎖又は分岐アルキル基を表す。〕
   式（ｉ）
   Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
   式（ii）
   Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
   〔式中、Ｒｏはポリマー層の面内方向のリターデーション値、Ｒｔはポリマー層の厚さ方向のリターデーション値、ｎ_ｘはポリマー層の遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙはポリマー層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎ_ｚはポリマー層の厚さ方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはポリマー層の厚さ（ｎｍ）を表す。〕
2. 前記ポリマー層が、マット剤を当該ポリマー層全質量の０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
3. 前記マット剤がシリカ粒子であり、メタノールウエッタビリティ法による疎水化度試験において、メタノールの混合比率が４５体積％以上であることを特徴とする請求項２に記載の偏光板保護フィルム。
4. 前記ポリマー層が、さらにポリエステル系可塑剤を含有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
5. 前記残留溶媒が、芳香族系の溶媒を含むことを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
6. 前記支持体が、ポリエステル系樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

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