JP2017152487A - 化合物半導体装置の製造方法 - Google Patents
化合物半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017152487A JP2017152487A JP2016032290A JP2016032290A JP2017152487A JP 2017152487 A JP2017152487 A JP 2017152487A JP 2016032290 A JP2016032290 A JP 2016032290A JP 2016032290 A JP2016032290 A JP 2016032290A JP 2017152487 A JP2017152487 A JP 2017152487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base region
- type
- layer
- impurity concentration
- compound semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 106
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 85
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical group [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 38
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 9
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66053—Multistep manufacturing processes of devices having a semiconductor body comprising crystalline silicon carbide
- H01L29/66068—Multistep manufacturing processes of devices having a semiconductor body comprising crystalline silicon carbide the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
- H01L21/02373—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02378—Silicon carbide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02524—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02529—Silicon carbide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/1095—Body region, i.e. base region, of DMOS transistors or IGBTs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/16—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L29/1608—Silicon carbide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66674—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
- H01L29/66712—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
- H01L29/66734—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors with a step of recessing the gate electrode, e.g. to form a trench gate electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7801—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
- H01L29/7802—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
- H01L29/7813—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors with trench gate electrode, e.g. UMOS transistors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Abstract
【解決手段】ベース領域をエピタキシャル成長させる際に、その前にドーパントガスのプレドープを行う。このようなプレドープによって予めチャンバ内壁面等にドーパントが吸着されるようにしておくことができ、エピタキシャル成長時にはドーパントの吸着が抑制されるようにできる。プレドープ時間を制御することによって、チャンバ内への吸着量を制御できるため、p型不純物層の不純物濃度プロファイルを制御することが可能となる。
【選択図】図4
Description
第1実施形態について説明する。ここでは、化合物半導体装置の一例として、トレンチゲート構造の反転型の縦型MOSFETが形成されたSiC半導体装置について説明する。
まず、半導体基板として、SiCからなるn+型基板1の表面上にSiCからなるn-型ドリフト層2がエピタキシャル成長させられた、いわゆるエピ基板を用意する。
図示しないエピタキシャル成長装置を用いて、n-型ドリフト層2の表面にベース領域3を形成する工程と、さらにベース領域3の表面にn+型ソース領域4を形成する工程を順に行う。具体的には、図4に示すように、まずエピタキシャル成長装置内を所定温度(例えば1575℃)に上昇させる昇温期間を経て、SiC原料ガスと共にp型不純物を含むドーパントガスを導入する。例えば、昇温期間については40分以下に設定してあり、その期間中に所定温度まで昇温させている。
n+型ソース領域4の表面にマスク材(図示せず)を配置したのち、フォトリソグラフィによってマスク材のうちのp型ディープ層5の形成予定位置を開口させる。そして、マスク材を配置した状態でRIE(Reactive Ion Etching)などの異方性エッチングを行うことで、p型ディープ層5の形成予定位置にトレンチを形成する。その後、マスク材を除去し、再びエピタキシャル成長装置を用いて、トレンチ内を含めてn+型ソース領域4の表面全面にp型SiC層を成膜する。このときに用いるSiC原料ガスおよびドーパントガスはベース領域3の形成工程の際と同様であり、p型ディープ層5の不純物濃度に応じてガス導入量を調整するようにしている。
n+型ソース領域4やp型ディープ層5の表面にマスク材(図示せず)を配置したのち、フォトリソグラフィによってマスク材のうちのトレンチ6の形成予定位置を開口させる。そして、マスク材を配置した状態でRIEなどの異方性エッチングを行うことにより、セル領域においてトレンチ6を形成する。その後、マスク材を除去する。
ウェット雰囲気による熱酸化によってゲート絶縁膜7を形成したのち、ゲート絶縁膜7の表面にドープドPoly−Si層を成膜し、このドープドPoly−Si層をパターニングすることでトレンチ6内に残し、ゲート電極8を形成する。この後の工程については、従来と同様である。すなわち、層間絶縁膜の形成工程、フォト・エッチングによるコンタクトホール形成工程、電極材料をデポジションしたのちパターニングすることでソース電極9やゲート配線層を形成する工程、n+型基板1の裏面にドレイン電極10を形成する工程等を行う。これにより、図1に示すトレンチゲート構造の縦型MOSFETがセル領域に備えられたSiC半導体装置が完成する。
第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してベース領域3の構成およびその製造プロセスを変更したものであり、その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
2 n-型ドリフト層
3 ベース領域
3a 高濃度ベース領域
3b 低濃度ベース領域
4 n+型ソース領域
5 p型ディープ層
6 トレンチ
8 ゲート電極
9 ソース電極
10 ドレイン電極
Claims (4)
- 化合物半導体にて構成される下地層(2)の上に、前記化合物半導体にて構成されるp型不純物層(3)をエピタキシャル成長することを含む化合物半導体装置の製造方法であって、
前記エピタキシャル成長することは、前記化合物半導体をエピタキシャル成長させるのに用いる原料ガスの導入前に、前もってp型不純物のドーパントとなる有機金属材料を含むドーパントガスを導入するプレドープを行うことを含み、該プレドープ時間を制御することによって前記p型不純物層の不純物濃度プロファイルを制御する化合物半導体装置の製造方法。 - 前記エピタキシャル成長することでは、前記プレドープを行うことにより、前記エピタキシャル成長中における成長初期時に前記p型不純物層の不純物濃度が最も高くなるようにする請求項1に記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記エピタキシャル成長することでは、前記プレドープにおける前記ドーパントガスの導入量を前記原料ガスの導入後よりも多くすることで、前記エピタキシャル成長中における成長初期時に前記p型不純物層の不純物濃度が最も高くなるようにする請求項2に記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記化合物半導体は炭化珪素であって、
裏面側が高不純物濃度となる裏面層(1)とされていると共に、表面側が前記裏面層よりも低不純物濃度とされた前記下地層に相当するドリフト層(2)とされ、第1導電型の炭化珪素にて構成された半導体基板(1、2)を用意することと、
前記ドリフト層の上に、炭化珪素からなるベース領域(3)を形成することと、
前記ベース領域の上層部に、前記ドリフト層よりも高不純物濃度の第1導電型の炭化珪素で構成されたソース領域(4)を形成することと、
前記ソース領域の表面から前記ベース領域よりも深くまでトレンチ(6)を形成することと、
前記トレンチの内壁面にゲート絶縁膜(7)を形成すると共に、前記ゲート絶縁膜の上にゲート電極(8)を形成することでトレンチゲート構造を構成することと、
前記ソース領域に電気的に接続されるソース電極(9)を形成することと、
前記半導体基板の裏面側における前記裏面層と電気的に接続されるドレイン電極(10)を形成することと、を含み、
前記ベース領域を形成することとして、前記エピタキシャル成長することを行う請求項1ないし3のいずれか1つに記載の化合物半導体装置の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016032290A JP6662092B2 (ja) | 2016-02-23 | 2016-02-23 | 化合物半導体装置の製造方法 |
US16/069,622 US10439037B2 (en) | 2016-02-23 | 2017-01-19 | Method for manufacturing compound semiconductor device including p-type impurity layer |
PCT/JP2017/001771 WO2017145593A1 (ja) | 2016-02-23 | 2017-01-19 | 化合物半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016032290A JP6662092B2 (ja) | 2016-02-23 | 2016-02-23 | 化合物半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017152487A true JP2017152487A (ja) | 2017-08-31 |
JP6662092B2 JP6662092B2 (ja) | 2020-03-11 |
Family
ID=59686068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016032290A Active JP6662092B2 (ja) | 2016-02-23 | 2016-02-23 | 化合物半導体装置の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10439037B2 (ja) |
JP (1) | JP6662092B2 (ja) |
WO (1) | WO2017145593A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020115950A1 (ja) * | 2018-12-05 | 2020-06-11 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素エピタキシャル基板の製造方法 |
JP2022534924A (ja) * | 2019-05-27 | 2022-08-04 | ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | パワートランジスタの製造方法およびパワートランジスタ |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5693139A (en) * | 1984-07-26 | 1997-12-02 | Research Development Corporation Of Japan | Growth of doped semiconductor monolayers |
JPH071798B2 (ja) * | 1986-09-12 | 1995-01-11 | 日本電気株式会社 | 発光ダイオ−ド |
US5708301A (en) * | 1994-02-28 | 1998-01-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Electrode material and electrode for III-V group compound semiconductor |
JP3598591B2 (ja) * | 1995-07-17 | 2004-12-08 | 住友化学工業株式会社 | 3−5族化合物半導体の製造方法 |
WO1999005728A1 (en) * | 1997-07-25 | 1999-02-04 | Nichia Chemical Industries, Ltd. | Nitride semiconductor device |
JP2001077027A (ja) | 1999-09-06 | 2001-03-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ドープ層を有する半導体薄膜の成長方法 |
US20060175601A1 (en) * | 2000-08-22 | 2006-08-10 | President And Fellows Of Harvard College | Nanoscale wires and related devices |
US6479313B1 (en) * | 2001-05-25 | 2002-11-12 | Kopin Corporation | Method of manufacturing GaN-based p-type compound semiconductors and light emitting diodes |
JP2004327716A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp | エピタキシャル成長方法 |
JP2008021717A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Sharp Corp | 半導体製造方法および半導体レーザ素子製造方法 |
JP4869101B2 (ja) | 2007-02-20 | 2012-02-08 | 株式会社豊田中央研究所 | p型半導体結晶及びその結晶を用いた半導体素子 |
JP6048317B2 (ja) | 2013-06-05 | 2016-12-21 | 株式会社デンソー | 炭化珪素半導体装置 |
-
2016
- 2016-02-23 JP JP2016032290A patent/JP6662092B2/ja active Active
-
2017
- 2017-01-19 US US16/069,622 patent/US10439037B2/en active Active
- 2017-01-19 WO PCT/JP2017/001771 patent/WO2017145593A1/ja active Application Filing
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020115950A1 (ja) * | 2018-12-05 | 2020-06-11 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素エピタキシャル基板の製造方法 |
JPWO2020115950A1 (ja) * | 2018-12-05 | 2021-10-28 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素エピタキシャル基板の製造方法 |
US11373868B2 (en) | 2018-12-05 | 2022-06-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for manufacturing silicon carbide epitaxial substrate |
JP7251553B2 (ja) | 2018-12-05 | 2023-04-04 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素エピタキシャル基板の製造方法 |
JP2022534924A (ja) * | 2019-05-27 | 2022-08-04 | ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | パワートランジスタの製造方法およびパワートランジスタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017145593A1 (ja) | 2017-08-31 |
US20190013392A1 (en) | 2019-01-10 |
JP6662092B2 (ja) | 2020-03-11 |
US10439037B2 (en) | 2019-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6048317B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置 | |
JP6485382B2 (ja) | 化合物半導体装置の製造方法および化合物半導体装置 | |
JP6485383B2 (ja) | 化合物半導体装置およびその製造方法 | |
JP5884617B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 | |
CN111149213B (zh) | 碳化硅半导体装置及其制造方法 | |
JP6056623B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2014017469A (ja) | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 | |
WO2012032735A1 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2014146666A (ja) | 半導体装置 | |
JP2010177373A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
WO2017145548A1 (ja) | 化合物半導体装置およびその製造方法 | |
JP2014130986A (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
JP2019004010A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2006066438A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4049095B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP6207627B2 (ja) | 半導体装置 | |
WO2017145593A1 (ja) | 化合物半導体装置の製造方法 | |
JP6035763B2 (ja) | ゲート酸化膜の形成方法及び炭化珪素半導体装置の製造方法 | |
JP6648852B1 (ja) | 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法 | |
US20230307236A1 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
JP7120886B2 (ja) | スイッチング素子の製造方法 | |
JP2023140254A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
CN109888010A (zh) | 具有P型屏蔽层的AlGaN/GaN异质结垂直型场效应晶体管及其制作方法 | |
JP2010040899A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US20160005842A1 (en) | Power semiconductor device and method of manufacturing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190625 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190823 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200114 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6662092 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |