JP2017150933A - ガスセンサ素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】電極の切断面において混在領域と空隙とが存在することにより、電極の抵抗値を低く抑えて、酸素分解活性を高めることができるガスセンサ素子を提供すること。
【解決手段】ガスセンサ素子は、固体電解質板2と、固体電解質板2の表面に設けられた測定電極及び基準電極とを備える。基準電極を厚み方向Tに沿って切断した切断面X1においては、貴金属領域31と、固体電解質領域32と、混在領域33と、空隙34とが存在している。ここで、基準電極の切断面X1における面積Aに対する、混在領域33の切断面X1における面積Bの割合を混在領域割合B/Aとし、基準電極の切断面X1における面積Aに対する、空隙34の切断面X1における面積Cの割合を空隙割合C/Aとしたとき、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとの積であるパラメータ値は、0.001〜0.01の範囲内にある。
【選択図】図2

Description

本発明は、固体電解質に電極が設けられたガスセンサ素子に関する。
車両用の内燃機関の排気系統には、排気系統を流れる排ガス中の酸素濃度、又はNOx(窒素酸化物)等の特定ガスの濃度を測定するガスセンサが配設される。このガスセンサには、ガスセンサ素子が内蔵されており、ガスセンサ素子は、貴金属及び固体電解質を含むペースト状の電極材料を、固体電解質板を構成するセラミックシートの表面に塗布し、電極材料及びセラミックシートを焼成することによって製造されている。
ガスセンサ素子においては、電極における貴金属及び固定電解質に酸素が接触する三相界面において酸素イオンが生じ、この酸素イオンが電極及び固体電解質板を伝導する。そのため、電極においては、貴金属と固体電解質と被測定ガスとの接触がいかに効果的に行われるかが、ガスセンサ素子の酸素分解活性を左右する。
例えば、特許文献1に記載されたガスセンサ用の電極は、その断面において、貴金属からなる貴金属領域と、固体電解質からなる固体電解質領域と、貴金属と固体電解質とが混在してなる混在領域とを有している。そして、混在領域が、貴金属領域と固体電解質領域との境界部に沿って存在することにより、排ガス中における酸素分子をイオン化させる効率を高め、センサ出力の安定化を図っている。
また、特許文献2には、ガスセンサ素子の酸素分解活性を向上させることができる、ガスセンサ電極形成用の金属ペーストが開示されている。
特開2014−122878号公報 特開2014−145607号公報
ところで、ガスセンサ素子においては、電極の三相界面において生じる酸素イオンが伝導すると共に電子が移動する。そして、ガスセンサ素子の酸素分解活性を高めるためには、三相界面を増やす必要がある。しかし、三相界面を増やすために混在領域のみを増加させた場合、又は空隙のみを増加させた場合には、電極の抵抗値が高くなり、電子の移動を妨げることが分かった。従って、ガスセンサ素子の酸素分解活性を高めるためには、抵抗値が低く抑えられる適切な範囲において三相界面を形成する必要がある。
本発明は、かかる背景に鑑みてなされたものであり、電極の切断面において混在領域と空隙とが存在することにより、電極の抵抗値を低く抑えて、酸素分解活性を高めることができるガスセンサ素子を提供しようとするものである。
本発明の一態様は、酸素イオン伝導性を有する固体電解質板(2)と、該固体電解質板の表面に設けられた電極(3A、3B)とを備え、
該電極は、白金を含む貴金属と、上記固体電解質板を構成するセラミックス材料と同種のセラミックス材料からなる固体電解質とを含有しており、
上記電極を厚み方向(T)に沿って切断した切断面(X1)においては、上記貴金属が塊状に集まった貴金属領域(31)と、上記固体電解質が塊状に集まった固体電解質領域(32)と、上記貴金属と上記固体電解質とが分布する混在領域(33)と、空隙(34)とが存在しており、
上記電極の上記切断面における面積Aに対する、上記混在領域の上記切断面における面積Bの割合を示す混在領域割合B/Aと、上記電極の上記切断面における面積Aに対する、上記空隙の上記切断面における面積Cの割合を示す空隙割合C/Aとの積であるパラメータ値が、0.001〜0.01の範囲内にある、ガスセンサ素子(1)にある。
上記ガスセンサ素子において、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとは、電極を厚み方向に沿って切断した切断面において測定する。そして、パラメータ値が0.001〜0.01の範囲内になるよう、電極の切断面において混在領域と空隙とが存在することにより、電極の抵抗値を低く抑えて、ガスセンサ素子の酸素分解活性を高めることができる。
一方、パラメータ値が0.001未満である場合、又は0.01超過である場合には、電極の抵抗値が高くなり、ガスセンサ素子の酸素分解活性を高めることができない。ここで、切断面における空隙には、電極の表面に繋がる開放空隙と、電極の内部に独立した独立空隙とがある。そして、電極の切断面における面積Aは、貴金属領域、固体電解質領域、混在領域及び独立空隙を合わせた面積とする。この面積Aを求める際の固体電解質領域は、固体電解質板を構成する固体電解質とは分離して独立している固体電解質領域とする。
「混在領域」とは、電極の切断面において、空隙を除く部分の全体のうち、貴金属領域又は固体電解質領域でない部分であり、かつ貴金属と固体電解質の両方を含む領域をいう。混在領域においては、貴金属と固体電解質とが、三次元的に相互に入り込んで互いに接触して複雑に絡み合っている。また、混在領域においては、貴金属の相と固体電解質の相とが霜降り状に複雑に絡み合っている。更に、混在領域中の貴金属と固体電解質との少なくとも一部は、貴金属領域中の貴金属、固体電解質領域中の固体電解質、又は固体電解質板と連続した相となっている。
電極の切断面を観察した場合、混在領域は、貴金属と固体電解質とを分ける境界線が複数存在する領域となる。貴金属と固体電解質とを分ける境界線が複数存在する領域とは、貴金属と固体電解質とを分ける境界線が2本以上存在する領域のことをいう。言い換えれば、貴金属と固体電解質とを分ける境界線が複数存在する領域とは、1本の連続した曲線のみによって、貴金属と固体電解質とに2分されないことをいう。
実施形態における、測定電極及び基準電極を有するガスセンサ素子を示す断面説明図。 実施形態における、基準電極の切断面を示す写真。 実施形態における、基準電極における三相界面割合と空隙割合との積と、抵抗値との関係を示すグラフ。 実施形態における、基準電極における空隙割合と、抵抗値との関係を示すグラフ。
以下に、上述したガスセンサ素子の実施形態につき、図1〜図4を参照して説明する。
本形態のガスセンサ素子1は、図1に示すように、酸素イオン伝導性を有する固体電解質板2と、固体電解質板2の表面に設けられた測定電極3A及び基準電極3Bとを備える。各電極3A、3Bは、白金を含む貴金属と、固体電解質板2を構成するセラミックス材料と同種のセラミックス材料からなる固体電解質とを含有している。基準電極3Bを厚み方向Tに沿って切断した切断面X1においては、図2に示すように、貴金属が塊状に集まった貴金属領域31と、固体電解質が塊状に集まった固体電解質領域32と、貴金属と固体電解質とが分布する混在領域33と、空隙34とが存在している。
ここで、基準電極3Bの切断面X1における面積Aに対する、混在領域33の切断面X1における面積Bの割合を混在領域割合B/Aとして示す。また、基準電極3Bの切断面X1における面積Aに対する、空隙34の切断面X1における面積Cの割合を空隙割合C/Aとして示す。そして、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとの積であるパラメータ値は、0.001〜0.01の範囲内にある。また、空隙割合C/Aは、0.3以下である。なお、パラメータ値が0.001及び0.01である場合は、百分率で示すと0.1%及び1%となる。
ガスセンサ素子1は、内燃機関としてのエンジンの排気管に配置され、排気管を通過する排ガスを被測定ガスGとするとともに、大気を基準ガスAとして、被測定ガスGの酸素濃度を求める。
本形態のガスセンサ素子1は、被測定ガスGの拡散律速に基づく限界電流特性を利用して、エンジンにおけるA/F(空燃比)を定量的に求めるA/Fセンサを構成する。ガスセンサ素子1は、これ以外にも、エンジンにおける燃料と空気との混合比である空燃比が、理論空燃比に対して燃料過剰なリッチ状態にあるか又は空気過剰なリーン状態にあるかを検出する濃淡電池式センサを構成することもできる。また、ガスセンサ素子1は、被測定ガスG中のNOxの濃度を測定するNOxセンサを構成することもできる。
図1に示すように、固体電解質板2は、板形状のイットリア安定化ジルコニアによって形成されている。電極3A、3Bは、固体電解質板2の一方の表面に設けられて被測定ガスGに晒される測定電極3Aと、固体電解質板2の他方の表面に設けられて基準ガスAに晒される基準電極3Bとにより構成されている。固体電解質板2の一方の表面には、被測定ガスGが導入される測定ガス室41が形成されており、測定電極3Aは測定ガス室41に配置されている。測定ガス室41は、絶縁体43、及び被測定ガスGを所定の拡散速度で通過させる拡散抵抗層44によって囲まれて形成されている。
固体電解質板2の他方の表面には、基準ガスAが導入される基準ガス室42が形成されており、基準電極3Bは基準ガス室42に配置されている。固体電解質板2の厚み方向Tに積層されたヒータ5は、通電によって発熱する発熱体52と、発熱体52を埋設するセラミック基板51とによって形成されている。基準ガス室42は、セラミック基板51によって囲まれて形成されている。
同図に示すように、本形態のガスセンサ素子1は、A/Fセンサとして、測定電極3Aと基準電極3Bとの間に、限界電流特性を示す所定の電圧Vを印加して使用される。被測定ガスG中の酸素分子O2は、主に測定電極3Aの混在領域における貴金属及び固体電解質との界面において、電子e-を受け取って酸素イオンO2-になる。そして、酸素イオンO2-は固体電解質板2を通過する。固体電解質板2を通過した酸素イオンO2-は、基準電極3Bの混在領域における貴金属及び固体電解質との界面において電子e-を受け渡して再び酸素分子O2となる。なお、ガスセンサ素子1によってNOxセンサを構成する場合であって、被測定ガスG中の酸素を排出する各電極3A、3Bにおける酸素イオンO2-の伝導は上記と同様になる。また、ガスセンサ素子1によって濃淡電池式センサを構成する場合には、酸素イオンO2-は、基準電極3Bから測定電極3Aへと伝導する。
固体電解質板2は、イットリア安定化ジルコニアからなる多数の結晶粒子が集まって形成されている。結晶粒子同士は互いに連なっている。電極3A、3Bは、貴金属としての白金の結晶粒子と、固体電解質であって固体電解質板2との共材であるイットリア安定化ジルコニアの結晶粒子とを含有している。
図2は、ガスセンサ素子1の厚み方向Tに沿って切断した基準電極3Bの切断面X1の写真を示す。この写真は、基準電極3Bの切断面X1を走査型電子顕微鏡(SEM)によって撮影したものである。
図2に示すように、切断面X1においては、白金と固体電解質とによる混在領域33が、基準電極3Bの略全体に分布している。混在領域33は、貴金属領域31、固体電解質領域32又は空隙34が形成された部分を除く全体において、基準電極3Bにおける、固体電解質板2との境界位置301から表面位置302まで形成されている。混在領域33は、白金と固体電解質とを分ける境界線が複数存在する部分として形成されている。混在領域33においては、白金と固体電解質とが三次元的に相互に入り込んで互いに接触して複雑に絡み合っている。また、混在領域33の中の白金の一部は、貴金属領域31中の白金と連続した相となっており、混在領域33の中の固体電解質の一部は、固体電解質領域32中の固体電解質、又は固体電解質板2と連続した相となっている。なお、図示は省略するが、測定電極3Aの切断面においても、基準電極3Bと同様の材料の分布が見られる。
図2に示すように、基準電極3Bの切断面X1において、空隙34には、基準電極3Bの表面から陥没して形成された開口形状の開放空隙34Aと、基準電極3Bの内部に形成された閉口形状の独立空隙34Bとがある。空隙34は、三次元的に連続して形成されており、独立空隙34Bは、切断面X1が異なれば、開放空隙34Aとなっていることがある。また、基準電極3Bの表面位置302は、複雑な凹凸形状に形成されている。
開放空隙34A及び独立空隙34Bによる空隙34は、混在領域33に隣接する部分に多く形成されている。そして、混在領域33における貴金属及び固体電解質と空隙34内に入る大気との三相界面が、混在領域33の周辺に多く形成される。混在領域33は、ガスセンサ素子1に通電処理を行うことにより、貴金属領域31と固体電解質領域32との境界位置301において貴金属領域31中の貴金属と固体電解質板2中又は固体電解質領域32中の固体電解質とが混ざり合って形成されたものである。
本形態のガスセンサ素子1においては、基準電極3Bにおける三相界面の形成量は、貴金属と固体電解質とが分布する混在領域33の面積Bの割合を示す混在領域割合B/Aと、酸素が導入される空隙34の面積Cの割合を示す空隙割合C/Aとの積であるパラメータ値によって表す。混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとは、基準電極3Bを厚み方向Tに沿って切断した切断面X1において測定する。
図3には、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとの積であるパラメータ値(−)と、抵抗値(Ω)との関係を示す。ここで、ガスセンサ素子1における基準電極3Bの形成範囲は、ガスセンサ素子1の切断面X1において、固体電解質板2を構成する固体電解質から分離して独立している固体電解質領域32と、貴金属領域31と、混在領域33と、独立空隙34Bとが形成された範囲とする。そして、基準電極3Bの切断面X1における面積Aは、貴金属領域31、固体電解質板2から分離して独立している固体電解質領域32、混在領域33及び独立空隙34Bによる全体の面積とする。混在領域33の切断面X1における面積Bは、固体電解質板2、貴金属領域31及び固体電解質領域32から独立した部分として容易に求めることができる。空隙34の切断面X1における面積Cは、切断面X1において、基準電極3B中に存在する独立空隙34Bの面積として求める。
パラメータ値は、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとの積によって表しており、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとのいずれかの変動によって変動する値となる。ただし、基準電極3Bにおいては、混在領域33と独立空隙34Bとの多くは互いに隣接して形成されており、混在領域33の面積Bと独立空隙34Bの面積Cとは大まかに比例する関係にある。そのため、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとのいずれかのみが個別に大きく変動することはほとんどなく、パラメータ値は、混在領域割合B/Aと空隙割合C/Aとの積として基準電極3Bの切断面X1における三相界面の形成量(周長)を示す値となる。
本形態のガスセンサ素子1においては、ガスセンサ素子1の酸素分解活性を高めるための三相界面の適切な形成量を、パラメータ値という尺度を用いて表す。このパラメータ値の大小は、基準電極3Bの抵抗値、ひいてはガスセンサ素子1の抵抗値を左右することが分かった。
図3に示すように、抵抗値は、固体電解質板2に設けられた一対の電極3A、3Bの間に電圧を印加した時に流れる電流を測定して求めた値として示す。つまり、図3における抵抗値は、固体電解質板2及び一対の電極3A、3Bの全体の抵抗値として示される。ただし、この抵抗値の変化は、基準電極3Bの抵抗値の変化を反映するものである。従って、固体電解質板2及び一対の電極3A、3Bの全体の抵抗値の変化は、基準電極3Bの抵抗値の変化を示す尺度として捉えることができる。
図3に示すグラフは、通電処理による通電時間及び印加電圧を異ならせて形成したガスセンサ素子1の各サンプルについて、基準電極3Bの切断面X1における混在領域割合B/A及び空隙割合C/Aを測定すると共に、抵抗値を測定して求めたものである。ここで、混在領域割合B/A及び空隙割合C/Aは、基準電極3Bをレーザー等によって切断し、この切断面X1を走査型電子顕微鏡(SEM)によって観察することにより、求めることができる。
図3における抵抗値は、パラメータ値が0.001〜0.01の範囲内にある場合には80Ω以下程度に低く維持されている。また、パラメータ値が0.001未満になる場合には、パラメータ値が小さくなるほど抵抗値が大きくなっている。この理由は、基準電極3Bにおける混在領域33及び独立空隙34Bの割合が小さくなることにより、基準電極3Bにおける三相界面の形成量が減少し、酸素イオンO2-及び電子e-の移動が減少することに起因すると考えられる。
一方、パラメータ値が0.01超過になる場合には、パラメータ値が大きくなるほど抵抗値が大きくなっている。この理由は、基準電極3Bにおける独立空隙34Bの割合が大きくなることにより、電子e-の移動が妨げられることに起因すると考えられる。
各電極3A、3Bの抵抗値は、ガスセンサ素子1において酸素イオンO2-が伝導される際の電子e-の移動のしやすさを示すものであり、ガスセンサ素子1の酸素分解活性の良し悪しを左右する尺度となる。そして、基準電極3Bにおける三相界面の形成割合は、小さ過ぎても、あるいは大き過ぎても基準電極3Bの抵抗値を大きくし、ガスセンサ素子1の酸素分解活性を悪化させることが分かる。一方、基準電極3Bにおける三相界面の形成割合を上記パラメータ値が0.001〜0.01の範囲内になるようにすることにより、基準電極3Bの抵抗値が低く抑えられ、ガスセンサ素子1の酸素分解活性を高く維持できることがわかる。
また、本形態においては、基準電極3Bにおける独立空隙34Bの割合の適切な範囲についても確認をした。
図4には、空隙割合C/A(−)と、抵抗値(Ω)との関係を示す。同図に示すグラフは、通電処理による通電時間及び印加電圧を異ならせて形成したガスセンサ素子1の各サンプルについて、基準電極3Bの切断面X1における空隙割合C/Aを測定すると共に、抵抗値を測定して求めたものである。
図4に示すように、独立空隙34Bの割合を示す空隙割合C/Aが0.3超過になる場合には、空隙割合C/Aが大きくなるほど抵抗値が大きくなっている。この理由は、図3の場合と同様に、電子e-の移動が妨げられるためであると考えられる。一方、空隙割合C/Aが0.3以下である場合には、抵抗値が80Ω以下程度に低く維持されている。この結果より、空隙割合C/Aを0.3以下にすることにより、基準電極3Bの抵抗値が低く抑えられ、ガスセンサ素子1の酸素分解活性を高く維持できることがわかる。
次に、本形態のガスセンサ素子1の製造方法について説明する。
ガスセンサ素子1を製造するにあたっては、まず、塗布工程として、固体電解質板2を形成するためのセラミックスシートの両表面に、各電極3A、3Bを形成するための電極材料のペーストを塗布する。そして、固体電解質板2のセラミックシートに、絶縁体43、拡散抵抗層44及びヒータ5の各シートを積層して、素子中間体を形成する。
次いで、焼成工程として、素子中間体の積層方向に圧力を加えた状態で、1400〜1500℃の温度に素子中間体を加熱して焼成し、固体電解質板2に各電極3A、3Bが形成された素子焼成体を得る。この素子焼成体の各電極3A、3Bにおいては、貴金属が塊状に集まった貴金属領域31と、固体電解質が塊状に集まった固体電解質領域32とが多く存在し、空隙34の存在率は低い。また、素子焼成体の各電極3A、3Bにおいては、混在領域33はほとんど存在していない。
最後に、通電工程として、素子焼成体における、固体電解質板2を間に挟む一対の電極3A、3Bの間に通電を行う。通電工程においては、素子焼成体を800〜900℃の温度環境下に配置すると共に、一対の電極3A、3B間に1.5〜2.5Vの電圧を所定時間(例えば、5〜300秒)印加する。
このとき、基準電極3Bの貴金属領域31における貴金属は、基準電極3Bの固体電解質領域32における固体電解質の内部及び固体電解質板2における固体電解質の内部へ浸透していくと考えられる。そして、通電工程によって、貴金属と固体電解質とがまだらに分布する混在領域33が形成され、貴金属の移動に伴って、貴金属が移動前に存在した付近に空隙34が形成されると考えられる。また、測定電極3Aにおいても、基準電極3Bと同様にして混在領域33及び空隙34が形成されると考えられる。
通電工程において、素子焼成体を焼成温度よりも低い800〜900℃の温度環境下に配置することにより、固体電解質板2における固体電解質中の酸素の流出(ブラックニング)を抑制しつつ貴金属領域31における貴金属の移動を促進することができる。また、一対の電極3A、3B間に、ガスセンサ素子1の使用時(測定時)に一対の電極3A、3Bに印加する電圧(例えば、0.1〜1.0V)よりも高い、1.5〜2.5Vの電圧を所定時間印加することによっても、固体電解質板2のブラックニングを抑制しつつ貴金属領域31における貴金属の移動を促進することができる。
通常時の温度環境下が800℃未満である場合、又は通電の印加電圧が1.5V未満である場合には、通電時間を長くする必要が生じるだけでなく、十分な混在領域33及び空隙34が得られないおそれがある。また、通常時の温度環境下が900℃超過である場合、又は通電の印加電圧が2.5V超過である場合には、各電極3A、3Bにおける貴金属の移動が促進されるだけでなく、固体電解質板2のブラックニングも促進され、固体電解質板2が劣化するおそれがある。
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の実施形態を構成することが可能である。例えば、上記パラメータ値が0.001〜0.01の範囲内にある電極は測定電極3Aとすることもできる。この場合、測定電極3A中の貴金属は、白金の他に金を含有していてもよい。また、ガスセンサ素子1をNOxセンサに採用する場合には、測定電極3A中の貴金属は、白金の他にロジウム等を含有していてもよい。
1 ガスセンサ素子
2 固体電解質板
3A、3B 電極
31 貴金属領域
32 固体電解質領域
33 混在領域
34 空隙

Claims (3)

  1. 酸素イオン伝導性を有する固体電解質板(2)と、該固体電解質板の表面に設けられた電極(3A、3B)とを備え、
    該電極は、白金を含む貴金属と、上記固体電解質板を構成するセラミックス材料と同種のセラミックス材料からなる固体電解質とを含有しており、
    上記電極を厚み方向(T)に沿って切断した切断面(X1)においては、上記貴金属が塊状に集まった貴金属領域(31)と、上記固体電解質が塊状に集まった固体電解質領域(32)と、上記貴金属と上記固体電解質とが分布する混在領域(33)と、空隙(34)とが存在しており、
    上記電極の上記切断面における面積Aに対する、上記混在領域の上記切断面における面積Bの割合を示す混在領域割合B/Aと、上記電極の上記切断面における面積Aに対する、上記空隙の上記切断面における面積Cの割合を示す空隙割合C/Aとの積であるパラメータ値が、0.001〜0.01の範囲内にある、ガスセンサ素子(1)。
  2. 上記空隙割合C/Aは、0.3以下である、請求項1に記載のガスセンサ素子。
  3. 酸素イオン伝導性を有する固体電解質板(2)と、該固体電解質板の両表面に設けられた一対の電極(3A、3B)とを備えるガスセンサ素子(1)を製造する方法において、
    上記固体電解質板を形成するためのセラミックスシートの両表面に、上記一対の電極を形成するためのペーストを塗布して、素子中間体を形成する塗布工程と、
    上記素子中間体を焼成して素子焼成体を形成する焼成工程と、
    上記素子焼成体における上記一対の電極間に通電する通電工程と、を含み、
    上記ペーストは、白金を含む貴金属と、上記固体電解質板を構成するセラミックス材料と同種のセラミックス材料からなる固体電解質とを含有しており、
    上記通電工程においては、上記素子焼成体を800〜900℃の温度環境下に配置すると共に、該素子焼成体における上記一対の電極間に1.5〜2.5Vの電圧を印加することにより、該一対の電極を厚み方向(T)に沿って切断した切断面(X1)において、上記貴金属が塊状に集まった貴金属層(31)と、上記固体電解質が塊状に集まった固体電解質層(32)と、上記貴金属と上記固体電解質とが分布する混在領域(33)と、空隙(34)とを存在させ、
    上記一対の電極のうちのいずれかである特定電極の上記切断面における面積Aに対する、上記特定電極の上記混在領域の上記切断面における面積Bの割合を示す混在領域割合B/Aと、上記特定電極の上記切断面における面積Aに対する、上記特定電極の上記空隙の上記切断面における面積Cの割合を示す空隙割合C/Aとの積であるパラメータ値を、0.001〜0.01の範囲内とする、ガスセンサ素子の製造方法。
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