JP2017149629A - サファイア基板及び窒化物半導体基板 - Google Patents
サファイア基板及び窒化物半導体基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017149629A JP2017149629A JP2016036145A JP2016036145A JP2017149629A JP 2017149629 A JP2017149629 A JP 2017149629A JP 2016036145 A JP2016036145 A JP 2016036145A JP 2016036145 A JP2016036145 A JP 2016036145A JP 2017149629 A JP2017149629 A JP 2017149629A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitride semiconductor
- semiconductor layer
- concave structure
- sapphire substrate
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 216
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 title claims abstract description 214
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 155
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 104
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 title claims abstract description 104
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 61
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 238000005001 rutherford backscattering spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 238000005136 cathodoluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 210000000038 chest Anatomy 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】サファイア基板10の主面1に複数の凹構造2を設け、凹構造2の開口端の直径を2nm以上60nm以下とし、凹構造2の分布密度を、1×109cm−2以上1×1011cm−2以下とする。これにより、主面1上に形成される窒化物半導体層の、初期の段階で形成される部分に転位が集中し、窒化物半導体層の結晶性を向上させることができる。
【選択図】図1
Description
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、窒化物半導体層の形成に適したサファイア基板、これを用いた窒化物半導体基板、紫外線発光素子及び装置を提供することを目的としている。
本発明の他の態様に係る窒化物半導体基板は、上記態様のサファイア基板と、当該サファイア基板の主面上に形成され、Al、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含む第1の窒化物半導体層と、前記第1の窒化物半導体層上に形成され、Al、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含み、前記第1の窒化物半導体層よりも転位密度が小さい第2の窒化物半導体層と、を備えることを特徴としている。
さらに、本発明の他の態様に係る装置は、上記態様の紫外線発光素子を備えることを特徴としている。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
本発明の一実施形態に係るサファイア基板は、主面に複数の凹構造を備え、凹構造の開口端の直径が2nm以上60nm以下であり、凹構造の分布密度が、1×109cm−2以上1×1011cm−2以下である基板である。なお、凹構造2の形状は複数の凹構造間で同一であってもよく、異なる形状であってもよい。例えば、凹構造2の開口端の直径は、複数の凹構造間で均一であってもよく、また、開口端の直径が2nm以上60nm以下であれば、凹構造間で開口端の直径が異なっていてもよい。
凹構造2の有無、凹構造2の開口端の直径については、サファイア基板10の主面1を走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)又は原子間力顕微鏡(AFM)等で観察することによって、観察又は測定することができる。凹構造2の分布密度は、サファイア基板10の主面1の100μm×100μmの領域に対して、走査型電子顕微鏡(SEM)又は透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて取得された画像を画像解析することで測定することができる。
また、凹構造2は底面を有し、凹構造2の開口端の直径に対する底面の直径の比率(底面の直径/開口端の直径)が10%以下であることが好ましい。これによりサファイア基板10の主面1上に窒化物半導体層を形成する際に、初期の段階で形成される窒化物半導体層部分、つまり、凹構造2の内部又はその近傍に転位が集中し、その結果、その後に形成される窒化物半導体層部分の結晶性が向上する。ここで凹構造2の底面とは、凹構造2の開口端から最も深い位置にあり、サファイア基板10の主面1に対して平行な面を意味する。また、底面の直径とは、凹構造2の開口端の直径と同じく、底面の内側に引くことが可能な直線の最大長さで定義される。凹構造2の開口端から最も深い位置にサファイア基板10の主面1に対して平行な面が存在しない場合、つまり例えば凹構造2の先端が尖っている場合や、凹構造2の底面がサファイア基板10の主面1に対して傾斜している場合等には、底面の直径は零とする。
これによりサファイア基板10の主面1上に窒化物半導体層を形成する際に、転位が、サファイア基板10の主面1に対して水平な方向に延び易くなり、窒化物半導体層の結晶性が向上する。
また、サファイア基板10の主面1はステップ面及びテラス面を有することが好ましい。ここで、主面1が、互いに略平行な面が階段状に連なる形状の場合に、この略平行な面をステップ面と定義し、隣り合うステップ面を繋ぐ面をテラス面と定義する。これにより、例えばサファイア基板10の主面1上にアルミニウムAlを含む窒化物半導体層(例えばAlN)を形成する際に、Al原子がステップ端に凝集しやすくなり、その結果、窒化物半導体層に含まれる転位の抑制が可能となる。
本発明の一実施形態に係る窒化物半導体基板は、本発明の一実施形態に係るサファイア基板と、サファイア基板の主面上に形成され、アルミニウムAl、ガリウムGa及びインジウムInのうちの少なくとも1つを含む第1の窒化物半導体層と、第1の窒化物半導体層上に形成され、Al、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含み、第1の窒化物半導体層よりも転位密度が小さい第2の窒化物半導体層と、を備えるものである。
図2に、本発明の一実施形態に係る窒化物半導体基板の断面の一例を示す。図2に示すように、本発明の一実施形態に係る窒化物半導体基板100は、図1に示す凹構造2を備えたサファイア基板10を備えており、このサファイア基板10の上に、第1の窒化物半導体層20と第2の窒化物半導体層30とがこの順に積層されている。図1に示すサファイア基板10を用いることで、初期の段階で形成される窒化物半導体層部分、つまり、凹構造2の内部又はその近傍に転位が集中し、その結果、サファイア基板10の主面1上に形成された第1の窒化物半導体層20の上に、第1の窒化物半導体層20よりも転位密度の小さい第2の窒化物半導体層30を形成することができる。
ここで、第1の窒化物半導体層20及び第2の窒化物半導体層30がAl、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含むことの確認方法としては、蛍光X線元素分析法(XRF)、ラザフォード後方散乱分光(RBS)、二次イオン質量測定(SIMS)及びX線光電子分光(XPS)により確認することが可能である。また第1の窒化物半導体層20及び第2の窒化物半導体層30の転位密度は、カソードルミネッセンス法(CL)又は平面透過型電子顕微鏡(TEM)での測定や、表面に溶融KOHエッチングを実施した後に走査型電子顕微鏡(SEM)又は原子間力顕微鏡(AFM)で測定すること等により測定することができる。
また、第2の窒化物半導体層30は、サファイア基板10の主面1に対して75°以上115°以下の角度を有する転位を1×107cm−2以上1×109cm−2以下含むことが好ましい。これにより最表面まで到達する欠陥数を低減することができ、その結果、サファイア基板10上に作製されるデバイスのデバイス特性を向上させることができる。
また、第2の窒化物半導体層30の表面、つまり、第1の窒化物半導体層20とは逆側の面はステップ面を有し、ステップ面のステップ高さが第2の窒化物半導体層30の格子定数の40%以上60%以下の値であることが好ましい。第2の窒化物半導体層30の表面がステップ面を有することで、その上にさらに別の層を形成する際に、この別の層の表面の平坦性を向上させることができる。
また、第2の窒化物半導体層30の表面、つまり第1の窒化物半導体層20とは逆側の面は、クラックを有しないことが好ましい。これにより、サファイア基板10の上に、第1の窒化物半導体層20及び第2の窒化物半導体層30がこの順に積層されてなる窒化物半導体基板を用いたデバイスの特性向上を図ることができる。
本発明の一実施形態に係る窒化物半導体基板の製造方法の一例を、以下に示す。
まず、その主面が略平坦なサファイア基板上に有機金属堆積法(MOCVD法)を用いて0.1nm以上2nm以下の厚さを有する凹構造2形成用の膜を成膜する。具体的には、凹構造2形成用の膜として、例えばAlN、GaN及びInNのうちの少なくともいずれか1つ、又はこれらの混晶を500℃以上900℃以下の範囲で成膜する(第1の工程)。
この凹構造2を有するサファイア基板10の主面1側の面に、サファイア基板10の表面温度を800℃以上900℃以下に保った状態で、MOCVD法により、初期層を形成する。具体的には、初期層としてアルミニウムAl、ガリウムGa、インジウムInのうちの少なくとも1つを含む窒化物半導体層を形成する。この窒化物半導体層の膜厚としては、例えば、窒化物半導体層としてAlNを形成する場合には、0.5nm以上10nm以下が好ましい(第3の工程)。
次に、第4の工程で形成された第1の窒化物半導体層20の上に、MOCVD法を用いて、Al、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含む第2の窒化物半導体層30を形成する。第2の窒化物半導体層30の膜厚は1500nm以上5000nm以下とすることが好ましい。第2の窒化物半導体層30を形成する際の第1の窒化物半導体層20の表面温度は、一例として、1000℃以上1150℃以下の範囲である(第5の工程)。これによって、図2に示す凹構造2を備えたサファイア基板10を含む窒化物半導体基板100を得ることができる。
なお、ここでは、第4の工程で第1の窒化物半導体層20を形成する前に、第3の工程で、Al、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含む窒化物半導体層を初期層として形成しているが、この工程は必ずしも必須の工程ではない。
上記の第1から第5の工程を実行することによって、サファイア基板10上に、第1の窒化物半導体層20よりも小さい転位密度を有する第2の窒化物半導体層30が形成された窒化物半導体基板を形成することができる。
本発明の一実施形態に係る紫外線発光素子は、本発明の一実施形態に係る窒化物半導体基板を備える。本発明の一実施形態に係る紫外線発光素子において、第2の窒化物半導体層30はAlN層であり、第2の窒化物半導体層30上に形成された窒化物半導体積層部を備える。この窒化物半導体積層部は、n型窒化物半導体層と、発光層と、p型窒化物半導体層と、がこの順に形成されてなる。なお、第2の窒化物半導体層30上に、n型窒化物半導体層、発光層及びp型窒化物半導体層をこの順に形成してもよく、または、第2の窒化物半導体層30上に、p型窒化物半導体層、発光層及びn型窒化物半導体層をこの順に形成してもよい。
本発明の一実施形態に係る紫外線発光素子は、各種の装置に適用することができる。
本発明の一実施形態に係る紫外線発光素子は、紫外線ランプが用いられている既存の全ての装置に適用することができ、用いられている紫外線ランプと置き換えることができる。特に、波長300nm以下の深紫外線を用いている装置に適用することができる。
本発明の一実施形態に係る紫外線発光素子は、例えば、医療及びライフサイエンス分野、環境分野、産業及び工業分野、生活及び家電分野、農業分野、その他分野の装置に適用することができる。
液体殺菌装置の例としては、冷蔵庫内の自動製氷装置・製氷皿及び貯氷容器・製氷機用の給水タンク、冷凍庫、製氷機、加湿器、除湿器、ウォーターサーバの冷水タンク・温水タンク・流路配管、据置型浄水器、携帯型浄水器、給水器、給湯器、排水処理装置、ディスポーザ、便器の排水トラップ、洗濯機、透析用水殺菌モジュール、腹膜透析のコネクタ殺菌器、災害用貯水システム等が挙げられるがこの限りではない。
固体殺菌装置(表面殺菌装置を含む)の例としては、真空パック器、ベルトコンベヤ、医科用・歯科用・床屋用・美容院用のハンドツール殺菌装置、歯ブラシ、歯ブラシ入れ、箸箱、化粧ポーチ、排水溝のふた、便器の局部洗浄器、便器フタ等が挙げられるがこの限りではない。
[実施例1]
主面が略平坦なサファイア基板上に有機金属堆積法(MOCVD法)を用いて、AlN層(凹構造2形成用の層)を0.3nm成膜した。このときのサファイア基板の表面温度は800℃とした。
次に、主面上にAlN層が0.3nm成膜されたサファイア基板を1100℃で10分間アニールを行い、主面に開口端の直径が2nm以上60nm以下の凹構造を形成した。これにより、凹構造2が形成されたサファイア基板10が形成された。
このようにして得られたサファイア基板10上に、サファイア基板10の表面温度を850℃に保った状態で、AlN層(初期層)を3nm、MOCVD法を用いて成膜した。
第1の窒化物半導体層20の上に、サファイア基板10の表面温度を1100℃に保った状態で、AlN層(第2の窒化物半導体層30)を3500nm、MOCVD法を用いて成膜した。
上記のMOCVD法による成膜の際には、Al原料としてトリメチルアルミニウムTMAl、N原料としてアンモニアNH3を用いた。
上記の実施例1と同様の手順を用い、実施例2〜15として、サファイア基板10の主面1上に、第1及び第2の窒化物半導体層20及び30を積層した。各実施例2〜15において、実施例1との変更部分は、以下の通りである。これ以外の条件については、実施例1と同一である。
凹構造2形成用の層の膜厚を4nmに変更した。
[実施例3]
凹構造2形成用の層の膜厚を10nmに変更した。
[実施例4]
凹構造2形成のためのアニール時間を20分に変更した。また第1の窒化物半導体層20の膜厚を150nmに変更した。
[実施例5]
凹構造2形成のためのアニール時間を5分に変更した。また第1の窒化物半導体層20の膜厚を200nmに変更した。
第1の窒化物半導体層20の膜厚を50nmに変更した。
[実施例7]
第2の窒化物半導体層30の膜厚を1500nmに変更した。
[実施例8]
第2の窒化物半導体層30の膜厚を5000nmに変更した。
[実施例9]
第2の窒化物半導体層30の成膜温度を1000℃に変更した。
[実施例10]
第2の窒化物半導体層30の成膜温度を1120℃に変更した。
第1の窒化物半導体層20の成膜温度を1350℃に変更した。
[実施例12]
凹構造2形成用の層の材料をGaNに変更した。また、凹構造2形成用の層の成膜時のサファイア基板の表面温度を700℃に変更した。
[実施例13]
凹構造2形成用の層の材料をInNに変更した。また、凹構造2形成用の層の成膜時のサファイア基板の表面温度を600℃に変更した。
[実施例14]
凹構造2形成用の層の材料をAlGaNに変更した。また、凹構造2形成用の層の成膜時のサファイア基板の表面温度を900℃に変更した。
[実施例15]
凹構造2形成用の層の材料をInGaNに変更した。
さらに、第2の窒化物半導体層30の結晶性を、AlNの(0002)面及び(10−12)面に対してXRD法により測定した。
得られた結果を表1に示す。
主面が略平坦なサファイア基板を用意した。
主面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察したところ、ほぼ平坦な状態であり、開口端の直径が2nm以上60nm以下の凹構造は形成されていなかった。
このサファイア基板上に、基板表面の温度を850℃に保った状態で、AlN層を膜厚が0.5nm以上10nm以下となるように、MOCVD法を用いて成膜した。
この上に、基板表面の温度を1250℃に保った状態で、AlN層(第1の窒化物半導体層20)を1250nm、MOCVD法を用いて成膜した。
この上に、基板表面の温度を1100℃に保った状態で、AlN層(第2の窒化物半導体層)を3500nm、MOCVD法を用いて成膜した。
比較例1において、MOCVD法による成膜の際には、Al原料としてトリメチルアルミニウムTMAl、N原料としてアンモニアNH3を用いた。
主面が略平坦なサファイア基板上に有機金属堆積法(MOCVD法)を用いて、AlN層(凹構造形成用の層)を30nm成膜した。このときのサファイア基板10の表面温度は800℃とした。
次に、主面上にAlN層が0.1nm成膜されたサファイア基板を1100℃で10分間アニールを行った。主面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察したところ、表面の直径が80nm以上200nm以下の凹構造2が、2×1010cm−2の分布密度で形成されていた。また、2nm以上60nm以下の凹構造2は、4×107cm−2以下の分布密度であった。
この上に、基板表面の温度を1250℃に保った状態で、AlN層(第1の窒化物半導体層20)を100nm、MOCVD法を用いて成膜した。
この上に、基板表面の温度を1100℃に保った状態で、AlN層(第2の窒化物半導体層30)を3500nm、MOCVD法を用いて成膜した。
比較例2におけるMOCVD法による成膜の際には、Al原料としてトリメチルアルミニウムTMA)、N原料としてアンモニアNH3を用いた。
主面が略平坦なサファイア基板上に有機金属堆積法(MOCVD法)を用いて、AlN層(凹構造形成用の層)を0.3nm成膜した。このときのサファイア基板の表面温度は800℃とした。
次に、主面上にAlN層が0.3nm成膜されたサファイア基板を1000℃で10分間アニールを行った。主面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察したところ、ほぼ平坦な状態のままであった。
この上に、基板表面の温度を1250℃に保った状態で、AlN層(第1の窒化物半導体層20)を100nm、MOCVD法を用いて成膜した。
この上に、基板表面の温度を1100℃に保った状態で、AlN層(第2の窒化物半導体層30)を3500nm、MOCVD法を用いて成膜した。
比較例3において、MOCVD法による成膜の際には、Al原料としてトリメチルアルミニウムTMAl、N原料としてアンモニアNH3を用いた。
主面が略平坦なサファイア基板上に有機金属堆積法(MOCVD法)を用いて、AlN層(凹構造形成用の層)を0.3nm成膜した。このときのサファイア基板の表面温度は700℃とした。
次に、主面上にAlN層が0.3nm成膜されたサファイア基板を1100℃で40分間アニールを行った。主面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察したところ、開口端の直径が70nm以上130nm以下の凹構造2が、4×1010cm−2の分布密度で形成されていた。また、2nm以上60nm以下の凹構造は、2×107cm−2以下の分布密度であった。
この上に、基板表面の温度を1250℃に保った状態で、AlN層(第1の窒化物半導体層20)を100nm、MOCVD法を用いて成膜した。
この上に、基板表面の温度を1100℃に保った状態で、AlN層(第2の窒化物半導体層30)を3500nm、MOCVD法を用いて成膜した。
比較例4においてMOCVD法による成膜の際には、Al原料としてトリメチルアルミニウムTMAl、N原料としてアンモニアNH3を用いた。
主面が略平坦なサファイア基板上に有機金属堆積法(MOCVD法)を用いて、AlN層(凹構造形成用の層)を1nm成膜した。このときのサファイア基板10の表面温度は750℃とした。
次に、主面上にAlN層が1nm成膜されたサファイア基板を1300℃で10分間アニールを行った。主面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察したところ、表面の直径が2nm以上60nm以下の凹構造2が、3×1012cm−2の分布密度で形成されていた。
この上に、基板表面の温度を1250℃に保った状態で、AlN層(第1の窒化物半導体層20)を100nm、MOCVD法を用いて成膜した。
この上に、基板表面の温度を1100℃に保った状態で、AlN層(第2の窒化物半導体層30)を3500nm、MOCVD法を用いて成膜した。
比較例5においてMOCVD法による成膜の際には、Al原料としてトリメチルアルミニウムTMAl、N原料としてアンモニアNH3を用いた。
主面が略平坦なサファイア基板上に有機金属堆積法(MOCVD法)を用いて、AlN層(凹構造形成用の層)を0.3nm成膜した。このときのサファイア基板10の表面温度は800℃とした。
次に、主面上にAlN層が0.3nm成膜されたサファイア基板を1050℃で15分間アニールを行った。主面を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察したところ、表面の直径が2nm以上60nm以下の凹構造2が、2×108cm−2の分布密度で形成されていた。
この上に、基板表面の温度を1250℃に保った状態で、AlN層(第1の窒化物半導体層20)を100nm、MOCVD法を用いて成膜した。
この上に、基板表面の温度を1100℃に保った状態で、AlN層(第2の窒化物半導体層30)を3500nm、MOCVD法を用いて成膜した。
比較例6においてMOCVD法による成膜の際には、Al原料としてトリメチルアルミニウムTMAl、N原料としてアンモニアNH3を用いた。
得られた結果を表1に示す。
また、表1に示すように、開口端の直径が2nm以上60nm以下の凹構造2を、1×109cm−2以上1×1011cm−2以下の分布密度の範囲内で主面1に有するサファイア基板10を用いることで、その上に形成する第2の窒化物半導体層30の結晶性を向上させることが可能となることが理解される。
2 凹構造
10 サファイア基板
20 第1の窒化物半導体層
30 第2の窒化物半導体層
100 窒化物半導体基板
Claims (17)
- 主面に複数の凹構造を備え、
前記凹構造の開口端の直径が2nm以上60nm以下であり、前記凹構造の分布密度が、1×109cm−2以上1×1011cm−2以下であるサファイア基板。 - 前記凹構造の深さが5nm以上50nm以下である請求項1に記載のサファイア基板。
- 前記凹構造の体積が15.5nm3以上141500nm3以下である請求項1又は請求項2に記載のサファイア基板。
- 前記凹構造は底面を有し、
前記凹構造の開口端の直径に対する前記底面の直径の比率が10%以下である請求項1から請求項3の何れか一項に記載のサファイア基板。 - 前記凹構造は側面を有し、
前記凹構造の縦断面において、
前記主面に対する前記側面の傾斜角が30°以上55°以下である請求項1から請求項4の何れか一項に記載のサファイア基板。 - 前記主面はステップ面及びテラス面を有する請求項1から請求項5の何れか一項に記載のサファイア基板。
- 請求項1から請求項6の何れか一項に記載のサファイア基板と、
当該サファイア基板の主面上に形成され、Al、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含む第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に形成され、Al、Ga及びInのうちの少なくとも1つを含み、前記第1の窒化物半導体層よりも転位密度が小さい第2の窒化物半導体層と、を備える窒化物半導体基板。 - 前記第1の窒化物半導体層の膜厚は50nm以上200nm以下である請求項7に記載の窒化物半導体基板。
- 前記第2の窒化物半導体層の膜厚は1500nm以上5000nm以下である請求項7又は請求項8に記載の窒化物半導体基板。
- 前記第2の窒化物半導体層に含まれる転位の数は前記第1の窒化物半導体層に含まれる転位の数の1/10以下である請求項7から請求項9の何れか一項に記載の窒化物半導体基板。
- 前記第1の窒化物半導体層は、前記主面に対して75°以上115°以下の角度を有する転位を、1×109cm−2以上1×1011cm−2以下含む請求項7から請求項10の何れか一項に記載の窒化物半導体基板。
- 前記第2の窒化物半導体層は、前記主面に対して75°以上115°以下の角度を有する転位を、1×107cm−2以上1×109cm−2以下含む請求項7から請求項11の何れか一項に記載の窒化物半導体基板。
- 前記第1の窒化物半導体層及び前記第2の窒化物半導体層はAlNを含む請求項7から請求項12の何れか一項に記載の窒化物半導体基板。
- 前記第2の窒化物半導体層の、前記第1の窒化物半導体層とは逆側の面はステップ面を有し、
当該ステップ面のステップ高さが前記第2の窒化物半導体層の格子定数の40%以上60%以下の値である請求項7から請求項13の何れか一項に記載の窒化物半導体基板。 - 前記第2の窒化物半導体層の、前記第1の窒化物半導体層とは逆側の面はクラックを有さない請求項7から請求項14の何れか一項に記載の窒化物半導体基板。
- 請求項7から請求項15の何れか一項に記載の窒化物半導体基板を備える紫外線発光素子であって、
前記窒化物半導体基板の前記第2の窒化物半導体層はAlNを含み、
前記第2の窒化物半導体層上に形成された窒化物半導体積層部、を備え、
前記窒化物半導体積層部は、
n型窒化物半導体層と、
発光層と、
p型窒化物半導体層と、がこの順に積層されてなる紫外線発光素子。 - 請求項16に記載の紫外線発光素子を備える装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016036145A JP6699063B2 (ja) | 2016-02-26 | 2016-02-26 | サファイア基板及び窒化物半導体基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016036145A JP6699063B2 (ja) | 2016-02-26 | 2016-02-26 | サファイア基板及び窒化物半導体基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017149629A true JP2017149629A (ja) | 2017-08-31 |
JP6699063B2 JP6699063B2 (ja) | 2020-05-27 |
Family
ID=59740442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016036145A Active JP6699063B2 (ja) | 2016-02-26 | 2016-02-26 | サファイア基板及び窒化物半導体基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6699063B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021772A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-21 | Sony Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2002164295A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-06-07 | Otts:Kk | 窒化ガリウム系化合物半導体の成長方法 |
WO2009011407A1 (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-22 | Ngk Insulators, Ltd. | Iii族窒化物単結晶の製造方法 |
JP2012031047A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-02-16 | Ritsumeikan | 結晶成長方法および半導体素子 |
JP2013087012A (ja) * | 2011-10-17 | 2013-05-13 | Hitachi Cable Ltd | 窒化物半導体成長用基板及びその製造方法、窒化物半導体エピタキシャル基板、並びに窒化物半導体素子 |
-
2016
- 2016-02-26 JP JP2016036145A patent/JP6699063B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021772A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-21 | Sony Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2002164295A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-06-07 | Otts:Kk | 窒化ガリウム系化合物半導体の成長方法 |
WO2009011407A1 (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-22 | Ngk Insulators, Ltd. | Iii族窒化物単結晶の製造方法 |
JP2012031047A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-02-16 | Ritsumeikan | 結晶成長方法および半導体素子 |
JP2013087012A (ja) * | 2011-10-17 | 2013-05-13 | Hitachi Cable Ltd | 窒化物半導体成長用基板及びその製造方法、窒化物半導体エピタキシャル基板、並びに窒化物半導体素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6699063B2 (ja) | 2020-05-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Chen et al. | High‐brightness blue light‐emitting diodes enabled by a directly grown graphene buffer layer | |
KR20090038348A (ko) | 반도체 기판 상에 3족 질화물 반도체층을 형성하는 방법 | |
JP6819969B2 (ja) | 窒化物半導体基板 | |
JP2005072561A (ja) | エピタキシャル基板、当該エピタキシャル基板の製造方法、当該エピタキシャル基板の反り抑制方法、および当該エピタキシャル基板を用いた半導体積層構造 | |
Wang et al. | Growth evolution of Si x N y on the GaN underlayer and its effects on GaN-on-Si (111) heteroepitaxial quality | |
Demir et al. | AlGaN/AlN MOVPE heteroepitaxy: pulsed co-doping SiH4 and TMIn | |
JP6699063B2 (ja) | サファイア基板及び窒化物半導体基板 | |
KR20150052246A (ko) | 에피택시얼 웨이퍼 및 그 제조 방법 | |
Tang et al. | Coalescence overgrowth of GaN nano-columns with metalorganic chemical vapor deposition | |
Matsumoto et al. | Reduction of dislocations in GaN on silicon substrate using In situ etching | |
JP6998146B2 (ja) | 紫外線発光素子及び紫外線照射モジュール | |
JP2006240895A (ja) | アルミニウム系窒化物結晶の製造方法および積層基板 | |
JP6813308B2 (ja) | 紫外線発光素子及び紫外線照射モジュール | |
Hainey Jr et al. | Heteroepitaxy of Highly Oriented GaN Films on Non‐Single Crystal Substrates Using a Si (111) Template Layer Formed by Aluminum‐Induced Crystallization | |
JP2021034509A (ja) | 紫外線発光素子 | |
JP7195815B2 (ja) | 紫外線発光素子 | |
Fang et al. | Crack‐free GaN grown by using maskless epitaxial lateral overgrowth on Si substrate with thin SiC intermediate layer | |
WO2023163230A1 (ja) | レーザダイオード | |
KR101919353B1 (ko) | 질화물 반도체 나노 막대 장치 및 그 제조 방법 | |
JP7141803B2 (ja) | 窒化物半導体素子 | |
Lee et al. | GaN growth on SiC (0001) substrates by metal-organic chemical vapor deposition | |
JP2023141196A (ja) | 発光素子の製造方法および発光素子 | |
Ahn et al. | Performance Enhancement of GaN-Based Light-Emitting Diodes with Magnesium Nitride Inter-Layers | |
JP2022149980A (ja) | レーザダイオードの製造方法、レーザダイオード | |
JP2004111865A (ja) | 半導体基板及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200131 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200410 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6699063 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |