JP2017149142A - 成型用積層フィルム及びそれを用いた成型品 - Google Patents

Abstract

【課題】大面積においても低彩度を実現し、斜めから視認した場合と成型した後も外観及び色調変化が小さく、層間密着性が高く加工性の優れた成型用積層フィルムの提供。【解決手段】下記（１）〜（３）の全てを満たす、成型用積層フィルム。（１）結晶性の熱可塑性樹脂Ａからなる層（以下、Ａ層という）と非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂからなる層（以下、Ｂ層という）を有し、前記Ａ層とＢ層が厚み方向に交互に合計２５０層以上積層され、両側の最表層の厚みと内層の厚みが特定の範囲にある。（２）特定の波長帯域の平均反射率およびが平均反射率の差が特定の範囲にある。（３）層厚み１μｍ未満である薄膜層において、Ａ層とＢ層のそれぞれの層において隣り合う層の厚みの差が５０ｎｍ以下の範囲で連続的に単調増加もしくは単調減少している群である傾斜構造を２段以上有する。【選択図】図４

Description

本発明は、成型用積層フィルム及びその用途に関する。

情報通信機器、家電製品、自動車装飾に意匠性を高めるため、印刷や塗装、蒸着などで加飾したフィルムを用いる手法が知られており、中でも金属調や高光沢調は高級感を付与することができる。金属調を付与する代表的な手法としてメッキする手法が知られているが、メッキは重金属による環境負荷が大きく、代替の手法が求められている。

成型が可能で金属調を付与する手法として、金属蒸着した成型フィルムを用いる手法が知られており、金属蒸着の課題である基材フィルムの平滑性を実現することで光の反射を抑制し、外観の優れた金属光沢調を達成する成型用積層フィルムが提案されている（特許文献１参照）。また、光を反射させる手法として屈折率が異なる２種以上の材料を光の波長レベルの層厚みで交互に積層させることで発現する光の干渉現象を利用して、特定の波長を選択的に反射する光干渉多層膜が知られている。このような中で玉虫色の金属光沢を有しながら、成型性に優れた多層積層フィルムが提案されている（特許文献２参照）。

特開２０１２−９１３６７号公報 特開２００７−２６８７０９号公報

特許文献１記載の成型用積層フィルムは、特定の粒子構成を有する塗布層が積層されており、面感に優れた鏡面状の加飾層を形成することに適している。しかしながら、蒸着フィルムは成型においてクラックが生じることがあることに加え、大面積では欠点により加工収率が大きく低下し、コスト高が問題となることがある。加えて蒸着は大面積では色調むらが発生しやすく、高意匠性が達成できないという課題があった。

特許文献２の多層積層フィルムは金属を含まず玉虫色の金属光沢を有し、成型性に優れ、経時安定性、耐溶剤性、寸法安定性に優れている。しかしながら、可視光の一部のみの波長を反射しており、斜めから視認した場合や成型した際に反射する波長が変化するため色調が変化し、高意匠性を実現する色調の安定性、及び成型加工時の衝撃による多層積層部でのデラミ性に関して課題があった。

そこで本発明は上記した従来技術の問題点を解決し、大面積においても低彩度を実現し、斜めから視認した場合と成型した後も外観及び色調変化が小さく、成型加工時においてもデラミが発生しにくい成型用積層フィルムを提供することにある。

本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、
［Ｉ］下記（１）〜（３）の全てを満たすことを特徴とする、成型用積層フィルム。
（１）結晶性の熱可塑性樹脂Ａからなる層（以下、Ａ層という）と非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂからなる層（以下、Ｂ層という）を有し、前記Ａ層とＢ層が厚み方向に交互に合計２５０層以上積層され、両側の最表層の厚みが１μｍ以上２０μｍ以下であり、厚みが３μｍ以上６μｍ以下である層を内層に１層以上有する積層フィルムであること。
（２）波長帯域４００〜７００ｎｍにおける平均反射率が３０％以上７５％以下であり、波長４００ｎｍ〜９００ｎｍにおいて４００ｎｍから５０ｎｍずつの間隔で区分された帯域（４００〜４５０ｎｍ、４５０〜５００ｎｍ、・・・８５０〜９００ｎｍ）の平均反射率が、いずれの帯域においても隣接する帯域との平均反射率の差が１０％以下であること。
（３）層厚み１μｍ未満である薄膜層において、Ａ層とＢ層のそれぞれの層において隣り合う層の厚みの差が５０ｎｍ以下の範囲で連続的に単調増加もしくは単調減少している傾斜構造を２段以上有すること。
［ＩＩ］下記式でＢ層の各層積層むらＭ_ｎを求めたとき、全ての層において求めたＭ_ｎ−２、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋２の平均値の絶対値が１０ｎｍ以下、Ｒ^２値が０．９０以上１．００以下である請求項１に記載の成型用積層フィルム。

Ｍ_ｎ＝Ｘ_ｎ−Ｙ_ｎ
０．９０≦Ｒ^２≦１．００
Ｘ_ｎ：Ｂ層の層番号ｎの実測厚み（ｎｍ）
Ｙ_ｎ：傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線から算出されるＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｒ^２：傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線相関係数の２乗値
［ＩＩＩ］以下の方法によりＢ層の各層の厚みばらつき比率Ｎｎを求めたとき、全Ｂ層のＮｎの平均値（ΣＮｎ／ｎ）が１０％以下である請求項１又は２に記載の成型用積層フィルム。
［Ｂ層の各層の厚みばらつき比率Ｎｎの求め方］
成型用積層フィルムを１ｍ×１ｍの正方形状にカットする。カットした正方形状の成型用積層フィルムの４角にてＢ層の各層厚みを測定する。正方形の対角線上に位置する角をｐ、ｑ、およびｒ、ｓとしたとき、下記式により、対角線上の位置の層厚み差を、各層の厚みばらつき比率Ｎｎとして求める。

Ｎｎ＝｜［（Ｐｎ―Ｑｎ）／｛（Ｐｎ＋Ｑｎ）／２｝｜＋｜（Ｒｎ―Ｓｎ）／｛（Ｒｎ＋Ｓｎ）／２｝］｜／２×１００
Ｐｎ＝ｐ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｑｎ＝ｑ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｒｎ＝ｒ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｓｎ＝ｓ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
［ＩＶ］原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定されるＡ層とＢ層の層界面の平均厚みが８ｎｍ以上である請求項１〜３のいずれかに記載の成型用積層フィルム。
［Ｖ］成型用積層フィルムを１５０℃雰囲気下で１．３倍に延伸した前後の反射光の彩度変化ΔＣが７以下である請求項１〜４に記載の成型用積層フィルム。
［ＶＩ］請求項１〜５の何れかに記載の型用積層フィルムの少なくとも片面に、アクリル・ウレタン共重合樹脂と２種類以上の架橋剤からなる易接着層を有する積層フィルム。
［ＶＩＩ］請求項１〜５の何れかに記載の成型用積層フィルムを用いた成型体。
［ＶＩＩＩ］請求項６に記載の積層フィルムを用いた成型体。

本発明により、大面積においても低彩度を実現し、斜めから視認した場合と成型した後も外観及び色調変化が小さく、成型加工時においてもデラミが発生しにくい成型用積層フィルムを得ることができる。

実施例１〜４、８、９比較例１、及び比較例１〜９の設計層厚みを示す図 実施例５の設計層厚みを示す図 実施例６の設計層厚みを示す図 実施例７の設計層厚みを示す図 比較例１０の設計層厚みを示す図 本発明に用いられるフィードブロックの構成図の一例 スリット板およびスリットの構成図 スリットの断面構成図 本発明の積層フィルムの断面をＡＦＭにより求められる断面高さプロファイルの一例

本発明の成型用積層フィルムは、熱可塑樹脂Ａからなる層（以下、Ａ層という）と非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂ層からなる層（以下、Ｂ層という）を有し、厚み方向に交互に合計２５０層以上積層され、両側の最表層の厚みが１μｍ以上２０μｍ以下であり、厚みが３μｍ以上６μｍ以下である層を内層に１層以上有する積層フィルムである。

本発明における積層フィルムは、厚み方向に交互に合計２５０層以上積層された構造である必要がある。より好ましくは、厚み方向に交互に合計４００層以上積層された構造であり、さらに好ましくは、８００層以上積層された構造である。２５０層未満の場合、可視光を均一に反射できず、彩度の大きなフィルムとなってしまうことがある。
本発明における積層フィルムは、少なくとも１μｍ以上２０μｍ以下である厚みの厚膜層が両側の最表層にあることが必要である。より好ましくは、５μｍ以上１０μｍ以下である。１μｍ未満の場合、積層不良に起因する部分的な色付きが発生し、低彩度を実現できなくなる場合や積層不良に起因するフローマークが発生することで表面凹凸が発生し、フィルム表面にスジ状の欠点が視認できる場合がある。２０μｍを超える場合、表層の厚膜層付近でデラミが発生しやすくなる場合や積層フィルムの全体厚みが厚くなり、成型用フィルムとしてはコシが強すぎて取り扱いが難しくなる場合がある。

本発明における積層フィルムは厚みが３μｍ以上６μｍ以下である層を内層に１層以上有することが必要である。３μｍ未満の場合、積層不良に起因する部分的な色付きが発生し、低彩度を達成することができなくなることがある。６μｍを超える場合、内層の厚膜層付近でデラミが発生しやすくなることがある。

本発明における積層フィルムは層厚み１μｍ未満である薄膜層において、Ａ層とＢ層のそれぞれの層において隣り合う層の厚みの差が５０ｎｍ以下の範囲で連続的に単調増加もしくは単調減少している傾斜構造を２段以上有することが必要である。２段以上の傾斜構造を有していない場合、極一部の層にわずかな積層不良を生じ、設計値から外れた場合、他の部分に同程度の厚みの層が存在しないため、反射する波長に抜けが生じ、低彩度や反射率を均一にすることができなくなることがある。本発明における積層フィルムの好ましい層構成の一例として、設計層厚みを示す図を説明する。図１は、２種類の熱可塑性樹脂（以下、樹脂Ａ、樹脂Ｂともいう）からなる層を厚み方向に交互に積層したフィルムにおいて、樹脂Ａからなる層（以下、Ａ層という）と樹脂Ｂ層からなる層（以下、Ｂ層という）を、各層順（以下、層番号という）に対してプロットした図である。図の整数の層番号のみに層厚みが対応しており、結晶性の熱可塑性樹脂ＡからなるＡ層は奇数番号に対応し、非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂ＢからなるＢ層は偶数番号に対応する。また、厚膜層は結晶性樹脂である樹脂ＡからなるＡ層で形成されることが好ましい。図２、図３についても同様である。また、層構成が減少から増加に変化、及び増加から減少に変化する箇所は積層不良が生じ易く、彩度の上昇及び成型した際の色変化の原因となるため、３μｍ以上６μｍ以下である厚みの内層の厚膜層を上記箇所に設けることで積層不良の原因となる積層フィルムの製造工程での剪断応力を厚膜層にて吸収させることができる。内層の厚膜層が３μｍ未満の場合、層構成が減少から増加に変化、及び増加から減少に変化する箇所での積層不良に起因する剪断応力の吸収が十分ではないため、積層不良を抑制できず、特定波長における光の反射が設計値と異なるため、色付きが発生し易くなる。内層の厚膜層が６μｍを超える場合、結晶性樹脂Ａからなる厚膜層と厚膜層以外の箇所では弾性率が異なるため、加工における断裁時に厚み方向に剪断応力がかかると、厚膜層付近に応力が集中し、厚膜層付近においてデラミが発生しやすくなることがある。図４は図３の積層数が２６１層である構造であり、図５は図３の積層数が２０１層である構造であり、積層数が小さいことで可視光を均一に反射できず彩度が大きくなることに加え、反射層が少ないことで波長帯域４００〜７００ｎｍにおける平均反射率を３０％以上にすることができなくなることがある。

また、本発明では便宜上、図１の層厚み構成を４段の傾斜構造、図２の層厚み構成を３段の傾斜構造、図３、図４及び図５の層厚み構成を２段の傾斜構造と呼ぶこととする。ここで、本発明で言う「４段の傾斜構造」とは、４本の単調増加曲線および／または単調減少曲線で近似できる構造のことを指す。

本発明における積層フィルムは、色付きを抑制する観点から、層対厚み１０ｎｍ以上２２０ｎｍ未満の層数が、層対厚み２２０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の層数より多いことが好ましい。ここで、本発明で言う「層対厚み」とは、隣接するＡ層およびＢ層のそれぞれの層厚みを足した厚みを指す。また、層対厚みは、Ａ層のみについて一方のフィルム表面から数えたｍ番目のＡ層と、隣接するＢ層のみについて同表面から数えたｍ番目のＢ層の層厚みを足したものでなければならない。ここで、ｍは整数を表している。例えば、一方のフィルム表面から反対側の表面にＡ１層／Ｂ１層／Ａ２層／Ｂ２層／Ａ３層／Ｂ３層・・・の順番で並んでいる場合、Ａ１層とＢ１層が１番目の層対であり、Ａ２層とＢ２層が２番目の層対であり、Ａ３層とＢ３層が３番目の層対となる。層対厚み１０ｎｍ以上２２０ｎｍ未満の層数が、層対厚み２２０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の層数と同数または少ないと、波長帯域４００ｎｍ〜９００ｎｍの反射帯域において低波長側ほど反射率が低下するため、赤みを帯びた外観になることがある。これは、低波長側の反射を起こす層対の密度が薄くなるために起こるものである。従って、積層フィルムを構成する層の層厚み序列としては、単調に等差数列的に層対厚みが増減するのではなく、上記条件を満たしながら等比数列的に層対厚みが増減することが好ましい。より好ましくは、層対厚み１２０ｎｍ以上２２０ｎｍ未満の層数が、層対厚み２２０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の層数に対して１．０５倍以上２．５倍以下であることが好ましい。

本発明における結晶性の熱可塑性樹脂Ａ、非晶性樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂの２種類の樹脂は、共重合体や２種類以上の樹脂が混合されたものであっても良い。中でも、ポリエステル樹脂を用いることが特に好ましい。ここでいう結晶性とは、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）において、融解熱量が５Ｊ／ｇ以上であることをいう。一方、非晶性とは、同様に融解熱量が５Ｊ／ｇ未満であることをいう。

本発明における積層フィルムは、薄膜層におけるデラミを抑制する観点から、熱可塑性樹脂Ａと非晶性樹脂を含む熱可塑性樹脂ＢのＨＳＰ値（ハンセンの溶解度パラメーター）の差の絶対値は０．０１ＭＰａ^１／２以上、３．０ＭＰａ^１／２以下であることが好ましく、０．０１ＭＰａ^１／２以上、２．０ＭＰａ^１／２以下であることがより好ましい。ＨＳＰ値の差の絶対値を０．０１ＭＰａ^１／２以上、３．０ＭＰａ^１／２以下とすることにより、薄膜層において十分な厚みの層界面を形成することができ、成型時の断裁加工や樹脂射出工程において衝撃を受けたときにも薄膜層でのデラミが発生しにくい積層フィルムとすることができる。ＨＳＰ値の差の絶対値が０．０１ＭＰａ^１／２未満であると、界面層が厚くなることで、光の反射波長に影響を及ぼし、設計通りの波長を反射することができなくなることがある。ＨＳＰ値の差の絶対値が３．０ＭＰａ^１／２以上であると、十分な厚みを持った界面層を形成することができず、成型時の断裁加工や樹脂射出時の衝撃時により薄膜層においてデラミを生じることがある。

ポリエステル樹脂としては、芳香族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸とジオールを主成分とする単量体からの重合により得られるポリエステルが好ましい。ここで、芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を挙げることができる。脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ダイマー酸、ドデカンジオン酸、シクロヘキサンジカルボン酸とそれらのエステル誘導体等を挙げることができる。中でも屈折率の高いテレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。これらの酸成分は１種類のみを用いても良く、２種類以上を併用しても良く、さらには、ヒドロキシ安息香酸等のオキシ酸等を一部共重合しても良い。また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、イソソルベート、スピログリコール等を挙げることができる。中でも、エチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は１種類のみを用いても良く、２種類以上を併用しても良い。

前記ポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリエチレンナフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体等を用いることが好ましい。

熱可塑性樹脂から選ばれた樹脂Ａおよび樹脂Ｂの好ましい組み合わせは、一方の樹脂と同一の基本骨格を含む樹脂を用いることが好ましい。ここで、本発明で言う「基本骨格」とは、樹脂を構成する繰り返し単位のことを指し、例えば、一方の樹脂がポリエチレンテレフタレートの場合、エチレンテレフタレートが基本骨格であり、この場合の他の樹脂としては、例えば、エチレンテレフタレート単位とシクロヘキサン１，４−ジメチレンテレフタレート単位からなる重合体（共重合体）が挙げられる。また、別の例として、一方の樹脂がポリエチレンの場合、エチレンが基本骨格である。同一の基本骨格の樹脂を用いると、積層フィルムの製膜において、フローマーク等の積層不良や薄膜層におけるデラミ等の問題が生じ難くなる。

結晶性の熱可塑性樹脂Ａとしては、耐押し跡性（耐打痕性）、フィルム自体の腰の強さの観点から、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートを用いることが好ましい。

非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂの非晶性樹脂としては、屈折率の上昇を抑制する観点から、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニル酸、シクロヘキサンジカルボン酸を含有、または、スピログリコール、シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノキシエタノールフルオレン、ビスフェノールＡ成分を含有した上記樹脂Ａの共重合体を、上記樹脂Ａと混合または単独で用いることが好ましい。

本発明の積層フィルムは下記式１でＢ層の各層積層むらＭ_ｎを求めたとき、全ての層において求めたＭ_ｎ−２、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋２の平均値の絶対値が１０ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは７ｎｍ以下である。Ｘ_ｎはＢ層の層番号ｎにおける実測厚みであり、最表層である厚膜層はＡ層であることが好ましいため、Ｂ層の層番号は偶数であることが好ましい。Ｙ_ｎは傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線から算出されるＢ層の層番号ｎの層厚みであり、２次の多項式近似曲線は４段傾斜では４式、３段傾斜では３式、２段傾斜では２式算出される。積層フィルムを構成する層の層厚み序列として傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線から算出される層厚みに近い厚みであることが好ましい。多項式近似曲線の求め方としては、特に限定するものではないが、本発明ではＭｉｃｒｏｓｏｆｔ社 ＥＸＣＥＬ２０１０のグラフ機能を用いた。この場合、２次の多項式近似曲線は多項式近似の次数を２とした際に出力される式を使用した。各層積層厚みむらＭ_ｎが１層外れている場合には特定波長の反射への影響は小さく、Ｍ_ｎ−２、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋２と連続した３層以上で積層厚みむらが大きいことで特定波長の反射が光学設計と乖離することになる。そのため、Ｍ_ｎ−２、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋２の平均値の絶対値が１箇所でも１０ｎｍを超えると特定波長で前後の波長帯域より反射のピークが強くなり、低彩度や反射の均一性を達成できなくなることがある。
Ｍ_ｎ＝Ｘ_ｎ−Ｙ_{ｎ ・・・}式１
Ｘ_ｎ：Ｂ層の層番号ｎの実測厚み（ｎｍ）
Ｙ_ｎ：傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線から算出されるＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
本発明の積層フィルムはＢ層の傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線の相関係数の２乗値であるＲ^２値が０．９０以上１．００以下であることが好ましい。より好ましくは０．９５以上１．００以下である。２次の多項式近似曲線の相関係数の２乗値の求め方としては、特に限定するものではないが、本発明ではＭｉｃｒｏｓｏｆｔ社 ＥＸＣＥＬ２０１０のグラフ機能を用いた。この場合、２次の多項式近似曲線の相関係数の２乗値は多項式近似の次数を２とした際にＲ^２値として出力される値を使用した。Ｒ^２値が０．９０未満となると、積層フィルムを構成する層の層厚み序列としては規則的に変化せず、ばらつきが大きくなり、特定波長の反射が光学設計と乖離を生じ、反射の均一性を達成できなくなることがある。

Ｂ層の各層積層むらＭ_ｎにおいて、全ての層において求めたＭ_ｎ−２、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋２の平均値の絶対値が１０ｎｍ以下、Ｒ^２値が０．９０以上１．００以下とするためには結晶性の熱可塑性樹脂Ａと非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂを積層する際に積層箇所の流量、固有粘度（ＩＶ）を制御する必要がある。結晶性の熱可塑性樹脂Ａと非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂを積層させる多層積層装置としては、マルチマニホールドダイやフィードブロックやスタティックミキサー等を用いることができるが、本発明の効果を効率よく得るためには、各層ごとの層厚みを個別に制御できるマルチマニホールドダイもしくはフィードブロックが好ましい。また、この際、積層フィルムの層対厚みを形成する結晶性の熱可塑性樹脂Ａと非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂの厚み比率である積層比の全層の平均値は０．７〜１．３であることが好ましく、０．８〜１．２であることがより好ましい。なお、厚み１μｍ以上の厚膜層を含む層対厚みは積層比の平均値を算出する値から除外する。樹脂Ａと樹脂Ｂの積層比の平均値が０．７〜１．３の範囲から外れると、フィードブロックでの樹脂合流部にて樹脂Ａと樹脂Ｂの流量差により、樹脂Ａと樹脂Ｂが均一に積層されず、積層むらが生じることがある。さらに、積層むらを抑制するために非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂの固有粘度（ＩＶ）を制御する必要がある。高反射率を達成するための低屈折率樹脂としてスピログリコール（ＳＰＧ）とシクロヘキサンジカルボン酸（ＣＨＤＣ）を共重合した樹脂を使用することがあるが、固有粘度は（ＩＶ）０．５５と低いため積層フィルムの製造工程にて樹脂を押し出す際に、樹脂の流れが安定せず、積層むらとなることがある。原料チップを重合する工程において、チップ状にガットを切断する際に固有粘度（ＩＶ）の低い樹脂はチップ形状が大きくなるため、積層フィルムの製造工程における樹脂Ｂの固有粘度を低下させないために、使用するチップのサイズは楕円状部の断面積５．０〜９．０ｍｍ^２、チップ高さ３．５〜４．５ｍｍのチップを使用することが好ましい。また、積層フィルムの製造工程において樹脂Ｂを溶融させた際に加水分解による固有粘度（ＩＶ）の低下を抑制するため、樹脂Ｂの含有水分率が１０００ｐｐｍ以下のものを使用することが好ましい。

本発明における傾斜構造を有する積層フィルムを得るのに好適な実施形態であるフィードブロックの例を図６に示す。該フィードブロックは、２種の樹脂Ａと樹脂Ｂを多層に積層する積層装置のことであり、詳細を以下に説明する。図６において、部材板６〜１６がこの順に重ねられ、フィードブロック１７を形成する。

図６のフィードブロック１７は、樹脂導入板７，９ ，１１ ，１３，１５に由来して５つの樹脂導入口を有するが、例えば樹脂Ａを樹脂導入板７，１１，１５の導入口１８から供給し、樹脂Ｂを樹脂導入板９，１３の導入口１８から供給する。すると、スリット板８は、樹脂導入板７から樹脂Ａ、樹脂導入板９から樹脂Ｂの供給を受け、スリット板１０は、樹脂導入板１１から樹脂Ａ、樹脂導入板９から樹脂Ｂの供給を受け、スリット板１２は、樹脂導入板１１から樹脂Ａ、樹脂導入板１３から樹脂Ｂの供給を受け、スリット板１４は、樹脂導入板１５から樹脂Ａ、樹脂導入板１３から樹脂Ｂの供給を受けることになる。

ここで、各スリット板に導入される樹脂の種類は、樹脂導入板７，９ ，１１ ，１３，１５における液溜部１９の底面とスリット板における各スリットの端部との位置関係により決定される。すなわち、図８に示すように、スリット板における各スリットの頂部の稜線２０は、スリット板の厚み方向に対して傾斜を有する（ 図７（ｂ），（ｃ））。但し、図７（ａ）に示すように、スリット板の両端部に位置した厚膜層を形成するスリット巾は、薄膜層の破壊を防ぐ観点から、他の薄膜層を形成するスリット巾の２倍以上であることが必要である。ここでの他の薄膜層を形成するスリット巾とは、少なくとも１つのスリット板内にある薄膜層を形成するスリット部の巾の平均値のことである。より好ましくは、３倍以上である。特に、スリット板８及びスリット板１４のフィルムの各最表層部分に該当するスリットは、樹脂Ａが流入され、かつ他の薄膜層を形成するスリット巾の１０倍以上であることが必要である。この際、樹脂Ａが流入するスリットを連続して配置することで、巾の長さを合計して他の薄膜層を形成するスリット巾の１０倍以上とすることもできる。このように、フィードブロックから送り込まれた樹脂が合流する箇所、及びフィードブロックから口金までの経路で配管の壁面との境界にあたる箇所において厚膜層を設けることで、合流直後の層厚み分布の変化を防止させ、さらには配管付近の多層流動における樹脂速度の変動を防止することができるため、積層比を崩すことなく、幅方向で均一な色調を発現し、かつ斜めから視認した場合と成型した後も外観及び色調変化が小さい積層フィルムを得ることができる。

そして、図８に示すように、樹脂導入板７，９ ，１１ ，１３，１５（１３，１５は繰り返し構造のため、図８中から省略）における液溜部１９の底面の高さは、前記稜線２０の上端部２１と下端部２２との間の高さに位置する。このことにより、前記稜線２０が上がった側からは樹脂導入板７，９ ，１１ ，１３，１５の液溜部１９から樹脂が導入されるが（図８中２３）、前記稜線２０が下がった側からはスリットが封鎖された状態となり樹脂は導入されない。かくして各スリットごとに樹脂ＡまたはＢが選択的に導入されるので、積層構造を有する樹脂の流れがスリット板８，１０，１２，１４（１２，１４は繰り返し構造のため、図８中から省略）中に形成され、当該スリット板８，１０，１２，１４の下方の流出口２４より流出する。

スリットの形状としては、樹脂が導入される側のスリット面積と樹脂が導入されない側のスリット面積が同一ではないことが好ましい。このような構造とすると、樹脂が導入される側と樹脂が導入されない側での流量分布を低減できるため、幅方向の積層精度が向上する。さらには、（ 樹脂が導入されない側のスリット面積）／（ 樹脂が導入される側のスリット面積）が０．２以上０．９ 以下であることが好ましい。より好ましくは０．５以下である。また、フィードブロック内の圧力損失が１ＭＰａ以上となることが好ましい。また、スリット長（ 図６中Ｚ方向スリット長さの内、長い方）を２０ｍｍ以上とすることが好ましい。一方、スリットの間隙巾は、加工精度の観点から０．３ｍｍ以上が好ましく、より好ましくは０ ．５ｍｍ以上３ｍｍ以下である。
このようにスリットの巾や長さを調整することにより、各層の厚みを制御し、傾斜構造を有する積層フィルムを得る事が可能である。また、それぞれのスリットにおいて、スリット間隙巾は、目標値の−３％乃至＋３％の範囲であることが好ましい。より好ましくは−２％乃至＋２％の範囲である。スリット間隙巾が、目標値の−３％乃至＋３％の範囲であることで、局所的な層厚みの密度の増減を防止することができる。なお、スリットは、その巾や長さを微妙に調整した高い加工精度を必要とする観点から、ワイヤー放電加工にて製作されたものが好ましい。

また、各スリット板に対応したマニホールド部を有していることも好ましい。マニホールド部により、スリット板の内部での幅方向（ 図６中Ｙ方向）の流速分布が均一化するため、積層されたフィルムの幅方向の積層比を均一化することができ、大面積のフィルムでも精度良く積層することが可能となり、フィルム巾方向の反射率を精度良く制御することができる。また、前記マニホールドから各スリットへ連通する部分に、スリット間隙よりも大きな積層方向寸法を有する第２マニホールドがスリット幅方向のすべてに設けられていることが好ましい。また、前記第２マニホールドはスリット間隙の２倍以上であることが好ましい。加えて、前記第２マニホールドが、スリットに連通する樹脂導入板のマニホールドから離れるに従い下流方向に傾斜していることが好ましい。このような構造とすることで、樹脂導入板のマニホールドから遠い部分のスリットへ溶融材料が流れ易くなりスリットの第１マニホールドの近い側と遠い側の流量差が小さくなることにより、スリット幅方向の溶融材料の流量が均一となる。また、一つの液溜部から二つ以上のスリット板へ樹脂を供給することがより好ましい。このようにすると、例えば、わずかにスリット板の内部で幅方向に流量分布が生じていたとしても、次に説明する合流装置にてさらに積層されるため、積層比としてはトータルでは均一化され、高次の反射帯域のムラを低減することが可能となる。
スリット内を通過するポリマーは一般に下記式２にて表される。すなわち、液溜め部内の圧力が均一化されて圧力降下ΔＰが一定であると考えると、１層の層厚みに対応する流量Ｑは、一つのスリットサイズを調整することにより容易に調整することができる。この装置では、各層の厚みをスリット形状（長さ、巾）で調整できるため、任意の層厚みを達成することが可能となったものである。例えば図１に示されるような構造とする場合の達成方法を説明する。この場合、スリット板は４枚構成であり、個々のスリット板のスリット長は単調増加及び単調減少しているスリット長さの分布を有しており、かつ、隣り合うスリット板間（ここでは単調増加から減少または単調減少から増加に変化する箇所）において、層の繋ぎ目となる厚膜層を形成するスリットを中心として、それぞれ、前後に配列する少なくとも１０層以上のスリットの長さと巾の分布が、前後で同じようになるように設計することで達成される。

Ｑ：樹脂流量
ｔ：スリットの巾
Ｗ：スリットの奥行き
μ：樹脂粘度
Ｌ：スリットの長さ
ΔＰ：圧力降下 各スリット板から流出した樹脂は、図４のフィードブロックの真下に配置された合流装置にて１つの積層流れとして合流される。その後、溶融状態の当該樹脂流れは、Ｔダイ内部のマニホールド部に充填、さらに拡幅され、次いでダイスリットからシート状に押し出される。この際、前記フィードブロックと前記口金とを接続する流路における流路方向に垂直な任意の断面のシート幅方向寸法をＷ、シート厚み方向寸法をＴ、前記口金の吐出口のシート幅方向寸法をＷｄ、前記積層体の最表層の最小シート厚み方向寸法をＬとすると、下記式３と式４の関係を共に満足することが好ましい。

本発明における積層フィルムは下記手法及び式５によりＢ層の各層の厚みばらつき比率Ｎｎを求めたとき、全Ｂ層のＮｎの平均値（ΣＮｎ／ｎ）が１０％以下であることが好ましい。より好ましくは７％以下である。全Ｂ層のＮｎの平均値（ΣＮｎ／ｎ）が１０％を超えると、１ｍ×１ｍのフィルムの対角線上の２点の積層厚みの分布が異なるため、反射する波長が異なり、１ｍ×１ｍの範囲で色調差が大きくなることがある。
［Ｂ層の各層の厚みばらつき比率Ｎｎの求め方］
成型用積層フィルムを１ｍ×１ｍの正方形状にカットする。カットした正方形状の成型用積層フィルムの４角にてＢ層の各層厚みを測定する。正方形の対角線上に位置する角をｐ、ｑ、およびｒ、ｓとしたとき、下記式５により、対角線上の位置の層厚み差を、各層の厚みばらつき比率Ｎｎとして求める。

Ｎｎ＝｜［（Ｐｎ―Ｑｎ）／｛（Ｐｎ＋Ｑｎ）／２｝｜＋｜（Ｒｎ―Ｓｎ）／｛（Ｒｎ＋Ｓｎ）／２｝］｜／２×１００ ・・・式５
Ｐｎ＝ｐ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｑｎ＝ｑ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｒｎ＝ｒ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｓｎ＝ｓ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
全Ｂ層のＮｎの平均値（ΣＮｎ／ｎ）を１０％以下とするためには、３μｍ以上６μｍ以下である厚みの内層の厚膜層を層構成が減少から増加に変化、及び増加から減少に変化する箇所に設けることで積層不良の起因となる積層フィルムの製造工程での剪断応力を厚膜層にて吸収させることができるため、厚みばらつきを低減できる。

本発明の成型用積層フィルムは、波長帯域４００〜７００ｎｍにおける平均反射率が３０％以上７５％以下である。より好ましくは４０％以上７０％以下である。平均反射率が３０％未満の場合、反射率が低く金属光沢、高光沢調の外観とならないことがある。平均反射率が７５％を超える場合、透過率が低くなるため、背面に印刷した印刷層の視認性が低下する場合がある。

本発明の積層フィルムは波長４００ｎｍ〜９００ｎｍにおいて４００ｎｍから５０ｎｍずつの間隔で区分された帯域（４００〜４５０ｎｍ、４５０〜５００ｎｍ、・・・８５０〜９００ｎｍ）の平均反射率が、いずれの帯域においても隣接する帯域との平均反射率の差が１０％以下となることが必要である。より好ましくは７％以下である。隣接する帯域との平均反射率の差が１０％を超えると、視認角度により積層フィルムの反射する波長帯域は変化するため、正面から視認した場合と斜めから視認した場合では反射する波長が急激に変化するため、色差を視認しやすくなり、高意匠性を実現することができなくなることがある。 波長４００ｎｍ〜９００ｎｍにおいて４００ｎｍから５０ｎｍずつの間隔で区分された帯域（４００〜４５０ｎｍ、４５０〜５００ｎｍ、・・・８５０〜９００ｎｍ）の平均反射率が、いずれの帯域においても隣接する帯域との平均反射率の差が１０％以下となるよう反射率を均一とするには、Ｂ層の各層積層むらＭ_ｎにおいて、全ての層において求めたＭ_ｎ−２、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋２の平均値の絶対値が１０ｎｍ以下、Ｒ^２値が０．９０以上１．００以下とすることで達成できる。

本発明の積層フィルムは、フィルム表面の１ｍ×１ｍの範囲における彩度が０以上７以下であることが好ましい。より好ましくは０以上５以下である。フィルム表面の１ｍ×１ｍの範囲における彩度が７を超える場合、色付きが大きくなり、背面に印刷層や液晶表示層を設けた場合に積層フィルムの色付きにより印刷層や液晶表示層の色調が変化して視認され、高意匠性を実現できなくなることがある。

１ｍ×１ｍの範囲における彩度を０以上７以下とするためには、積層フィルム製造工程での積層状態を均一とすることが必要である。層構成が減少から増加に変化、及び増加から減少に変化する箇所は積層不良が生じ易く、部分的な彩度の上昇が発生する原因となるため、３μｍ以上６μｍ以下である厚みの厚膜層を上記箇所に設けることが好ましい。

本発明の成型用積層フィルムは、積層フィルムのＡ層の面内平均屈折率と、Ｂ層の面内平均屈折率の差が０．０５５以上０．１２０以下であることが好ましい。より好ましくは、０．０６０以上０．１１５以下である。面内平均屈折率の差が０．０５５未満の場合、十分な反射率および金属調、高光沢調が得られなくなることがある。面内平均屈折率の差が０．１２０を超える場合、透過率が低くなり過ぎて背面に印刷した印刷層の視認性が低下することに加え、Ａ層とＢ層の樹脂の組成が異なるため薄膜層の層界面厚みを十分な厚みにできないため、薄膜層においてデラミしやすくなることがある。

本発明の積層フィルムは結晶性の熱可塑性樹脂ＡからなるＡ層と非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂ＢからなるＢ層が交互に積層されており、Ａ層とＢ層は硬さが異なるため、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により断面を切り出したサンプルの断面を観察すると、Ａ層とＢ層の硬さに差がある場合は、サンプルの断面は平坦では無く、硬さに起因した凹凸（ＡＦＭ高低差）を観察することができる（なお、本発明においてＡＭＦ高さとは、フィルムの断面を、フィルム断面が水平方向と平行かつ上向きになるように配置したとき、ＡＦＭ測定により求められる断面の高さを表すものである）。積層フィルムを構成する層の硬さが硬いほどＡＭＦ高さは低くなり、層の硬さが柔らかいほどＡＦＭ高さは高くなる傾向にある。そのため、Ａ層が、Ｂ層に比べて相対的に硬い結晶性の熱可塑性樹脂Ａからなる場合、ＡＭＦ高さは低くなる。上記の測定は、断面のサンプリングを凍結切断した断面サンプルにて評価することでＡ層とＢ層のＡＦＭ観察による高低差を評価が可能となる。そして、Ａ層とＢ層の層界面の平均厚みはＡＦＭにより観察される高さが変化する箇所から下記手法により算出することができる。

［Ａ層とＢ層の層界面の平均厚みの求め方］
本発明の積層フィルムからサンプルを切り出し、サンプル片の厚み方向断面を観察面とするようにフィルムの断面方向と垂直に凍結切片作製用ウルトラミクロトーム（ライカマイクロシステムズ社製Ｕｌｔｒａｃｕｔ ＦＣＳ）を用いて−１００℃で切削し、断面サンプルを採取した。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて、観察モードはタッピングモード、探針はシリコンカンチレバー、走査範囲は２．０×２．０μｍにて断面観察を行い、ＡＦＭ観察像を取得した。層厚みの観察が比較的容易である、薄膜層において最も厚い層からＡ層及びＢ層各５層分が入り、Ａ層とＢ層の層界面を１０層計測できる範囲にて観察を行い、断面プロファイルモードで図９に示すようなＡＦＭ高さプロファイルを取得した。図９において横方向が積層フィルムの厚み方向位置を示し、縦方向がＡＦＭ高さを示す。相対的に固いＡ層の高さをＸ（ｎｍ）２５、相対的に軟らかいＢ層の高さをＹ（ｎｍ）２６とする。Ａ層及びＢ層の高さＸ、Ｙは厚み方向位置５ｎｍ刻みの位置にて測定して求めたＡＦＭ高さについて、各測定点を対象に１０点移動平均処理を行い、最小値をＡ層のＡＦＭ高さＸ２５、最大値をＢ層のＡＦＭ高さＹ２６とした。Ａ層とＢ層の層界面は下記式６及び７で求めるＡ層側層界面境界ＡＦＭ高さ２７及びＢ層側層界面境界ＡＦＭ高さ２８に挟まれた厚み方向位置においてＡＦＭ高さが単調に増加または減少している位置区間をＡ層とＢ層の層界面厚み２９とし、Ａ層とＢ層の層界面厚み２９の１０箇所における平均値をＡ層とＢ層の層界面の平均厚みとした。
Ａ層側層界面境界ＡＦＭ高さ＝Ｘ＋｜Ｙ−Ｘ｜×０．２・・・式６
Ｂ層側層界面境界ＡＦＭ高さ＝Ｙ−｜Ｙ−Ｘ｜×０．２・・・式７
本発明の積層フィルムは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定されるＡ層とＢ層の層界面の平均厚みが８ｎｍ以上であることが好ましく、１２ｎｍ以上であることがより好ましい。波長帯域４００〜７００ｎｍにおける平均反射率が３０％以上となる樹脂Ａ及び樹脂Ｂの組合せにおいてＡ層とＢ層の層界面の平均厚みが８ｎｍ未満となる場合、薄膜層の層界面厚みが十分ではなく、成型時の断裁加工や樹脂射出時の衝撃時により薄膜層においてデラミを生じることがある。

原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定されるＡ層とＢ層の層界面の平均厚みを８ｎｍ以上とするためには、樹脂Ａと樹脂ＢのＨＳＰ値（ハンセンの溶解度パラメーター）の差の絶対値を０．０１ＭＰａ^１／２以上、３．０ＭＰａ^１／２以下となる組合せとし、積層フィルムの製造工程で溶融押出時に樹脂Ａ及び樹脂Ｂの樹脂温度を高くし、樹脂Ａと樹脂Ｂの合流後の界面の混ざり合いを促進する必要がある。なお、Ａ層とＢ層の面内平均屈折率が０．０５５未満の場合、Ａ層とＢ層の原子間力顕微鏡による高さの差は小さいため、界面層厚みは薄くなるが、樹脂Ａと樹脂Ｂの組成が近くなるため、層界面における密着性が高くなり、薄膜層におけるデラミは発生しにくくなることがある。

本発明の積層フィルムは１５０℃雰囲気下で１．３倍に延伸した前後の反射光の彩度変化ΔＣが７以下であることが好ましい。より好ましくは５以下である。１５０℃雰囲気下で１．３倍に延伸した前後の反射光の彩度変化ΔＣが７を超える場合、成型により延伸された箇所と未延伸の箇所とで色調が変化し、同一部材で色調が異なって視認されるため、高意匠性を実現できないことがある。

１５０℃雰囲気下で１．３倍に延伸した前後の反射光の彩度変化ΔＣを７以下とするには、積層むらを小さくするため、積層フィルムの製造工程におけるチップの固有粘度（ＩＶ）を低下させないよう使用するチップの固有粘度（ＩＶ）及び含有水分率を制御することが好ましい。

本発明の成型用積層フィルムは、ヘイズが３．０以下であることが好ましい。さらに好ましくは、２．０以下であり、１．５以下であることが特に好ましい。ヘイズが３．０を超える場合、背面に印刷層や液晶表示層を設けた場合に、印刷層や液晶表示層の視認性が低下することがある。

本発明の成型用積層フィルムは、前記積層フィルムの少なくとも片面に、アクリル・ウレタン共重合樹脂と２種類以上の架橋剤からなる易接着層が設けられていることが好ましい。積層フィルムに印刷層またはハードコート層を施す際、処理面に易接着層が設けられていない場合、界面における密着性が低下することがある。また、印刷層とハードコート層を積層フィルムの両面に施す際は、両面に易接着層が設けられていることが好ましい。

本発明に好ましく用いられる易接着層を構成するアクリル・ウレタン共重合樹脂としては、アクリル系モノマーは、例えばアルキルアクリレート（アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロヘキシル等）、２−ヒドロキシルエチルアクリレート、２−ヒドロキシルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどのヒドロキシ基含有モノマー、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレートなどのアミノ基含有モノマー、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのグリシジル基含有モノマー、アクリル酸、メタクリル酸およびそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）のカルボキシル基またはその塩を含有するモノマー等を用いることができる。また、本発明におけるウレタン成分としては、ポリヒドロキシ化合物とポリイソシアネート化合物を、乳化重合、懸濁重合等の公知のウレタン樹脂の重合方法によって反応させることで得られる樹脂を用いることができる。ウレタン成分を構成するポリヒドロキシ化合物としては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン・ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、テトラメチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリカプロラクトン、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリヘキサメチレンセバケート、ポリテトラメチレンアジペート、ポリテトラメチレンセバケート、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ポリカーボネートジオール、グリセリン等を用いることができる。

本発明における易接着層を構成する架橋剤としては、架橋性官能基を共重合することが好ましく、例えば、メラミン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化或いはアルキロール化した尿素系架橋剤、アクリルアミド系架橋剤、ポリアミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤等を用いることができる。また、ハードコート層やシリコーン系接着層との耐湿熱接着性の観点から、２種類以上の架橋剤を用いることが好ましく、具体的には、架橋剤の少なくとも１種類がオキサゾリン系架橋剤またはカルボジイミド系架橋剤を用いることが好ましい。

さらに、前記易接着層の成分だけであると帯電し易いため、その結果、静電気により成型用積層フィルムを印刷やインサート成型にて加工する際に異物が混入し、外観欠点となる問題を引き起こすことがある。そのため易接着層の成分には、帯電防止の観点から、導電性高分子を含んでいることが好ましい。導電性高分子としては、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリチオフェン・ビニレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリ−ｐ−フェニレン、ポリヘテロサイクル・ビニレン、特に好ましくは、（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）である。

本発明の成型用積層フィルムは、表面にハードコート層を設けることで、積層フィルムが傷つくことを抑制でき、成型品の外観を向上させることができる。ただし、コスト面からハードコート層を必要としない用途に対しては、必ずしもハードコート層を設けなくてもよい。

ハードコート層としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート樹脂、シリコーン系樹脂等を用いることができる。その中で、硬度、耐久性および生産性の観点から、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらに好ましくは、アクリル系樹脂であり、活性線硬化型のアクリル系樹脂であることが最も好ましい。

ハードコート層の組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、各種添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤等を用いることができる。本発明におけるハードコート層の厚みは、用途に応じて決められるが、通常は０．１μｍ以上３０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、１μｍ以上１５μｍ以下である。ハードコート層の厚みが０．１μｍ未満の場合、ハードコート層の組成物が十分硬化していても、膜厚が薄すぎるために表面硬度が低くなり、傷が付き易くなることがある。ハードコート層の厚みが３０μｍを超える場合、折り曲げなどの応力により硬化膜にクラックが入り易くなることがある。

本発明に好ましく用いられる印刷層としては、バインダー樹脂、顔料または染料等で構成することができる。バインダー樹脂としては、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アルキド系樹脂、熱可塑性エラストマー系樹脂等が好ましく、特に柔軟な被膜を作成することができる樹脂が好ましい。また、バインダー樹脂中には、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを配合することが好ましい。塗布方法としては、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷などが好ましく、より好ましくはスクリーン印刷である。特に多色刷りや階調色彩、薄膜印刷を必要とする場合には、オフセット印刷法やグラビア印刷法が好ましい。また、単色の場合は、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法を採用することもできる。また、本発明における印刷層の厚みは、透過率確保のため５μｍ以下で塗布することが好ましく、印刷層を形成するインキとしては２液硬化型インキであることが好ましい。

本発明の成型用積層フィルムはデラミが発生しにくいことから、真空成型、真空圧空成型、プラグアシスト真空圧空成型、インモールド成型、インサート成型、冷間成型、プレス成型、絞り成型などの各種成型法が適用できるため、低コストで成型体を得ることが可能である。このような成型体は、携帯電話、電話、パソコン、オーディオ機器、家電機器、無線通信機器、車載部品、建築材料、ゲーム機、アミューズメント機器、包装容器などに好ましく用いることができる。特に、本発明の成型体は、携帯電話、電話、パソコン、オーディオ機器、家電機器、無線通信機器、車載部品、ゲーム機などの無線で情報通信を行う機能を有する機器（無線情報通信機器）の装飾部品として用いることが好ましい。本発明の成型体は、金属調の外観を有しながら、電磁波透過性に優れるので、従来の金属調装飾材料のように電磁波障害を引き起こさないものである。このため、本発明の成型体を情報通信機器の装飾部品として用いると、機器の小型化や薄型化が可能となったり、情報通信機器内部の回路設計の自由度が増すものである。

次に、本発明の成型用積層フィルムの好ましい製造方法の一例を以下に説明するが、これによって制限されるものではない。

まず、２種類の樹脂Ａ及び樹脂Ｂをペレットの形態で用意する。該ペレットは、必要に応じて熱風中あるいは真空下で乾燥された後、各々２台の押出機にそれぞれ供給される。各押出機内において、融点以上に加熱溶融された樹脂は、ギヤポンプ等で樹脂の押出量を均一化してフィルター等を介して異物や変性した樹脂を取り除く。２台の押出機を用いて異なる流路から送り出された樹脂Ａと樹脂Ｂは、それぞれ多層積層装置に送り込まれる。多層積層装置としては、多数の微細スリットを有する部材を、少なくとも別個に２個以上含むフィードブロックを用いることが望ましい。このようなフィードブロックを用いると、装置が極端に大型化することがないため、熱劣化による異物が少なく、積層数が極端に多い場合でも、高精度に積層が可能となる。また、幅方向の積層精度も従来技術に比較して格段に向上する。また、任意の層厚み構成を形成することも可能となる。この時、樹脂Ａ及び樹脂Ｂの樹脂温度を高くすることで、樹脂Ａと樹脂Ｂの混ざりあいが強まり、層界面が厚くなり、デラミしにくい積層フィルムとなる。

２段以上の傾斜構造をとる場合、薄い層から厚い層への変化もしくは厚い層から薄い層への層厚みの変化が、非常に急になる。本発明では多数の微細スリットを有する部材を少なくとも別個に２個以上含むフィードブロックを用いる。ただし、この別個のフィードブロックから送り込まれた樹脂が合流する箇所では合流直後に層厚み分布が変化し、幅方向の色調をばらつかせる大きな一因となっていた。そのため、積層フィルムにて厚み１μｍ以下の層に該当する箇所において、樹脂Ａと樹脂Ｂの流量が大きく変化しないよう積層比が０．７〜１．３となるように流量を調整することが必要である。さらにはフィードブロックから口金までの経路で配管の壁面の影響により配管付近の樹脂速度が低下するため、配管壁面付近と配管中心部の流速差により更にフィルム幅方向の色調均一性が悪化していた。そのため、フィルム最表層部および別個のフィードブロックの樹脂合流部の一定の距離を同一のポリマーで置換することで積層比を崩すことなく、幅方向で均一な色調を発現する積層フィルムを得ることができる。このとき、積層フィルムの両側の最表層の厚膜層を樹脂Ａとする場合、樹脂Ａからなる層が表層厚膜層（両側の最表層）に該当する。また、内層の厚膜層とする樹脂は、耐押跡性向上のために高結晶性樹脂とすることが好ましい。内層の厚膜層は３μｍ未満であると合流部の層厚み分布変化の抑制は十分ではなく、３μｍ以上であることが必要である。厚膜層の厚み調整は該当する層の厚みに相当する各流量をスリットの間隙で調整することが好ましく、この際、各スリット間隙の間隙精度は±１０μｍ以下であることが好ましい。このような特殊なフィードブロックを用いることにより、高精度でかつ２段以上の傾斜構造を形成する積層フィルムを得ることができる。

次に、本発明の成型用積層フィルムの特徴である波長帯域４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける平均反射率を３０％以上７５％以下とするためには、各層の層厚みを、下記、式８に基づいて設計する必要がある。本発明における積層フィルムは、光を反射／透過することを可能とするが、その反射率については樹脂Ａからなる層と樹脂Ｂからなる層の屈折率差と層数によって制御することができる。
２×（ｎａ・ｄａ＋ｎｂ・ｄｂ）＝λ ・・・式８
ｎａ：結晶性の熱可塑性樹脂Ａからなる層の面内平均屈折率
ｎｂ：非晶性の熱可塑性樹脂Ｂからなる層の面内平均屈折率
ｄａ：樹脂Ａからなる層の層厚み（ｎｍ）
ｄｂ：樹脂Ｂからなる層の層厚み（ｎｍ）
λ：主反射波長（１次反射波長）
このようにして所望の層構成に形成した溶融積層体は、次にダイにて目的の形状に成型された後、吐出される。そして、ダイから吐出された多層に積層されたシートは、キャスティングドラム等の回転冷却体上に押し出され、冷却固化され、キャスティングフィルム（無延伸フィルム）が得られる。この際、ワイヤー状、テープ状、針金状あるいはナイフ状等の電極を用いて、静電気力によりキャスティングドラム等の回転冷却体に密着させ急冷固化させることが好ましい。また、スリット状、スポット状、面状の装置からエアーを吹き出してキャスティングドラム等の回転冷却体に密着させ急冷固化させたり、ニップロールにて回転冷却体に密着させて急冷固化させる方法も好ましい。

このようにして得られたキャスティングフィルム（無延伸フィルム）は、必要に応じて二軸延伸することが好ましい。二軸延伸とは、長手方向及び幅方向に延伸することをいう。延伸は、逐次に二軸方向に延伸しても良いし、同時に二方向に延伸してもよい。また、さらに長手方向及び／または幅方向に再延伸しても良い。特に本発明においては面内の配向差を抑制できる点や、表面傷を抑制する観点から、同時二軸延伸を用いることが好ましい。

まず、逐次二軸延伸の場合について説明する。ここで長手方向の延伸とは、フィルムに長手方向に分子配向を与えるための延伸を言い、通常は、ロールの周速差により施され、この延伸は１段階で行っても良く、また、複数本のロール対を用いて多段階で行っても良い。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、２〜１５倍が好ましく、成型用積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、２〜７倍が特に好ましく用いられる。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１００℃が好ましい。

本発明の成型用積層フィルムに易接着層を設ける場合には、塗剤をコーティングして積層する方法が好ましい。塗剤をコーティングする方法としては、本発明における積層フィルムの製造工程とは別工程でコーティングを行う方法、いわゆるオフラインコーティング方法と、本発明における積層フィルムの製造工程中にコーティングを行うことで易接着層を一度に積層させる、いわゆるインラインコーティング方法がある。コストの面や塗布厚みの均一化の面からインラインコーティング方法を採用することが好ましく、その場合に用いられる塗液の溶媒は、環境汚染や防爆性の観点から水系であることが好ましく、水を用いることが最も好ましい態様である。

インラインコーティングで易接着層を積層する場合には、一軸延伸された積層フィルムに連続的に易接着層を構成する塗剤を塗布する。溶媒として水を用いた塗剤（水系塗剤）の塗布方法としては、例えば、リバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法およびダイコート法などを用いることができる。

水系塗剤を塗布する前に、積層フィルムの表面にコロナ放電処理等を施すことが好ましい。これは、積層フィルムと塗剤との接着性が向上し、塗布性も良好となるためである。

易接着層には、発明の効果を損なわない範囲であれば、架橋剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐侯安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑材、顔料、染料、有機または無機の粒子、充填材、界面活性剤等を配合しても良い。

続いて行う幅方向の延伸とは、フィルムの幅方向に分子配向を与えるための延伸を言い、通常はテンターを用いて、フィルムの両端をクリップで把持しながら搬送して、フィルムに熱を加えて予熱した後、幅方向に延伸する。テンター直前に塗布された水系塗剤はこの予熱時に乾燥される。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、２〜１５倍が好ましく、本発明における積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、２〜７倍が特に好ましい。また、延伸温度としては本発明における積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１２０℃が好ましい。二軸延伸された積層フィルムは、平面性、寸法安定性を付与するために、テンター内で延伸温度以上融点以下の熱処理を行うことが好ましい。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷却してワインダーにて巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に弛緩処理などを併用してもよい。

次いで、同時二軸延伸の場合について説明する。同時二軸延伸の場合には、得られたキャストフィルムに、連続的に易接着層を構成する塗剤を塗布する。溶媒として水を用いた塗剤（水系塗剤）の塗布方法としては、例えば、リバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法およびダイコート法などを用いることができる。

水系塗材を塗布する前に、本発明における積層フィルムの表面にコロナ放電処理などを施すことが好ましい。これは、積層フィルムと塗剤との接着性が向上し、塗布性も良好となるためである。次に、塗剤を塗布したキャストフィルム（無延伸フィルム）を同時二軸テンターへ導き、フィルムの両端をクリップで把持しながら搬送して、長手方向と幅方向に同時及び／または段階的に延伸する。同時二軸延伸機としては、パンタグラフ方式、スクリュー方式、駆動モーター方式、リニアモーター方式があるが、任意に延伸倍率を変更可能で、かつ任意の場所で弛緩処理を行うことができる駆動モーター方式もしくはリニアモーター方式が好ましい。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、面積倍率として６〜５０倍が好ましく、面積倍率として８〜３０倍が特に好ましい。特に同時二軸延伸の場合には、面内の配向差を抑制するために、長手方向と幅方向の延伸倍率を同一とするとともに、延伸速度もほぼ等しくなるようにすることが好ましい。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１２０℃が好ましい。二軸延伸されたフィルムは、平面性、寸法安定性を付与するために、引き続きテンター内で延伸温度以上融点以下の熱処理を行うことが好ましい。この熱処理の際に、幅方向での主配向軸の分布を抑制するため、熱処理ゾーンに入る直前及び／または直後に瞬時に長手方向に弛緩処理することが好ましい。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷却してワインダーにて巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に長手方向及び／または幅方向に弛緩処理を行っても良い。熱処理ゾーンに入る直前及び／または直後に瞬時に長手方向に弛緩処理することが好ましい。

以下、実施例に沿って本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。なお、諸特性は以下の方法により測定した。

（１）フィルムの層構成及び層厚み
ミクロトームを用いて断面を切り出したサンプルについて、透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製、Ｈ−７１００ＦＡ型）を用い、加速電圧７５ｋＶでフィルムの断面を４０，０００倍に拡大して観察し、断面部分を撮影して層構成及び層厚みを測定した。また、各層の合計厚みを積層フィルム全体厚みとした。なお、コントラストを高く得るために、ＲｕＯ_４を使用してサンプルを染色した。

フィルムの層構成及び層厚みの具体的な求め方を説明する。約４０，０００倍のＴＥＭ写真を、ＣａｎｏｎＳｃａｎＤ１２３Ｕ（キャノン（株）製）を用いて画像サイズ７２９ｄｐｉで取り込んだ。画像をＪＰＥＧ形式で保存し、次いで、画像処理ソフト（販売元プラネトロン（株）、Ｉｍａｇｃ−Ｐｒｏ Ｐｌｕｓ ｖｅｒ．４）を用いて、該ＪＰＥＧファイルを開き、画像解析を行った。画像解析処理は、垂直シックプロファイルモードで、厚み方向と幅方向の２本のライン間で挟まれた領域における平均の明るさとの関係を、数値データとして読み取った。表計算ソフト（Ｅｘｃｅｌ２０１０）を用いて、位置（ｎｍ）と明るさのデータに対してサンプリングステップ１（間引き１）でデータ採取後、５点移動平均の数値処理を施した。さらに、得られた周期的に明るさが変化するデータを微分し、ＶＢＡ（ビジュアル・ベーシック・フォア アプリケーションズ）プログラムにより、微分曲線の極大値と極小値を読み込み、隣り合うこれらの間隔を１層の層厚みとして算出した。この操作を写真毎に行い、全ての層の層厚みを算出した。得られた層厚みのうち、薄膜層は１μｍ未満の厚みの層とした。Ａ層とＢ層のそれぞれの層において隣り合う層の厚みの差が５０ｎｍ以下の範囲で連続的に単調増加もしくは単調減少配列している群を傾斜構造と定義した。傾斜構造は層番号とＡ層及びＢ層それぞれの層厚みの関係を最小二乗近似した際、そのＲの二乗が０．９０以上となる正もしくは負の傾きを持つものとし、図１の構成を４段の傾斜構造、図２の構成を３段の傾斜構造、図３、図４及び図５の構成を２段の傾斜構造と呼ぶこととした。

（２）厚膜層部を除いた積層比の平均値
（１）フィルムの層構成及び層厚みにて算出される層厚みにおいて、隣接するＡ層とＢ層において、Ａ層の厚みをＢ層の厚みで割ったものと積層比とした。ここで、隣接するＡ層とＢ層とは、Ａ層のみについて一方のフィルム表面から数えたｍ番目のＡ層と、Ｂ層のみについて同表面から数えたｍ番目のＢ層を指す。層厚みが１μｍ未満の層に関して積層比を算出し、全積層比の平均値を厚膜部を除いた積層比の平均値とした。

（３）平均反射率
１ｍ×１ｍのサイズの成型用積層フィルムの中央部から５ｃｍ四方のサンプルを切り出した。次いで、分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４１００ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）を用いて、入射角度Φ＝１０度における相対反射率を測定した。付属の積分球の内壁は、硫酸バリウムであり、標準板は、酸化アルミニウムである。測定波長は、２５０ｎｍ〜１２００ｎｍ、スリットは２ｎｍ（可視）／自動制御（赤外）とし、ゲイン２と設定し、走査速度６００ｎｍ／分で測定した。サンプルの裏面を油性インキで黒塗りした。次いで、波長帯域４００〜７００ｎｍにおける平均反射率を算出した。平均反射率の算出方法は、波長１ｎｍ毎の絶対反射率のデータを用いてシンプソン法公式に基づき、反射曲線と波長帯域で囲まれた面積を計算し、波長帯域の幅である３００ｎｍで除することにより、平均反射率を求めた。なお、シンプソン法についての詳細な説明は、山内二郎他著書の「電子計算機のための数値計算法Ｉ」（培風館）（昭和４０年）に記載されている。

（４）５０ｎｍ毎に区分した帯域と隣接する帯域の平均反射率の差の最大値
１ｍ×１ｍのサイズの成型用積層フィルムの中央部から５ｃｍ四方のサンプルを切り出した。（３）平均反射率にて算出された波長帯域４００〜９００ｎｍにおける相対反射率を４００ｎｍから５０ｎｍずつの間隔で区分（４００〜４５０ｎｍ、４５０〜５００ｎｍ、・・・８５０〜９００ｎｍ）し、各区分された帯域において平均反射率を算出した。波長帯域４５０〜５００ｎｍにおいては、波長帯域４００〜４５０ｎｍの平均反射率の差の絶対値及び波長帯域５００〜５５０ｎｍの平均反射率の差の絶対値を算出、波長帯域５００〜５５０ｎｍ、５５０〜６００ｎｍ、・・・波長帯域８００〜８５０ｎｍにおいても同様に隣接する前後の区分された波長帯域との平均反射率の差の絶対値を算出した。波長帯域４００〜４５０ｎｍにおいては波長帯域４５０〜５００ｎｍとの平均反射率の差の絶対値、波長帯域８５０〜９００ｎｍにおいては波長帯域８００〜８５０ｎｍとの平均反射率の差の絶対値のみを算出した。算出した各平均反射率の差の絶対値の最も数値の大きい値を５０ｎｍ毎に区分した帯域と隣接する帯域の平均反射率の差の最大値とした。

（５）積層むら｜（Ｍ_ｎ−２＋Ｍ_ｎ＋Ｍ_ｎ＋２）／３｜の最大値
１ｍ×１ｍのサイズの成型用積層フィルムの中央部から５ｃｍ四方のサンプルを切り出した。（１）フィルムの層構成及び層厚みにて算出されたＢ層の実測厚みとＢ層の層番号から、表計算ソフト（Ｅｘｃｅｌ２０１０）を用いて傾斜毎の近似曲線の数式を多項式近似曲線の次数２で算出した。Ｂ層の層番号ｎにおけるＢ層の実測厚みをＸ_ｎ、傾斜積層毎に算出した２次の多項式近似曲線から算出される層厚みをＹ_ｎとした場合に、Ｂ層の層番号ｎにおける積層むらＭ_ｎを下記式１にて算出した。なお、Ａ層とＢ層は交互に積層されており、最表層は結晶性の熱可塑性樹脂であるＡ層が好ましいため、Ｂ層の層番号は偶数となり、Ｂ層の層番号ｎにおける前後の層はｎ−２、ｎ＋２層となる。Ｂ層全ての層厚みにおいて積層むらＭ_ｎを算出し、全ての層において前後１層ずつの層と平均化した値を算出した。算出した値の最大値を積層むら｜（Ｍ_ｎ−２＋Ｍ_ｎ＋Ｍ_ｎ＋２）／３｜の最大値とした。
Ｍ_ｎ＝Ｘ_ｎ−Ｙ_ｎ・・・式１
Ｘ_ｎ：Ｂ層の層番号ｎの実測厚み（ｎｍ）
Ｙ_ｎ：傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線から算出されるＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
（６）相関係数の２乗値Ｒ^２の最小値
（５）積層むら｜（Ｍ_ｎ−２＋Ｍ_ｎ＋Ｍ_ｎ＋２）／３｜の最大値にて算出した傾斜毎の２次の多項式近似式算出した際に表計算ソフト（Ｅｘｃｅｌ２０１０）を用いて相関係数の２乗値Ｒ^２を算出し、最もＲ^２の小さい傾斜の値を相関係数の２乗値Ｒ^２の最小値とした。

（７）各層の厚みばらつき比率Ｎｎの平均値ΣＮｎ／ｎ
１ｍ×１ｍのサイズの正方形状の成型用積層フィルムの４角を（１）フィルムの層構成及び層厚みにてＢ層の各厚みを算出した。正方形の対角線上に位置する角をｐ、ｑ、及びｒ、ｓとしたとき、下記式５により、対角線上の位置の層厚み差を、各層の厚みばらつき比率Ｎｎとして算出した。各層の厚みばらつき比率Ｎｎの全Ｂ層の平均値を算出、各層の厚みばらつき比率Ｎｎの平均値ΣＮｎ／ｎとした。

Ｎｎ＝｜［（Ｐｎ―Ｑｎ）／｛（Ｐｎ＋Ｑｎ）／２｝｜＋｜（Ｒｎ―Ｓｎ）／｛（Ｒｎ＋Ｓｎ）／２｝］｜／２｜×１００・・・式５
Ｐｎ＝ｐ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｑｎ＝ｑ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｒｎ＝ｒ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
Ｓｎ＝ｓ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
（８）フィルム表面の１ｍ×１ｍの範囲における彩度
１ｍ×１ｍのサイズの成型用積層フィルムの縦横共に１０ｃｍ間隔で計１２１箇所から５ｃｍ四方のサンプルを切り出した。分光測色計（コニカミノルタセンシング（株）製、ＣＭ−３６００ｄ）を用いて、各サンプルにおけるａ^＊、ｂ^＊を測定し、ｎ数５の平均値を算出した。

なお、測定の手段としては、分光測色計付属のゼロ構成ボックスで反射率のゼロ構成を行い、次いで、付属の白色校正板を用いて１００％校正を行った後、以下の条件でフィルムのａ^＊ｂ^＊を測定した。
モード：反射、ＳＣＩ／ＳＣＥ同時校正
測定径：８ｍｍ
サンプル：非測定面側に黒インキを塗布
光源：Ｄ６５
次に、ａ^＊、ｂ^＊より彩度Ｃ^＊を求めた。彩度Ｃ^＊の定義は以下の通りである。１ｍ×１ｍの範囲における最大彩度Ｃ^＊は１ｍ×１ｍの範囲から縦横共に１０ｃｍ間隔で計１２１箇所から採取した各サンプルにおいて彩度Ｃ^＊が最大となる値とした。
・彩度Ｃ^＊＝（（ａ^＊）^２＋（ｂ^＊）^２）^１／２
彩度Ｃ^＊の計算に用いたａ^＊、ｂ^＊はＳＣＩの値とした。

（９）Ａ層とＢ層の層界面の平均厚み
本発明の積層フィルムからサンプルを切り出し、サンプル片の厚み方向断面を観察面とするようにフィルムの断面方向から垂直に凍結切片作製用ウルトラミクロトーム（ライカマイクロシステムズ社製Ｕｌｔｒａｃｕｔ ＦＣＳ）を用いて−１００℃で切削し、断面サンプルを採取した。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて、観察モードはタッピングモード、探針はシリコンカンチレバー、走査範囲は２．０×２．０μｍにて断面観察を行い、ＡＦＭ観察像を取得した。層厚みの観察が比較的容易である、薄膜層において最も厚い層からＡ層及びＢ層各５層分が入り、Ａ層とＢ層の層界面を１０層計測できる範囲にて観察を行い、断面プロファイルモードで図９に示すようなＡＦＭ高さプロファイルを取得した。図９において横方向が積層フィルムの厚み方向位置を示し、縦方向がＡＦＭ高さを示す。相対的に固いＡ層の高さをＸ（ｎｍ）２５、相対的に軟らかいＢ層の高さをＹ（ｎｍ）２６とする。Ａ層及びＢ層の高さＸ、Ｙは厚み方向位置５ｎｍ刻みの位置にて測定して求めたＡＦＭ高さについて、各測定点を対象に１０点移動平均処理を行い、最小値をＡ層のＡＦＭ高さＸ２５、最大値をＢ層のＡＦＭ高さＹ２６とした。Ａ層とＢ層の層界面は下記式６及び７で求めるＡ層側層界面境界ＡＦＭ高さ２７及びＢ層側層界面境界ＡＦＭ高さ２８に挟まれた厚み方向位置においてＡＦＭ高さが単調に増加または減少している位置区間をＡ層とＢ層の層界面厚み２９とし、Ａ層とＢ層の層界面厚み２９の１０箇所における平均値をＡ層とＢ層の層界面の平均厚みとした。
Ａ層側層界面境界ＡＦＭ高さ＝Ｘ＋｜Ｙ−Ｘ｜×０．２・・・式６
Ｂ層側層界面境界ＡＦＭ高さ＝Ｙ−｜Ｙ−Ｘ｜×０．２・・・式７
（１０）１．３倍延伸前後の彩度変化ΔＣ
フィルムを長手方向および幅方向に長さ１５０ｍｍ×幅１５ｍｍの矩形に切り出しサンプルとした。長さ７５ｍｍ位置に該当する中心部の箇所を（８）フィルム表面の１ｍ×１ｍの範囲における彩度の手法にてａ^＊、ｂ^＊を算出、測定位置をマーキングした。引張試験機（オリエンテック製テンシロンＵＣＴ−１００）を用いて、初期引張チャック間距離５０ｍｍとし、引張速度を３００ｍｍ／分としてフィルムの長手方向と幅方向にそれぞれ引張試験を行った。測定は予め１５０℃に設定した恒温層中にフィルムサンプルをセットし、９０秒間の予熱の後で引張試験を行い、サンプルが３０％伸長したとき延伸を停止させた。延伸させたサンプルのマーキング部に該当する位置のａ^＊、ｂ^＊を算出、下記式９により１．３倍延伸前後の彩度変化ΔＣを算出した。

ΔＣ＝（（ａ１^＊―ａ２^＊）^２＋（ｂ１^＊―ｂ２^＊）^２）^１／２・・・式９
ａ１^＊＝３０％延伸前のａ^＊
ａ２^＊＝３０％延伸後の延伸前の測定箇所と同一箇所のａ^＊
ｂ１^＊＝３０％延伸前のｂ^＊
ｂ２^＊＝３０％延伸後の延伸前の測定箇所と同一箇所のｂ^＊
（１１）ヘイズ
２３℃、相対湿度６５％の条件で、成型用積層フィルムを２時間放置した後、全自動直読ヘイズコンピューター（スガ試験機（株）製、ＨＧＭ−２ＤＰ）を用いて測定し、ｎ数３の平均値を算出した。

（１２）面内平均屈折率
積層フィルムのＡ層、Ｂ層のそれぞれについて、厚さ０．５ｍｍのフィルムに切り取り、幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの大きさの試験片を切り出し、アッベ屈折率計（アタゴ製、ＤＲ−Ｍ２）によって、２３℃、５８９ｎｍ波長における屈折率を測定し、ｎ数５の平均値を算出した。

（１３）延伸前後の色調変化
（１０）１．３倍延伸前後の彩度変化ΔＣの測定結果より、以下の基準で評価した。
○：ΔＣ＝７以下
×：ΔＣ＝７を超える
（１４）１２°〜６０°視認時の色調変化
１ｍ×１ｍのサイズの成型用積層フィルムの中央部から５ｃｍ四方のサンプルを切り出した。次いで、分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４１００ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）を用いて、付属の１２°正反射付属装置Ｐ／Ｎ１３４−０１０４を取り付け、入射角度φ＝１２度における波長２５０〜１２００ｎｍのａ^＊、ｂ^＊を算出した。測定モードは色彩測定、スリットは２ｎｍ（可視）／自動制御（赤外）、ゲインは２と設定し、走査速度を６００ｎｍ／分で測定、光源をＤ６５、視野角度Φ＝１２度に設定した。付属の積分球の内壁は、硫酸バリウムであり、標準板は、酸化アルミニウムである。サンプルの裏面を油性インキで黒塗りした。入射角６０°におけるａ^＊、ｂ^＊は、日立製作所製 分光光度計（Ｕ−４１００ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍａｔｅｒ）に付属の角度可変絶対反射装置を取り付け、測定を行なった。下記式１０により１２°〜６０°視認時の色調変化を算出した。
ΔＣ’＝（（ａ３^＊―ａ４^＊）^２＋（ｂ３^＊―ｂ４^＊）^２）^１／２・・・式１０
ΔＣ’＝１２°〜６０°視認時の色調変化
ａ３^＊＝入射角１２°測定時のａ^＊
ａ４^＊＝入射角６０°測定時のａ^＊
ｂ３^＊＝入射角１２°測定時のｂ^＊
ｂ４^＊＝入射角６０°測定時のｂ^＊
ΔＣ’の算出結果より、以下の基準で評価した。
○：ΔＣ’＝７以下
×：ΔＣ’＝７を超える
（１５）色目視認性
（８）フィルム表面の１ｍ×１ｍの範囲における彩度の測定結果より、以下の基準で評価した。
○：Ｃ^＊＝７未満
×：Ｃ^＊＝７以上
（１６）薄膜層デラミ性
（１０）Ａ層とＢ層の層界面の平均厚みの算出結果より、以下の基準で評価した。

○：Ａ層の面内平均屈折率とＢ層の面内平均屈折率の差が０．５５未満、又は、Ａ層とＢ層の層界面の平均厚みが１２ｎｍ以上
△：Ａ層の面内平均屈折率とＢ層の面内平均屈折率の差が０．５５以上、かつ、Ａ層とＢ層の層界面の平均厚みが８ｎｍ以上１２ｎｍ未満
×：Ａ層の面内平均屈折率とＢ層の面内平均屈折率の差が０．５５以上、かつＡ層とＢ層の層界面の平均厚みが８ｎｍ未満。

（１７）デラミ性
スコット耐揉摩耗試験機（東洋精機製）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−６３２８にしたがって測定する。サンプルサイズは幅１０ｍｍ、長さ２００ｍｍ、荷重２．５ｋｇ、チャック間距離３０ｍｍ、ストローク距離５０ｍｍ、速度１２０回／分で測定し、２０回往復した後にデラミしているか、以下の基準で判定した。
○：目視でデラミ視認できない
×：目視でデラミ視認
（１８）金属光沢性
（２）平均反射率の測定結果より、以下の基準で評価した。
○：３０％以上
×：３０％未満
（１９）光線透過性
サンプルを５ｃｍ×５ｃｍに切り出し、直読式ヘイズメーターＨＧＭ−２ＤＰ（スガ試験機製作所製）を用い、ｎ数３の平均値で光線透過率を算出し、以下の基準で評価した。
○：２５％以上
×：２５％未満
（原料）
（樹脂Ａ−１）
テレフタル酸ジメチル１００重量部、エチレングリコール６０重量部の混合物に、テレフタル酸ジメチル量に対して酢酸マグネシウム０．０９重量部、三酸化アンチモン０．０３重量部を添加して、常法により加熱昇温してエステル交換反応を行う。次いで、該エステル交換反応生成物に、テレフタル酸ジメチル量に対して、リン酸８５％水溶液０．０２０重量部を添加した後、重縮合反応槽に移行する。さらに、加熱昇温しながら反応系を除々に減圧して１ｍｍＨｇの減圧下、２９０℃で常法により重縮合反応を行い、固有粘度（ＩＶ）０．６３のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴということがある）を得た。

（樹脂Ａ−２）
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００重量部、エチレングリコール６０重量部の混合物を用いた以外は、樹脂Ａ−１と同様に重合を行い、固有粘度（ＩＶ）０．６７のポリエチレンナフタレート（以下、ＰＥＮということがある）を得た。

（樹脂Ａ−３）
樹脂Ａ−１と樹脂Ａ−２を１：１で混合したポリエステル。

（樹脂Ｂ−１）
固有粘度（ＩＶ）０．５５のスピログリコール（ＳＰＧ）２１ｍｏｌ％、及びシクロヘキサンジカルボン酸（ＣＨＤＣ）２４ｍｏｌ％を共重合したポリエチレンテレフタレート。使用したチップの任意に抜き出した１００粒の平均サイズは楕円部断面積が７．３ｍｍ^２、チップ高さ４．１ｍｍであり、押出機供給直前のチップの含有水分率は６２０ｐｐｍであった。

（樹脂Ｂ−２）
固有粘度（ＩＶ）０．７２のシクロヘキサンジメタノール（ＣＨＤＭ）３０ｍｏｌ％を共重合したポリエチレンテレフタレート。

（樹脂Ｂ−３）
樹脂Ａ−１と樹脂Ｂ−２を１：３で混合した共重合ポリエチレンテレフタレート。
（樹脂Ｂ−４）
固有粘度（ＩＶ）０．５５のスピログリコール（ＳＰＧ）２１ｍｏｌ％、及びシクロヘキサンジカルボン酸（ＣＨＤＣ）２４ｍｏｌ％を共重合したポリエチレンテレフタレート。使用したチップの任意に抜き出した１００粒の平均サイズはだ楕円部の断面積は９．３ｍｍ^２、チップ高さ４．９ｍｍであり、押出機供給直前のチップの含有水分率は３０００ｐｐｍであった。

（樹脂Ｂ−５）
樹脂Ａ−１と樹脂Ｂ−２を１：１で混合した共重合ポリエチレンテレフタレート。

（樹脂Ｂ−６）
樹脂Ａ−１と樹脂Ｂ−２を６５：３５で混合した共重合ポリエチレンテレフタレート。

（易接着層の組成物−I）
・アクリル・ウレタン共重合樹脂（ａ）の水分散体：山南合成化学（株）製、サンナロンＷＧ６５８（固形分濃度３０重量％）
・イソシアネート化合物（ｂ）の水分散体：第一工業製薬（株）製、エラストロンＥ−３７（固形分濃度２８重量％）
・エポキシ化合物（ｃ）の水分散体：ＤＩＣ（株）製、ＣＲ−５Ｌ（固形分濃度１００重量％）
・ポリチオフェン構造を有する化合物及び陰イオン構造を有する化合物からなる組成物（ｄ）の水分散体（固形分濃度１．３重量％）
・オキサゾリン化合物（ｅ）の水分散体：日本触媒（株）製、エポクロスＷＳ−５００（固形分濃度４０重量％）
・カルボジイミド化合物（ｆ）の水分散体：日清紡（株）製、カルボジライトＶ−０４（固形分濃度４０％）
・シリカ粒子（ｇ）：日揮触媒化成（株）製、スフェリカスラリー１４０（固形分濃度４０％）
・アセチレンジオール系界面活性剤（ｈ）：日信化学（株）製、オルフィンＥＸＰ４０５１（固形分濃度５０％）
・水系溶媒（ｉ）：純水
上記した（ａ）〜（ｈ）を固形分重量比で、（ａ）／（ｂ）／（ｃ）／（ｄ）／（ｅ）／（ｆ）／（ｇ）／（ｈ）＝１００／１００／７５／２５／６０／６０／１０／１５となるように混合し、かつ前記水系塗剤の固形分濃度が３重量％となるように（ｉ）を混合し、濃度調整した。

[実施例１]
樹脂Ａ−１及び樹脂Ｂ−１を、各々別のベント付き二軸押出機で樹脂Ａ−１を３００℃、樹脂Ｂ−１を２８５℃の溶融状態とした後、ギヤポンプ及びフィルターを介して、２２５個のスリットを有する部材を別個に４個有する９０１層のフィードブロックにて合流させた。この際、フィードブロックのスリット板における、各スリット幅は、目標値の−３％乃至＋３％の範囲であった。なお、厚膜層となる両側の最表層は樹脂Ａ−１となり、樹脂Ａ−１と樹脂Ｂ−１が交互に積層され、かつ隣接する樹脂Ａ−１からなる層を樹脂Ｂ−１からなる層の層厚みで割った積層比は１．００となるようにした。次いで、ダイスリットからシート状に押し出した。この際、フィードブロックと口金とを接続する流路における流路方向に垂直な任意の断面のシート幅方向寸法Ｗは１９０ｍｍ、シート厚み方向寸法Ｔは３２ｍｍ、前記口金の吐出口のシート幅方向寸法Ｗｄは９５０ｍｍ、前記積層体の最表層の最小シート厚み方向寸法Ｌは１２．４ｍｍであった。次いで、静電印加で表面温度２５℃に保たれたキャスティングドラムに密着させて急冷固化し、キャストフィルムを得た。

得られたキャストフィルムを７５℃に設定したロール群で加熱した後、延伸区間長１００ｍｍの間で、フィルム両面からラジエーションヒーターにより急速加熱しながら、縦方向に３．３倍延伸し、その後一旦冷却して一軸延伸フィルムを得た。次いで、該一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施し、フィルムの塗れ張力を５５ｍＮ／ｍとし、＃４のメタバーで易接着層の組成物−Iをフィルムの両面に塗布した。

得られた一軸延伸フィルムをテンターに導き、１００℃の熱風予熱後、１１０℃の温度で横方向に３．５倍延伸した。延伸したフィルムは、そのままテンター内で２４０℃の熱風にて熱処理を行い、次いで、同温度にて幅方向に７％の弛緩処理を施し、その後、室温まで冷却してワインダーにて巻き取り、二軸延伸フィルムを得た。得られた二軸延伸された積層フィルムのフィルム全体厚みは、１２２μｍであった。この積層フィルムの層設計は図１の通りであり、スリット間隙を調整することにより、各層の層厚みを制御した。該積層フィルムの厚み方向の断面をＴＥＭ観察し、画像処理により層厚み分布を求めた。最表層となる層番号１及び層番号９０１の層厚みは何れも６μｍであり、樹脂Ａ−１で構成される層番号２２６、層番号４５１、及び層番号６７６の層厚みは４μｍであり、厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０１であった。この成型用積層フィルムの特性及び評価結果を表１に示す。

（実施例２）
樹脂Ｂ−１を樹脂Ｂ−２に変更した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０２であった。結果を表１に示す。

（実施例３）
樹脂Ｂ−１を樹脂Ｂ−３に変更した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．００であった。結果を表１に示す。

（実施例４）
樹脂Ａ−１を樹脂Ａ−３、樹脂Ｂ−１を樹脂Ｂ−２に変更した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は０．９９であった。結果を表１に示す。

（実施例５）
フィルムの層設計を図２となるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚み調整し、積層フィルム全体厚みを１２８μｍとした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。最表層となる層番号１及び層番号９０１の層厚みは何れも８μｍであり、樹脂Ａ−１で構成される層番号３０１、層番号６０１の層厚みは４．５μｍであり、厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０１であった。この成型用積層フィルムの特性及び評価結果を表１に示す。

（実施例６）
フィルムの層設計を図３となるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚み調整し、積層フィルム全体厚みを１３３μｍとした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。最表層となる層番号１及び層番号９０１の層厚みは何れも１０μｍであり、樹脂Ａ−１で構成される層番号４５１の層厚みは５．０μｍであり、厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は０．９９であった。この成型用積層フィルムの特性及び評価結果を表１に示す。

（実施例７）
フィルムの層設計を図４となるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚み調整し、積層フィルム全体厚みを７６μｍとした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。最表層となる層番号１及び層番号２６１の層厚みは何れも１５μｍであり、樹脂Ａ−１で構成される層番号４５１の層厚みは６．０μｍであり、厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は０．９９であった。この成型用積層フィルムの特性及び評価結果を表１に示す。

（実施例８）
実施例１の手順で作成した成型用積層フィルムの片面に、スクリーン印刷にて黒色の架橋性インキ層を形成した後、バインダー層を形成させた。印刷条件は以下の通り。架橋性インキ層の厚みは５μｍであった。
＜黒色の架橋性インキ＞
着色顔料：三菱化学（株）製 カーボンブラック ＭＡ１００ ８重量部
ポリエステルポリオール樹脂：東洋紡（株）製 バイロン２００ ２５重量部
溶剤：シクロヘキサン ３５重量部
架橋剤：イソシアネート系架橋剤 日本ポリウレタン工業（株）製 コロネート２０９６ １０重量部
スクリーンメッシュ：Ｔ−２２５
乾燥：８０℃×１０分（ボックス乾燥）
塗布回数：１回
＜バインダー＞
バインダー：帝国インキ製造株式会社製 ＩＭＢ−００３
スクリーンメッシュ：Ｔ−２２５
乾燥：９０℃×６０分（ボックス乾燥）
前記印刷を行った加飾シートを所定の寸法にカットし、金型にセットして、以下の条件でインサート成型して加飾成型体を作製した。
型締圧力：８０ｔｏｎ
金型温度：８０℃
成型樹脂：帝人化成株式会社製 ＰＣ パンテライト１２２５Ｌ
成型樹脂温度：２９５℃
射出速度：２００ｍｍ／ｓ
成型品寸法(Ｌ×Ｗ×Ｈ)：１５０×５０×２ｍｍ
ゲート：φ２ｍｍピンゲート。
結果を表１に示す。

（実施例９）
樹脂Ａ−１及び樹脂Ｂ−１を、各々別のベント付き二軸押出機で樹脂Ａ−１を２７０℃、樹脂Ｂ−１を２７０℃の溶融状態とした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０１であった。結果を表２に示す
（比較例１）
厚膜部を除いた積層比の平均値が１．５０となるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚みを調整した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．５１であった。結果を表２に示す。

（比較例２）
厚膜部を除いた積層比の平均値が０．６５となるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚みを調整した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は０．６６であった。結果を表２に示す。

（比較例３）
樹脂Ｂ−１を樹脂Ｂ−４に変更した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０１であった。結果を表２に示す。

（比較例４）
樹脂Ａ−１で構成される層番号１、層番号９０１の層厚みが０．５μｍとなるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚みを調整し、積層フィルム全体厚みを１１１μｍにした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は０．９８であった。結果を表２に示す。

（比較例５）
樹脂Ａ−１で構成される層番号１、層番号９０１の層厚みが２２．０μｍとなるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚みを調整し、積層フィルム全体厚みを１５６μｍにした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は０．９８であった。結果を表２に示す。

（比較例６）
樹脂Ａ−１で構成される層番号２２６、層番号４５１、及び層番号６７６の層厚みが１．５μｍとなるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚みを調整し、積層フィルム全体厚みを１１５μｍにした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０３であった。結果を表２に示す。

（比較例７）
樹脂Ａ−１で構成される層番号２２６、層番号４５１、及び層番号６７６の層厚みが８．０μｍとなるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚みを調整し、積層フィルム全体厚みを１３４μｍにした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．００であった。結果を表２に示す。

（比較例８）
樹脂Ｂ−１を樹脂Ｂ−５に変更した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０１であった。結果を表２に示す。

（比較例９）
樹脂Ａ−１を樹脂Ａ−２、樹脂Ｂ−１を樹脂Ｂ−６に変更した以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．０１であった。結果を表２に示す。

（比較例１０）
フィルムの層設計を図５となるようにフィードブロックのスリット形状を変更して厚み調整し、積層フィルム全体厚みを６４μｍとした以外は実施例１と同様にして、成型用積層フィルムを得た。最表層となる層番号１及び層番号２０１の層厚みは何れも１５μｍであり、樹脂Ａ−１で構成される層番号４５１の層厚みは６．０μｍであった。厚膜層部をのぞいた積層比の平均値は１．００であった。この成型用積層フィルムの特性及び評価結果を表２に示す。

本発明の用途は特に限定されないが、自動車関係の装飾部品をはじめとして各種家電機器、情報通信機器、建築部材などの製品（部品）などに特に好適に用いることができるものである。

１：層番号
２：層厚み
３：厚膜層
４：Ａ層の層厚み分布
５：Ｂ層の層厚み分布
６ ： 部材板
７ ： 樹脂導入板
８ ： スリット板
９ ： 樹脂導入板
１０ ： スリット板
１１ ： 樹脂導入板
１２ ： スリット板
１３ ： 樹脂導入板
１４ ： スリット板
１５ ： 樹脂導入板
１６ ： 部材板
１７ ： フィードブロック
１８ ： 導入口
１９ ： 液溜部
２０ ： 各スリットの頂部の稜線
２１ ： 各スリットの頂部の稜線の上端部
２２ ： 各スリットの頂部の稜線の下端部
２３ ： スリットへ導入される樹脂
２４ ： 流出口
２５ ： Ａ層のＡＦＭ高さ
２６ ： Ｂ層のＡＦＭ高さ
２７ ： Ａ層側層界面境界ＡＦＭ高さ
２８ ： Ｂ層側層界面境界ＡＦＭ高さ
２９ ： Ａ層とＢ層の層界面の厚み

Claims (8)

1. 下記（１）〜（３）の全てを満たすことを特徴とする、成型用積層フィルム。
   （１）結晶性の熱可塑性樹脂Ａからなる層（以下、Ａ層という）と非晶性の樹脂を含む熱可塑性樹脂Ｂからなる層（以下、Ｂ層という）を有し、前記Ａ層とＢ層が厚み方向に交互に合計２５０層以上積層され、両側の最表層の厚みが１μｍ以上２０μｍ以下であり、厚みが３μｍ以上６μｍ以下である層を内層に１層以上有する積層フィルムであること。
   （２）波長帯域４００〜７００ｎｍにおける平均反射率が３０％以上７５％以下であり、波長４００ｎｍ〜９００ｎｍにおいて４００ｎｍから５０ｎｍずつの間隔で区分された帯域（４００〜４５０ｎｍ、４５０〜５００ｎｍ、・・・８５０〜９００ｎｍ）の平均反射率が、いずれの帯域においても隣接する帯域との平均反射率の差が１０％以下であること。
   （３）層厚み１μｍ未満である薄膜層において、Ａ層とＢ層のそれぞれの層において隣り合う層の厚みの差が５０ｎｍ以下の範囲で連続的に単調増加もしくは単調減少している群である傾斜構造を２段以上有すること。
2. 下記式でＢ層の各層積層むらＭ_ｎを求めたとき、全ての層において求めたＭ_ｎ−２、Ｍ_ｎ、Ｍ_ｎ＋２の平均値の絶対値が１０ｎｍ以下、Ｒ^２値が０．９０以上１．００以下である請求項１に記載の成型用積層フィルム。
   Ｍｎ＝Ｘｎ−Ｙｎ
   ０．９０≦Ｒ^２≦１．００
   Ｘｎ：Ｂ層の層番号ｎの実測厚み（ｎｍ）
   Ｙｎ：傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線から算出されるＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
   Ｒ^２：傾斜構造毎に算出した層厚みと層番号にて算出される２次の多項式近似曲線相関係数の２乗値
3. 以下の方法によりＢ層の各層の厚みばらつき比率Ｎｎを求めたとき、全Ｂ層のＮｎの平均値（ΣＮｎ／ｎ）が１０％以下である請求項１又は２に記載の成型用積層フィルム。
   ［Ｂ層の各層の厚みばらつき比率Ｎｎの求め方］
   成型用積層フィルムを１ｍ×１ｍの正方形状にカットする。カットした正方形状の成型用積層フィルムの４角にてＢ層の各層厚みを測定する。正方形の対角線上に位置する角をｐ、ｑ、およびｒ、ｓとしたとき、下記式により、対角線上の位置の層厚み差を、各層の厚みばらつき比率Ｎｎとして求める。
   Ｎｎ＝｜［（Ｐｎ―Ｑｎ）／｛（Ｐｎ＋Ｑｎ）／２｝｜＋｜（Ｒｎ―Ｓｎ）／｛（Ｒｎ＋Ｓｎ）／２｝］｜／２×１００
   Ｐｎ＝ｐ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
   Ｑｎ＝ｑ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
   Ｒｎ＝ｒ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
   Ｓｎ＝ｓ位置のＢ層の層番号ｎの層厚み（ｎｍ）
4. 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定されるＡ層とＢ層の層界面の平均厚みが８ｎｍ以上である請求項１〜３のいずれかに記載の成型用積層フィルム。
5. 成型用積層フィルムを１５０℃雰囲気下で１．３倍に延伸した前後の反射光の彩度変化ΔＣが７以下である請求項１〜４のいずれかに記載の成型用積層フィルム。
6. 請求項１〜５の何れかに記載の型用積層フィルムの少なくとも片面に、アクリル・ウレタン共重合樹脂と２種類以上の架橋剤からなる易接着層を有する積層フィルム。
7. 請求項１〜５の何れかに記載の成型用積層フィルムを用いた成型体。
8. 請求項６に記載の積層フィルムを用いた成型体。
   

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