JP2017146152A - ウエハの検査装置、ウエハの検査方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 126
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
-
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67248—Temperature monitoring
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
- H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/20—Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
- H01L22/24—Optical enhancement of defects or not directly visible states, e.g. selective electrolytic deposition, bubbles in liquids, light emission, colour change
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- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/20—Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Computer Hardware Design (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract
Description
第2の目的は、ウエハの表面から裏面まで貫通したクラックを検出するウエハの検査方法を得ることである。
第3の目的は、ウエハの表面から裏面まで貫通したクラックを検出するウエハの検査方法を用いた半導体装置の製造方法を得ることである。
図1は、本発明の実施の形態1におけるウエハの検査装置100の断面図である。ウエハの検査装置100は、ステージ14を備える。ステージ14は、上面が開放された筐体である。ステージ14の上面には、ウエハ10を保持するためのウエハ保持ステージ12が配置される。ここで、ウエハ10には検査対象である半導体装置が形成されている。ステージ14およびウエハ保持ステージ12は、ウエハ保持機構16を構成する。
図4は、実施の形態2におけるウエハの検査装置200の断面図である。本実施の形態では、ウエハの検査装置200は、圧力調整部230を備える。圧力調整部230は、ウエハ保持機構216およびウエハ10によって囲まれた空間18を加圧する。本実施の形態では、圧力調整部230は、空間18にガスを入れることで加圧を行う。この時、空間18の圧力はウエハ10の厚さに応じて調整する。本実施の形態では、加圧前との差圧を0.5kPa以下に設定する。
図5は、実施の形態3におけるウエハの検査装置300の断面図である。ウエハの検査装置300は、圧力調整部230が温度調整部332に置き換わった以外は、ウエハの検査装置200と同様である。温度調整部332は、ウエハ10の温度を調整する。本実施の形態ではウエハ10を加熱することで、ウエハ10に応力を与える。これにより、クラックの隙間が広がる。従って、ウエハ10を加熱した状態で受光工程を実施することで、実施の形態2と同様に、潜在したクラックを検出することが出来る。
Claims (24)
- ウエハを保持するためのウエハ保持機構と、
前記ウエハに遮断され、前記ウエハの第1面から第2面までを貫通したクラックを通過する照射光を前記第1面に照射する光源と、
前記第2面側に設けられ、前記ウエハを通過した前記照射光を受光し、受光した前記照射光に応じた信号を発する受光部と、
を備えることを特徴とするウエハの検査装置。 - 前記照射光は、波長が1100nm以下であることを特徴とする請求項1に記載のウエハの検査装置。
- 前記照射光は、非赤外光であることを特徴とする請求項1に記載のウエハの検査装置。
- 前記受光部は、前記照射光の周波数に感度を有することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のウエハの検査装置。
- 前記信号を用いて前記クラックの有無を判定する判定部を備えることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載のウエハの検査装置。
- 前記信号は、前記ウエハを通過した前記照射光の輝度を示す信号を含み、
前記判定部は、前記輝度を閾値と比較することを特徴とする請求項5に記載のウエハの検査装置。 - 前記光源は、前記ウエハと前記ウエハ保持機構によって遮光された空間に配置されることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載のウエハの検査装置。
- 前記空間の圧力を調整する圧力調整部を備え、
前記ウエハ保持機構は、前記ウエハを吸着するための吸着機構を備えることを特徴とする請求項7に記載のウエハの検査装置。 - 前記圧力調整部は、前記空間を加圧することを特徴とする請求項8に記載のウエハの検査装置。
- 前記圧力調整部は、前記空間を減圧することを特徴とする請求項8に記載のウエハの検査装置。
- 前記ウエハを加熱する温度調整部を備えることを特徴とする請求項1〜10の何れか1項に記載のウエハの検査装置。
- 前記光源、前記ウエハ保持機構および前記受光部を外部空間から遮光するための筐体を備えることを特徴とする請求項1〜11の何れか1項に記載のウエハの検査装置。
- ウエハに遮断され、前記ウエハの第1面から第2面までを貫通したクラックを通過する照射光を前記第1面に照射した状態で、前記第2面側に設けられた受光部によって前記ウエハを通過した前記照射光を受光する受光工程と、
前記受光部が発する、前記ウエハを通過した前記照射光に応じた信号から前記クラックの有無を判定する判定工程と、
を備えることを特徴とするウエハの検査方法。 - 前記照射光は、波長が1100nm以下であることを特徴とする請求項13に記載のウエハの検査方法。
- 前記照射光は、非赤外光であることを特徴とする請求項13に記載のウエハの検査方法。
- 前記受光部は、前記照射光の周波数に感度を有することを特徴とする請求項13〜15の何れか1項に記載のウエハの検査方法。
- 前記信号は、前記ウエハを通過した前記照射光の輝度を示す信号を含み、
前記判定工程は、前記輝度を閾値と比較する工程を含むことを特徴とする請求項13〜16の何れか1項に記載のウエハの検査方法。 - 前記照射光は、前記ウエハと、前記ウエハを保持するウエハ保持機構によって遮光された空間に配置された光源から発せられることを特徴とする請求項13〜17の何れか1項に記載のウエハの検査方法。
- 前記受光工程は、
前記ウエハ保持機構に前記ウエハを吸着する工程と、
前記空間の圧力を調整する圧力調整工程と、
を備えることを特徴とする請求項18に記載のウエハの検査方法。 - 前記圧力調整工程は、前記空間を加圧することを特徴とする請求項19に記載のウエハの検査方法。
- 前記圧力調整工程は、前記空間を減圧することを特徴とする請求項19に記載のウエハの検査方法。
- 前記受光工程は、前記ウエハを加熱する工程を備えることを特徴とする請求項13〜21の何れか1項に記載のウエハの検査方法。
- 前記受光工程は、前記照射光を発する光源、前記ウエハおよび前記受光部を外部空間から遮光する工程を含むことを特徴とする請求項13〜22の何れか1項に記載のウエハの検査方法。
- 請求項13〜23の何れか1項に記載のウエハの検査方法を実施する工程を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016026900A JP6658051B2 (ja) | 2016-02-16 | 2016-02-16 | ウエハの検査装置、ウエハの検査方法および半導体装置の製造方法 |
KR1020160176343A KR20170096576A (ko) | 2016-02-16 | 2016-12-22 | 웨이퍼의 검사 장치, 웨이퍼의 검사 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
DE102017200450.9A DE102017200450A1 (de) | 2016-02-16 | 2017-01-12 | Wafer-Untersuchungsvorrichtung, Wafer-Untersuchungsverfahren und Verfahren zur Fertigung einer Halbleitervorrichtung |
CN201710083811.6A CN107086185B (zh) | 2016-02-16 | 2017-02-16 | 晶片的检查装置、检查方法以及半导体装置的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016026900A JP6658051B2 (ja) | 2016-02-16 | 2016-02-16 | ウエハの検査装置、ウエハの検査方法および半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017146152A true JP2017146152A (ja) | 2017-08-24 |
JP6658051B2 JP6658051B2 (ja) | 2020-03-04 |
Family
ID=59410338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016026900A Active JP6658051B2 (ja) | 2016-02-16 | 2016-02-16 | ウエハの検査装置、ウエハの検査方法および半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6658051B2 (ja) |
KR (1) | KR20170096576A (ja) |
CN (1) | CN107086185B (ja) |
DE (1) | DE102017200450A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2019046961A (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-22 | Tdk株式会社 | 吸着ノズル及びこれを備える外観検査装置、並びに、回路基板の製造方法 |
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-
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- 2016-02-16 JP JP2016026900A patent/JP6658051B2/ja active Active
- 2016-12-22 KR KR1020160176343A patent/KR20170096576A/ko not_active Application Discontinuation
-
2017
- 2017-01-12 DE DE102017200450.9A patent/DE102017200450A1/de active Pending
- 2017-02-16 CN CN201710083811.6A patent/CN107086185B/zh active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN107086185B (zh) | 2020-08-14 |
DE102017200450A1 (de) | 2017-08-17 |
JP6658051B2 (ja) | 2020-03-04 |
CN107086185A (zh) | 2017-08-22 |
KR20170096576A (ko) | 2017-08-24 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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