JP2015132625A - 異物検査装置、異物検査方法 - Google Patents
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Abstract
Description
これにより、対象物上の検査領域の周囲の各方向から検査光を照射し、対象物上を散乱反射した検査光を受光部で受光することができる。検査領域の周囲の各方向から検査光を照射することで、検出精度を高めることができる。
また、前記光源部は、例えば前記対象物の検査領域の周囲から前記検査領域へと検査光を照射する。前記光源部および前記第1の偏光フィルタは、平面上中空部分を有するように形成され、前記受光部および前記第2の偏光フィルタは、前記対象物から見て前記光源部および前記第1の偏光フィルタの上方に配置されることが望ましい。
まず、図1を参照して、本実施形態の異物検査装置1について説明する。図1(a)は異物検査装置1の概略構成を示す図であり、図1(b)は光源部11や受光部12等を示す斜視図である。
図2(a)は、検査の対象となる対象物20について示す図である。対象物20は透明の基材21上にパターン22を形成したものである。図に示すように、パターン22の幅および間隔は0.5μm程度となっている。なお、対象物20は例えばフォトマスクであり、ガラス基板である基材21上で、金属系薄膜によるパターン22を形成したものであるが、対象物20の種類、あるいは基材21やパターン22の材質がこれらに限定されることはない。例えば、対象物20は半導体集積回路やカラーフィルタなどであってもよい。
次に、図1に示す異物検査装置1による異物検査方法について説明する。なお、異物検査の前段階では、対象物20のセットとアライメント、検査領域20aの設定、および光学系のキャリブレーションなどが行われる。
11:光源部
12:受光部
13、14:偏光フィルタ
15:検出処理部
20:対象物
21:基材
22:パターン
30:異物
40:検査光
Claims (6)
- 基材にパターンを形成した対象物上の異物を検査する異物検査装置であって、
第1の偏光フィルタを介して前記対象物に検査光を照射する光源部と、
前記対象物から反射した前記検査光を、第2の偏光フィルタを介して受光する受光部と、
を有し、
前記第1の偏光フィルタと前記第2の偏光フィルタの偏光方向が直交することを特徴とする異物検査装置。 - 前記光源部は、前記対象物の検査領域の周囲から前記検査領域へと検査光を照射することを特徴とする請求項1記載の異物検査装置。
- 前記光源部および前記第1の偏光フィルタは、平面上中空部分を有するように形成され、
前記受光部および前記第2の偏光フィルタは、前記対象物から見て前記光源部および前記第1の偏光フィルタの上方に配置されることを特徴とする請求項1または請求項2記載の異物検査装置。 - 基材にパターンを形成した対象物上の異物を検査する異物検査方法であって、
光源部から第1の偏光フィルタを介して前記対象物に検査光を照射し、前記対象物から反射した前記検査光を第2の偏光フィルタを介して受光部で受光し、
前記第1の偏光フィルタと前記第2の偏光フィルタの偏光方向が直交することを特徴とする異物検査方法。 - 前記光源部は、前記対象物の検査領域の周囲から前記検査領域へと検査光を照射することを特徴とする請求項4記載の異物検査方法。
- 前記光源部および前記第1の偏光フィルタは、平面上中空部分を有するように形成され、
前記受光部および前記第2の偏光フィルタは、前記対象物から見て前記光源部および前記第1の偏光フィルタの上方に配置されることを特徴とする請求項4または請求項5記載の異物検査方法。
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