JP2017135179A - フレキシブル表示装置及びフレキシブル表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】有機薄膜間での密着性を向上させたフレキシブル表示装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１の電極層１２４と、第２の電極層１２６との間に配置された正孔輸送層１１２と、発光層１１４と、電子輸送層１１６とを備えたフレキシブル表示装置であって、正孔輸送層と電子輸送層とは、ゲスト部及び／又はゲスト部と相互作用するホスト部を有するポリアクリルアミドを含む。ホスト部は、α−シクロデキストリニル基、β−シクロデキストリニル基及びγ−シクロデキストリニル基から選択され、ゲスト部は、選択されたホスト部と相互作用可能なｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（アミド）基、アダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択されてもよい。
【選択図】図２

Description

本発明は、フレキシブル表示装置及びフレキシブル表示装置の製造方法に関する。特に、有機薄膜間での密着性を向上させたフレキシブル表示装置の製造方法に関する。

有機エレクトロルミネセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」ともいう。）は、有機エレクトロルミネセンス材料（以下、「有機ＥＬ材料」ともいう。）を含む薄膜を一対の電極で挟んだ構造を有している。有機ＥＬ素子は、印加する電圧又は素子に流れる電流量によって発光強度を制御することができるため、この特性を利用して画素を形成し、表示画面を構成した表示装置が開発されている。

有機ＥＬ素子を用いた表示装置は、個々の画素の発光を個別に制御して画像を表示することが可能である。そのため、透過型の液晶表示装置で必要とされているバックライトが不要となり、表示装置の薄型化を可能としている。さらに、有機ＥＬ素子、それを駆動する薄膜トランジスタを用いた回路は有機樹脂フィルム上に作製可能であるので、基板自体が柔軟性を有するフレキシブル表示装置の開発も進んでいる。

有機ＥＬ素子が有するフレキシブル性は、液晶表示装置やＰＤＰ表示装置等の他の表示デバイスに対して強い優位点である。しかし、有機ＥＬ素子は、基本的に有機薄膜を蒸着等の密着性を確保できない方法により積層しただけの構造であるため、薄膜間の密着強度が弱く、膜剥がれが問題となる場合がある。例えば特許文献１には、優れた金属薄膜との密着性を有する有機半導体材料が開示されている。

特開２０１１−２２８３６１号公報

Takahiro Kakuta et al., Adv. Mater. 2013, 25, 2849-2853 Hiroyasu Yamaguchi et al., Macromolecules 2011, 44, 2395-2399

有機薄膜間の密着強度を改善するには、有機材料の分子構造中に隣接薄膜の材料と相互作用するような官能基を付与する手法が考えられる。しかし、有機半導体材料の特性に対して、分子構造の変化が与える影響が大きいため、材料選択の自由度が制限されるという問題がある。

このような問題に鑑み、本発明は、有機薄膜間での密着性を向上させたフレキシブル表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

本発明の一実施形態によれば、第１の電極層と、第２の電極層との間に配置された正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層とを備えたフレキシブル表示装置であって、前記正孔輸送層と前記電子輸送層とは、ゲスト部及び／又は前記ゲスト部と相互作用するホスト部を有するポリアクリルアミドを含むフレキシブル表示装置が提供される。

本発明の一実施形態によれば、第１の電極層上に、正孔輸送層を形成し、前記正孔輸送層上に発光層を形成し、前記発光層上に電子輸送層を形成し、前記電子輸送層上に第２の電極層を形成し、前記正孔輸送層と前記電子輸送層とは、ゲスト部及び／又は前記ゲスト部と相互作用するホスト部を有するポリアクリルアミドを含む材料で形成するフレキシブル表示装置の製造方法が提供される。

本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置の製造方法を説明する断面図である。 本発明の一実施形態に係る画素部１０６における有機ＥＬ素子１２２の構成を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る画素部１０６における画素１２０の構成を示す断面図である。

以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

本明細書において、ある部材又は領域が、他の部材又は領域の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の部材又は領域の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の部材又は領域の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。

［第１の実施形態］
＜フレキシブル表示装置の構成＞
本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置の構成を図１（Ａ）及び（Ｂ）に示す。図１（Ａ）はフレキシブル表示装置１００の平面図を示し、図中に示すＡ−Ｂ線に対応する断面構造を図１（Ｂ）に示す。

フレキシブル表示装置１００は、複数の画素が二次元的に配列された画素部１０６を有している。画素部１０６は第１基板１０２に設けられている。第１基板１０２には、走査線駆動回路１６２、映像信号線駆動回路１６４、入力端子部１６６などが設けられていてもよい。第２基板１０４は第１基板１０２に対向し、画素部１０６を封止するように設けられている。

第２基板１０４と第１基板１０２とはシール材１６０により固定されている。第２基板１０４と第１基板１０２とは数マイクロメートルから数十マイクロメートルの間隙をもって固定されており、当該間隙部には充填材１４２が設けられている。充填材１４２としては樹脂材料が好適に用いられる。第２基板１０４と第１基板１０２の間に画素部１０６を挟み込み、充填材１４２を封入する構成は固体封止とも呼ばれている。

画素部１０６における各画素には発光素子が設けられている。発光素子としては、例えば発光層に有機ＥＬ材料が用いられる有機ＥＬ素子が適用される。画素部１０６における各画素は、画素回路により発光が個別に制御される。各画素の発光を制御する信号は、走査線駆動回路１６２及び映像信号線駆動回路１６４から与えられる。

図１で示すフレキシブル表示装置１００は、画素部１０６の発光が第２基板１０４側に射出されるトップエミッション型の構成を有している。

なお、トップエミッション型の場合、第２基板１０４は透光性を有する必要があるため、ガラス又は樹脂材料が用いられる。透光性の優れた樹脂材料としては、例えば、ポリベンゾオキサゾール、脂環式構造を有するポリアミドイミド、脂環式構造を有するポリイミド、ポリアミド及びポリ（ｐ−キシリレン）から選択される樹脂材料を含むものが好ましく、これらの樹脂材料を単独で含んでいてもよいし、複数種が組み合わされていてもよい。例えば、第２基板１０４をポリイミド樹脂で形成する場合には、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸（一部がイミド化されたポリアミック酸を含む、）又は、可溶性ポリイミドを含む溶液を支持基板１５２に塗布し、焼成することで形成することができる。

画素部１０６の構成を、図２及び図３を参照して説明する。図２は、画素部１０６における有機ＥＬ素子１２２の構成を示す断面図である。図３は、画素部１０６における画素１２０の構成を示す断面図である。有機ＥＬ素子１２２は、画素電極（第１の電極層）１２４上に有機ＥＬ層１２５及び共通電極（第２の電極層）１２６が積層された構成を有している。有機ＥＬ層１２５は、低分子系又は高分子系の有機材料を用いて形成することができる。有機ＥＬ層１２５に低分子系の有機材料を用いる場合、発光性の有機材料を含む発光層１１４に加え、当該発光層１１４を挟むように正孔輸送層１１２や電子輸送層１１６等のキャリア輸送層が設けられている。また、有機ＥＬ層１２５は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色を発光するものであってもよいし、いわゆる白色発光を呈するものであってもよい。有機ＥＬ層１２５が白色発光である場合には、カラーフィルタとの組み合わせにより、カラー表示を行うことができる。

正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６は、ゲスト部及び／又はゲスト部と相互作用するホスト部を有するポリアクリルアミドを含む。本実施形態において、ホスト部は、α−シクロデキストリニル基、β−シクロデキストリニル基及びγ−シクロデキストリニル基から選択される。また、ゲスト部は、選択されたホスト部と相互作用可能なｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（アミド）基、アダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択される。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６は、ホスト部がα−シクロデキストリニル基であり、ゲスト部がｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基及びｎ−ドデシル（アミド）基から選択されるポリアクリルアミドを含んでもよい。このようなポリアクリルアミドは、例えば、下記化学式（１）で表される化合物である。

したがって、本実施形態に適用可能なポリアクリルアミドは、化学式（１）において、ｎ−ブチル基（エステル）基がｎ−ドデシル（エステル）基又はｎ−ドデシル（アミド）基により置換された化合物であってもよい。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６は、ホスト部がβ−シクロデキストリニル基であり、ゲスト部がアダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択されるからポリアクリルアミドを含んでもよい。このようなポリアクリルアミドは、例えば、下記化学式（２）で表される化合物である。

したがって、本実施形態に適用可能なポリアクリルアミドは、化学式（２）において、アダマンチル基がシクロヘキシル（エステル）基又はシクロドデシル（アミド）基により置換された化合物であってもよい。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６は、ホスト部がγ−シクロデキストリニル基であり、ゲスト部がシクロドデシル（アミド）基であるポリアクリルアミドを含んでもよい。

上述したポリアクリルアミドは、例えば、非特許文献１に開示されているが、本実施形態に係る正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６等に適用することについての記載はなく、本発明により初めて開示されるものである。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６は、上記のポリアクリルアミドを０．１重量％以上１０重量％以下含有することが好ましい。このような濃度範囲とすることにより、フレキシブル表示装置の電気・光学特性に大きな影響を与えることはない。

これらから選択されるポリアクリルアミドを正孔輸送層１１２、発光層１１４及び電子輸送層１１６に含むことにより、正孔輸送層１１２と、発光層１１４と、電子輸送層１１６との界面でホスト部とゲスト部とが相互作用し、有機薄膜間での密着性を向上させたフレキシブル表示装置を提供することができる。

また、本実施形態に係るフレキシブル表示装置は、電荷輸送や発光の役割を担う有機半導体材料自体に修飾等を施す必要がなく、半導体材料の選択の幅が広がる効果もある。

また、一実施形態において、有機ＥＬ層１２５は、画素電極１２４と正孔輸送層１１２との間に正孔注入層を配置し、共通電極１２６と電子輸送層１１６との間に電子注入層を配置してもよい。このような構成を有する有機ＥＬ層１２５において、正孔注入層及び電子注入層に上述した本実施形態に係るポリアクリルアミドを含んでもよい。

なお、本実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６、正孔注入層及び電子注入層を構成する材料として、公知の材料を用いることができる。

正孔輸送層１１２及び正孔注入層に用いる正孔輸送性材料としては、例えばベンジジン又はその誘導体、スチリルアミン又はその誘導体、トリフェニルメタン又はその誘導体をはじめ、ポルフィリン又はその誘導体、トリアゾール又はその誘導体、イミダゾール又はその誘導体、オキサジアゾール又はその誘導体、ポリアリールアルカン又はその誘導体、フェニレンジアミン又はその誘導体、アリールアミン又はその誘導体、オキサゾール又はその誘導体、アントラセン又はその誘導体、フルオレノン又はその誘導体、ヒドラゾン又はその誘導体、スチルベン又はその誘導体、フタロシアニンまたはその誘導体、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物、アニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が挙げられる。

このような正孔輸送性材料の具体的な例としては、α−ナフチルフェニルジアミン（αＮＰＤ）、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、４，４’，４”−トリメチルトリフェニルアミン、４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２，２’−チエニルピロール）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

電子輸送層１１６及び電子注入層に用いる電子輸送性材料として使用可能な材料としては、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）、８−ヒドロキシメチルキノリンアルミニウム、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、又はこれらの誘導体等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

発光層１１４には、上述した正孔輸送性材料、電子輸送性材料、さらには両電荷輸送性材料の中から適宜必要とされる材料を組み合わせて構成され、さらに、赤色発光材料、緑色発光材料又は青色発光材料を画素の配置に応じて含有することができる。

赤色発光材料としては、例えば、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、バソフェナントロリン誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、スチリルベンゼン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、アミノスチリル誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、アントラセン誘導体、ジフェニルアントラセン誘導体、ピレン誘導体、カルバゾール誘導体、オキサジアゾールダイマー、ビラゾリンダイマー、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロビウム錯体、イリジウム錯体、白金錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等が例示される。

緑色発光材料としては、上述した材料の中から単数または複数の材料が適宜選択して用いられる。

また、青色発光材料の具体例としては、ペリレンを挙げることができるが、これに限定されるものではない。

画素電極１２４に適用可能な材料としては、例えば、ニッケル、銀、金、白金、パラジウム、セレン、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、レニウム、タングステン、モリブデン、クロム、タンタル、ニオブやこれらの合金、あるいは酸化錫（ＳｎＯ₂）、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Indium tin oxide）、酸化亜鉛、酸化チタン等があるが、これらに限定されるものではない。また、共通電極１２６に適用可能な材料としては、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ等の活性な金属とＡｇ、Ａｌ、Ｉｎ等の金属との合金、或いはこれらを積層した構造があるが、これらに限定されるものではない。

図３を参照して、画素部１０６における画素１２０の構成をさらに説明する。画素１２０には有機ＥＬ素子１２２とトランジスタ１３２が含まれている。画素電極１２４の周縁部はバンク層１３０によって覆われており、有機ＥＬ層１２５は画素電極１２４の上面からバンク層１３０にかけて設けられている。また、有機ＥＬ素子１２２の上面側には、封止膜１２８が設けられていてもよい。封止膜１２８は、画素部１０６の略前面を覆うように設けられている。

本実施形態では、トップエミッション型の画素構成を有するため、有機ＥＬ素子１２２の構成は、共通電極１２６が透光性であり、画素電極１２４には光反射面が設けられていることが好ましい。有機ＥＬ層１２５の発光は、立体角で表せば４πの全方向に放射されるため、第２基板１０４側に放射される光は、少なくとも、有機ＥＬ層１２５から直接放射される光の成分と、画素電極１２４で反射して第２基板１０４側へ放射される光の成分が混在している。いずれにしても、有機ＥＬ層１２５で発光した光は、さまざまな角度で第２基板１０４に入射することとなる。

共通電極１２６は複数の画素に共通の電位が印加され、これに対し画素電極１２４は、各画素にそれぞれ個別の電位が印可されて有機ＥＬ素子１２２に流れる電流が制御される。画素電極１２４の電位はトランジスタ１３２によって制御される。

トランジスタ１３２は、半導体層１３４とゲート電極１３８がゲート絶縁層１３６によって絶縁された電界効果トランジスタである。具体的には、薄膜の半導体層１３４にチャネルが形成される薄膜トランジスタの形態を有している。トランジスタ１３２と有機ＥＬ素子１２２の間には層間絶縁層１４４が設けられていることが好ましく、画素電極１２４はこの層間絶縁層１４４上に設けられており、コンタクトホールを介してソース・ドレイン電極１４０と接続されている。

なお、有機ＥＬ素子１２２が白色発光である場合、第２基板１０４には、遮光層１４６、カラーフィルタ層１４８、オーバーコート層１５０が設けられていてもよい。このような構成によりカラー表示が可能となる。

本実施形態のフレキシブル表示装置１００は、画素部１０６からの光射出面側（表示画面側）に封止用の基板と一体化された光学素子を設けることにより、薄型化を図りつつ、光の取り出し効率を高めることを可能としている。次に、このようなフレキシブル表示装置の製造方法について説明する。

（製造方法）
本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置の製造方法の概要を説明する。フレキシブル表示装置の製造工程には、公知の製造工程を用いることができる。

まず、第２基板に画素回路を形成する。このとき、必要に応じて走査線駆動回路や映像信号線駆動回路、入力端子部なども形成する。画素回路を構成するトランジスタやキャパシタなどの各素子は、半導体、絶縁体、金属による薄膜の積層とフォトリソグラフィー法によるパターニングを繰り返して作製される。

画素回路などが形成された回路素子層の上に発光素子を形成する。各画素の有機ＥＬ素子を形成するために、画素回路と電気的に接続される画素電極を形成する。画素電極はトランジスタを埋設する層間絶縁層の上に形成する。次いで、画素電極の周縁部を覆うバンク層を形成する。画素電極は、画素ごとに形成され、周縁部をバンク層で囲まれることにより、各画素の領域が画定されることになる。

画素電極上に正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を形成する。このとき、各層の形成には上述した本実施形態に係るポリアクリルアミドを含む材料を用いる。各層の形成は、例えば、インクジェットを用いた印刷法を用いることができる。また、一実施形態において、画素電極と正孔輸送層との間に正孔注入層を形成し、共通電極と電子輸送層との間に電子注入層を形成してもよい。このように、有機ＥＬ層を形成することができる。

さらに共通電極を形成する。共通電極の上層には窒化シリコン膜などで封止膜を形成する。このように画素回路及び画素部を形成することができる。

［第２の実施形態］
第２の実施形態においては、ホスト部とゲスト部の両方を１分子中に有するポリアクリルアミドを含む材料を用いて有機薄膜を構成する例を説明した。本実施形態においては、隣接する有機薄膜の一方にホスト部のみを有するポリアクリルアミドを用い、他方にゲスト部のみを有するポリアクリルアミドを用いる例について説明する。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６の隣接する一方は、ホスト部がα−シクロデキストリニル基であるポリアクリルアミドを含み、他方はｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基及びｎ−ドデシル（アミド）基から選択されるゲスト部のみを有するポリアクリルアミドを含んでもよい。即ち、正孔輸送層１１２及び電子輸送層１１６と、発光層１１４の一方がホスト部のみを有するポリアクリルアミドを含み、他方がゲスト部のみを有するポリアクリルアミドを含んでもよい。このようなポリアクリルアミドは、例えば、下記化学式（３）及び（４）で表される化合物の組合せであってもよい。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６の隣接する一方は、ホスト部がβ−シクロデキストリニル基であるポリアクリルアミドを含み、他方はアダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択されるゲスト部を有するポリアクリルアミドを含んでもよい。即ち、正孔輸送層１１２及び電子輸送層１１６と、発光層１１４の一方がホスト部のみを有するポリアクリルアミドを含み、他方がゲスト部のみを有するポリアクリルアミドを含んでもよい。このようなポリアクリルアミドは、例えば、上記化学式（３）及び（４）で表される化合物の組合せであってもよい。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６の隣接する一方は、ホスト部がγ−シクロデキストリニル基であるポリアクリルアミドを含み、他方はゲスト部がシクロドデシル（アミド）基であるポリアクリルアミドを含んでもよい。即ち、正孔輸送層１１２及び電子輸送層１１６と、発光層１１４の一方がホスト部のみを有するポリアクリルアミドを含み、他方がゲスト部のみを有するポリアクリルアミドを含んでもよい。このようなポリアクリルアミドは、例えば、上記化学式（３）及び（４）で表される化合物の組合せであってもよい。

上述したポリアクリルアミドの組合せは、例えば、非特許文献２に開示されているが、本実施形態に係る正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６等に適用することについての記載はなく、本発明により初めて開示されるものである。

一実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６は、上記のポリアクリルアミドを０．１重量％以上１０重量％以下含有することが好ましい。このような濃度範囲とすることにより、フレキシブル表示装置の電気・光学特性に大きな影響を与えることはない。

これらから選択されるポリアクリルアミドを組み合わせて、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６に含むことにより、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６との界面でホスト部とゲスト部とが相互作用し、有機薄膜間での密着性を向上させたフレキシブル表示装置を提供することができる。

また、本実施形態に係るフレキシブル表示装置は、電荷輸送や発光の役割を担う有機半導体材料自体に修飾等を施す必要がなく、半導体材料の選択の幅が広がる効果もある。

また、一実施形態において、有機ＥＬ層１２５は、画素電極１２４と正孔輸送層１１２との間に正孔注入層を配置し、共通電極１２６と電子輸送層１１６との間に電子注入層を配置してもよい。このような構成を有する有機ＥＬ層１２５において、正孔注入層及び電子注入層に上述した本実施形態に係るポリアクリルアミドを組み合わせて含んでもよい。

なお、本実施形態において、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６、正孔注入層及び電子注入層を構成する材料として、上述した公知の材料を用いることができる。

なお、本実施形態に係るフレキシブル表示装置は、第１の実施形態で説明した製造方法により製造することができるため、詳細な説明は省略する。

［第３の実施形態］
第３の実施形態として、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６に含む本実施形態に係るポリアクリルアミドの分布について説明する。一実施形態において、ポリアクリルアミドの分布は、有機薄膜全体に均一に分散させることが好ましい。本実施形態に係るポリアクリルアミドを有機薄膜全体に均一に分散させることで、有機薄膜の特定の箇所に応力がかかることを防ぐことができる。

また、一実施形態において、ポリアクリルアミドの分布は、有機薄膜の表面（界面）付近に多く存在するような分布であってもよい。このような有機薄膜は、インクジェットによる印刷法において、ポリアクリルアミド濃度の異なる材料を積層することで、一つの層内での濃度分布を制御することにより、形成することができる。ポリアクリルアミドを有機薄膜表面に高濃度に分散させた膜を用いることで、有機薄膜間での密着性を確保しつつ、有機薄膜内部でのポリアクリルアミド濃度を低減して、電気・光学特性が保持される。

［第４の実施形態］
第１の実施形態及び第２の実施形態では、正孔輸送層１１２、発光層１１４、電子輸送層１１６の全ての層に本発明に係るポリアクリルアミドを含有することにより、有機薄膜間での密着性を向上させる例を説明した。第４の実施形態として、発光層１１４に本発明に係るポリアクリルアミドを含有しない、又は正孔輸送層１１２や電子輸送層１１６に比べて１桁以上低い含有濃度で、発光層１１４がポリアクリルアミドを含有する例について説明する。

図２を参照する。有機ＥＬ層１２５は、正孔輸送層１１２と発光層１１４と電子輸送層１１６とが積層した第１の積層部１７２と、正孔輸送層１１２と電子輸送層１１６とが積層した第２の積層部１７４とを備える。この構成において、正孔輸送層１１２と電子輸送層１１６のみに本発明に係るポリアクリルアミドを含有することにより、正孔輸送層１１２と電子輸送層１１６との十分な密着性が得られ、発光層１１４に本発明に係るポリアクリルアミドを含有しなくとも、有機薄膜間での密着性を向上させたフレキシブル表示装置を提供することができる。又は、正孔輸送層１１２や電子輸送層１１６に比べて１桁以上低い含有濃度で、発光層１１４がポリアクリルアミドを含有していてもよい。

このような構成とすることにより、本発明に係るフレキシブル表示装置は、発光層１１４において本発明に係るポリアクリルアミドによる影響を受けることなく、又は影響を小さくすることで、発光に関する特性を保持することができる。これは図２に示すようにバンク層１３０の上部において、正孔輸送層１１２と電子輸送層１１６とが接触している箇所があるため、本発明の係るポリアクリルアミドの作用により密着性を確保しつつ、ポリアクリルアミドが発光層１１４の発光材料に対する影響を及ぼすことを防ぐことができるからである。

１００・・・フレキシブル表示装置、１０２・・・第１基板、１０４・・・第２基板、１０６・・・画素部、１０８・・・光学素子、１１２・・・正孔輸送層、１１４・・・発光層、１１６・・・電子輸送層、１２０・・・画素、１２２・・・有機ＥＬ素子、１２４・・・画素電極、１２５・・・有機ＥＬ層、１２６・・・共通電極、１２８・・・封止膜、１３０・・・バンク層、１３２・・・トランジスタ、１３４・・・半導体層、１３６・・・ゲート絶縁層、１３８・・・ゲート電極、１４０・・・ソース・ドレイン電極、１４２・・・充填材、１４４・・・層間絶縁層、１４６・・・遮光層、１４８・・・カラーフィルタ層、１５０・・・オーバーコート層、１５８・・・回路素子層、１６０・・・シール材、１６２・・・走査線駆動回路、１６４・・・映像信号線駆動回路、１６６・・・入力端子部、１７２・・・第１の積層部、１７４・・・第２の積層部。

Claims (17)

1. 第１の電極層と、第２の電極層との間に配置された正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層とを備えたフレキシブル表示装置であって、
   前記正孔輸送層と前記電子輸送層とは、ゲスト部及び／又は前記ゲスト部と相互作用するホスト部を有するポリアクリルアミドを含むことを特徴とするフレキシブル表示装置。
2. 前記ホスト部は、α−シクロデキストリニル基、β−シクロデキストリニル基及びγ−シクロデキストリニル基から選択され、
   前記ゲスト部は、選択された前記ホスト部と相互作用可能なｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（アミド）基、アダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択されることを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル表示装置。
3. 前記正孔輸送層と前記電子輸送層とは、前記ホスト部がα−シクロデキストリニル基であり、前記ゲスト部がｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基及びｎ−ドデシル（アミド）基から選択されるポリアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル表示装置。
4. 前記正孔輸送層と前記電子輸送層とは、前記ホスト部がβ−シクロデキストリニル基であり、前記ゲスト部がアダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択されるからポリアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル表示装置。
5. 前記正孔輸送層と前記電子輸送層とは、前記ホスト部がγ−シクロデキストリニル基であり、前記ゲスト部がシクロドデシル（アミド）基であるポリアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル表示装置。
6. 前記正孔輸送層と前記電子輸送層の一方は、ホスト部がα−シクロデキストリニル基であるポリアクリルアミドを含み、他方はｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基及びｎ−ドデシル（アミド）基から選択されるゲスト部を有するポリアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル表示装置。
7. 前記正孔輸送層と前記電子輸送層の一方は、ホスト部がβ−シクロデキストリニル基であるポリアクリルアミドを含み、他方はアダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択されるゲスト部を有するポリアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル表示装置。
8. 前記正孔輸送層と前記電子輸送層の一方は、ホスト部がγ−シクロデキストリニル基であるポリアクリルアミドを含み、他方はゲスト部がシクロドデシル（アミド）基であるポリアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項２に記載のフレキシブル表示装置。
9. 前記発光層は、ゲスト部及び／又は前記ゲスト部と相互作用するホスト部を有するポリアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項１乃至８の何れか一に記載のフレキシブル表示装置。
10. 前記正孔輸送層と、前記発光層と、前記電子輸送層とが積層した第１の積層部と、
    前記正孔輸送層と前記電子輸送層とが積層した第２の積層部と、を備えることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一に記載のフレキシブル表示装置。
11. 第１の電極層上に、正孔輸送層を形成し、
    前記正孔輸送層上に発光層を形成し、
    前記発光層上に電子輸送層を形成し、
    前記電子輸送層上に第２の電極層を形成し、
    前記正孔輸送層と前記電子輸送層とは、ゲスト部及び／又は前記ゲスト部と相互作用するホスト部を有するポリアクリルアミドを含む材料で形成することを特徴とするフレキシブル表示装置の製造方法。
12. 前記ホスト部は、α−シクロデキストリニル基、β−シクロデキストリニル基及びγ−シクロデキストリニル基から選択され、
    前記ゲスト部は、選択された前記ホスト部と相互作用可能なｎ−ブチル基（エステル）基、ｎ−ヘキシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（エステル）基、ｎ−ドデシル（アミド）基、アダマンチル基、シクロヘキシル（エステル）基及びシクロドデシル（アミド）基から選択されることを特徴とする請求項１１に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。
13. 前記ポリアクリルアミドを分散させた膜で、前記正孔輸送層と前記電子輸送層とを形成することを特徴とする請求項１２に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。
14. 前記ポリアクリルアミドを表面に高濃度に分散させた膜で、前記正孔輸送層と前記電子輸送層とを形成することを特徴とする請求項１２に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。
15. 前記ポリアクリルアミドを分散させた膜で、前記発光層を形成することを特徴とする請求項１３に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。
16. 前記ポリアクリルアミドを表面に高濃度に分散させた膜で、前記発光層を形成することを特徴とする請求項１４に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。
17. 前記正孔輸送層と、前記発光層と、前記電子輸送層とが積層した第１の積層部と、
    前記正孔輸送層と前記電子輸送層とが積層した第２の積層部と、を形成することを特徴とする請求項１１乃至１４の何れか一に記載のフレキシブル表示装置の製造方法。