JP2017131913A - 混練装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】混練の効率を高めるようにした混練装置を提供する。【解決手段】本発明の一形態に係る混練装置1は、混練釜2と、複数本の撹拌ピン3aを有する撹拌子3と、混練釜2内を第1の空間S1と第2の空間S2とに仕切り、混練釜2に連通された成形型9に向かって、混練釜2内の原料Mを水平方向に押し出す射出ピストン5と、混練釜2の第2の空間S2に気体を注入する気体供給機構(第2の気体供給機構8)と、を備え、第1の空間S1と第2の空間S2とをつなぐ隙間を有する。【選択図】図1
Description
本発明は、原料の混練に利用される混練装置に関するものである。
従来において、このような分野に関連する技術として特開平6−31378号公報がある。この公報に記載された混練装置で混練を行うにあたって、外殻容器が上昇し、シュートを介して珪砂が外殻容器内に投入される。その後、外殻容器内に配置された撹拌翼を所定速度で回転させながら、規定量の硬化剤が外殻容器内に注入される。そして、撹拌翼を回転させながら珪砂と硬化剤とを混練する。混練した後、外殻容器は回転して投砂シュータに混練砂を投入し、投砂シュータから中子用金型内に混練砂は充填され、中子の成形が行われる。
しかしながら、前述した混練装置に利用される撹拌翼は、鉛直方向に延在する回転軸線を中心に回転するので、混練砂が遠心力によって外殻容器の内周面に付着し易く、混練効率が悪い。
本発明は、混練の効率を高めるようにした混練装置を提供することを目的とする。
本発明の一形態に係る混練装置は、原料を混練する混練装置であって、
前記原料が供給される第1の空間を有する混練釜と、
前記混練釜内で水平方向に延在する回転軸線に平行に延在する複数本の撹拌ピンを有し、前記回転軸線を中心に回転する撹拌子と、
前記撹拌子を回転駆動させるための第1の駆動機構と、
前記混練釜内を水平方向で前記第1の空間と第2の空間とに仕切り、前記撹拌ピンが貫通した状態で、前記混練釜に連通された成形型に向かって、前記混練釜内の前記原料を水平方向に押し出す射出ピストンと、
前記撹拌ピンの回転を許容するように前記射出ピストンが連結され、前記射出ピストンを水平方向に移動させるための第2の駆動機構と、
前記第2の空間に気体を注入する気体供給機構と、を備え、
前記第1の空間と前記第2の空間とをつなぐ隙間を有する。
このような構成により、原料の練りと自重落下とを繰り返すことができ、混練釜の内周面に原料が付着し難く、混練の効率を高めることができる。しかも、第1の空間と第2の空間とをつなぐ隙間を有するので、第2の空間から当該隙間を介して第1の空間に気体が流入し、原料の混練中に当該原料が第1の空間から第2の空間に漏れることを抑制することができる。
前記原料が供給される第1の空間を有する混練釜と、
前記混練釜内で水平方向に延在する回転軸線に平行に延在する複数本の撹拌ピンを有し、前記回転軸線を中心に回転する撹拌子と、
前記撹拌子を回転駆動させるための第1の駆動機構と、
前記混練釜内を水平方向で前記第1の空間と第2の空間とに仕切り、前記撹拌ピンが貫通した状態で、前記混練釜に連通された成形型に向かって、前記混練釜内の前記原料を水平方向に押し出す射出ピストンと、
前記撹拌ピンの回転を許容するように前記射出ピストンが連結され、前記射出ピストンを水平方向に移動させるための第2の駆動機構と、
前記第2の空間に気体を注入する気体供給機構と、を備え、
前記第1の空間と前記第2の空間とをつなぐ隙間を有する。
このような構成により、原料の練りと自重落下とを繰り返すことができ、混練釜の内周面に原料が付着し難く、混練の効率を高めることができる。しかも、第1の空間と第2の空間とをつなぐ隙間を有するので、第2の空間から当該隙間を介して第1の空間に気体が流入し、原料の混練中に当該原料が第1の空間から第2の空間に漏れることを抑制することができる。
本発明によれば、混練の効率を高めることができる。
以下、図面を参照しつつ本発明に係る混練装置の好適な実施の形態について詳細に説明する。
[実施の形態1]
先ず、本実施の形態の混練装置の構成を説明する。図1は、本実施の形態の混練装置を模式的に示す断面図である。図2は、本実施の形態の混練装置における撹拌ピンの配置を模式的に示す図である。
先ず、本実施の形態の混練装置の構成を説明する。図1は、本実施の形態の混練装置を模式的に示す断面図である。図2は、本実施の形態の混練装置における撹拌ピンの配置を模式的に示す図である。
本実施の形態の混練装置1は、図1に示すように、原料Mを混練するために用いられる。混練装置1は、例えば、原料Mとして人工砂及び水ガラスや添加剤などのバインダを混練するために用いられる。混練された原料Mは、後述するように無機中子として成形される。
このような混練装置1は、混練釜2、撹拌子3、第1の駆動機構4、射出ピストン5、第2の駆動機構6、第1の気体供給機構7及び第2の気体供給機構8を備えている。
混練釜2は、例えば、本体部2a及びカバー部2bを備えている。本体部2aは、例えば、円筒形状を基本形態としており、水平方向に延在している。そして、本体部2aは、一方の開口部が壁部2cによって略塞がれている。カバー部2bは、本体部2aの他方の開口部を覆う。但し、本体部2aは、円筒形状に限定されず、筒形状であればよい。
このような混練釜2は、人工砂が供給される第1の供給孔2d、バインダが第1の気体供給機構7から供給される気体と共に供給される第2の供給孔2e、及び第2の気体供給機構8から気体が供給される第3の供給孔2fを備えている。また、混練釜2は、混練された人工砂及びバインダ(即ち、原料M)を隣接する成形型9に射出するための射出孔2gを備えている。
ちなみに、図1では、第1の供給孔2dが開放状態で示されているが、第1の供給孔2dは人工砂を供給するためのホッパー(不図示)などに接続され、開閉可能な構成とされている。
成形型9は、混練された原料Mを成形する。成形型9は、例えば、下型9a、上型9b及びピストンシリンダ機構9cを備えている。下型9aは、固定型である。上型9bは、下型9aに対して開閉可能に連結された可動型である。これらの下型9aと上型9bとで、混練された原料Mを成形するためのキャビティ9dが形成される。
キャビティ9dは、混練釜2の射出孔2gに流路9eを介して連通している。射出孔2gは、混練釜2の壁部2cに設けられている。ここで、射出孔2gには、弁機構(不図示)が設けられ、混練釜2内を略密閉できる構成とされていることが好ましい。なお、射出孔2gの配置や個数などは、特に限定されず、後述するように混練された原料Mを良好に成形型9に射出できればよい。
ピストンシリンダ機構9cは、キャビティ9d内で成形された成形品10(図3を参照)を下型9aから外すために成形品10を上方に押し上げるシリンダ9fを備えている。
撹拌子3は、第1の回転軸線L1を中心に回転し、混練釜2内で原料Mを混練する。撹拌子3は、撹拌ピン3a及び回転ベース3bを備えている。
撹拌ピン3aは、混練釜2内で第1の回転軸線L1に平行に配置されており、混練釜2の壁部2c近傍まで延在している。そして、撹拌ピン3aは、図2に示すように、例えば、第1の回転軸線L1に対して直交する平面上で、回転中心を中心点Pとして点対称をなすように配列されている。
具体例として、4本の撹拌ピン3aが撹拌子3の回転方向に90°間隔で配置されている。そして、撹拌ピン3aは、細いと原料Mを混練する際に損傷し、太いと混練効率が低下するので、10mm程度の直径Rを有する円柱形である。
また、撹拌ピン3aは、混練釜2における本体部2aの内周面との間に数mm程度のクリアランス(隙間)C1が確保されている。さらに、隣接する撹拌ピン3aの中心間の距離Dは、撹拌ピン3aの径(撹拌ピン3aの最も太い部分の径)の4倍以上である。
但し、撹拌ピン3aの本数、配置及び形状などは、上述のクリアランスC1や距離Dを満たす範囲で適宜変更すればよい。
回転ベース3bは、外周にギア部3cを有する従動歯車であり、第1の回転軸線L1を中心に回転する。そして、回転ベース3bにおける第1の回転軸線L1と直交し、且つ混練釜2の壁部2c側の側面には、撹拌ピン3aの基端部が固定されている。
第1の駆動機構4は、撹拌子3を回転駆動させる。第1の駆動機構4は、例えば、駆動歯車4a及びモータ4bを備えている。駆動歯車4aは、回転ベース3bのギア部3cと噛合されており、第1の回転軸線L1に平行な第2の回転軸線L2を中心に回転する。そして、駆動歯車4aは、回転ベース3bと共にカバー部2b内に収容されている。
モータ4bは、例えば、混練釜2の外部に配置されており、混練釜2のカバー部2bに通された回転軸に駆動歯車4aが連結されている。モータ4bが駆動すると、駆動歯車4aを介して第1の回転軸線L1を中心に回転ベース3bが回転する。その結果、撹拌ピン3aは第1の回転軸線L1を中心に回転する。
ここで、例えば、混練釜2における本体部2aの内径が150mm程度の場合、撹拌子3の回転速度が250rpm程度までは当該撹拌子3の回転速度が上がるほど、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間が短くなり、撹拌子3の回転速度が250rpm以上では飽和傾向になる。
つまり、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間は、撹拌子3の回転速度及び混練釜2における本体部2aの内径に依存する。そのため、第1の駆動機構4は、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間が短くなるように、混練釜2における本体部2aの内径に基づいて、撹拌子3の良好な回転速度を実現する。
射出ピストン5は、混練釜2内を水平方向で原料Mが収容される空間(第1の空間)S1と他の空間(第2の空間)S2とに仕切り、混練釜2内で第1の回転軸線L1に沿って水平方向に移動する。
第1の空間S1は、混練釜2における射出ピストン5に対して壁部2c側の空間であり、第2の空間S2は、混練釜2における射出ピストン5に対してカバー部2b側の空間である。そして、第1の空間S1と第2の空間S2とをつなぐクリアランス(隙間)が形成されている。
このような射出ピストン5は、混練釜2における本体部2aの内周面の形状に対応する形状とされており、例えば、円柱形である。
射出ピストン5の外周面と混練釜2における本体部2aの内周面との間には、予め設定されたクリアランスが確保されている。そして、射出ピストン5には、撹拌ピン3aが貫通しており、射出ピストン5における撹拌ピン3aが貫通する貫通孔5aと当該撹拌ピン3aとの間にも、予め設定されたクリアランスが確保されている。予め設定されたクリアランスとしては、例えば、0.2mm〜0.5mm程度が好ましい。
第2の駆動機構6は、撹拌ピン3aの回転を許容するように連結された射出ピストン5を水平方向に移動させる。第2の駆動機構6は、例えば、リニアアクチュエータから成り、ボールネジ軸6a、ボールナット6b及びギアドモータ6cを備えている。
ボールネジ軸6aは、第1の回転軸線L1を中心に回転し、混練釜2のカバー部2bを貫通している。そして、ボールネジ軸6aの先端は、射出ピストン5における第1の回転軸線L1を中心とする回転を許容するように、軸受11を介して射出ピストン5における第1の回転軸線L1と直交し、且つ混練釜2の第2の空間S2側の側面の中央に連結されている。また、ボールネジ軸6aは、回転ベース3bの中央に形成された貫通孔3dを貫通している。
ボールナット6bは、ボールネジ軸6aに螺着されており、例えば、ボールナット6bを回転させるギアドモータ6cと共に混練釜2の外部に配置されている。これにより、ギアドモータ6cが駆動してボールナット6bが回転すると、撹拌子3に影響されずにボールネジ軸6aが第1の回転軸線L1に沿って進退する。その結果、第2の駆動機構6は射出ピストン5を第1の回転軸線L1に沿って進退させることができる。
なお、回転ベース3b、駆動歯車4a、モータ4b、ボールナット6b及びギアドモータ6cの配置は、上述の限りでなく、混練釜2の内部及び外部の何れであってもよい。
第1の気体供給機構7は、混練釜2の第1の空間S1に気体を供給(注入)する。第1の気体供給機構7は、弁及びポンプ(不図示)などを備えており、流路12を介して混練釜2に形成された第2の供給孔2eに連通している。ここで、第1の気体供給機構7は、バインダを混練釜2の第1の空間S1に噴霧することができるように、気体をバインダと混合してスプレーノズル(不図示)から第1の空間S1に供給するとよい。つまり、第1の気体供給機構7は、バインダが霧状になる程度の圧力で混練釜2の第1の空間S1に気体を供給するとよい。
第2の供給孔2eは、混練釜2内で原料Mを混練する際に当該混練釜2の第1の空間S1に第1の気体供給機構7から気体を供給できる位置に配置されている。第2の供給孔2eは、例えば、射出ピストン5が最もカバー部2b側に配置された状態での混練釜2の第1の空間S1に第1の気体供給機構7から気体を供給できるように本体部2aに設けられている。
第2の気体供給機構8は、混練釜2の第2の空間S2に気体を供給(注入)する。第2の気体供給機構8は、弁及びポンプ(不図示)などを備えており、流路13を介して混練釜2に形成された第3の供給孔2fに連通されている。ここで、第2の気体供給機構8は、混練釜2の第2の空間S2の圧力が第1の空間S1の圧力より高くなるように当該第2の空間S2に気体を供給する。
第3の供給孔2fは、混練釜2内で原料Mを混練する際に当該混練釜2の第2の空間S2に第2の気体供給機構8から気体を供給できる位置に配置されている。第3の供給孔2fは、例えば、混練釜2のカバー部2bに設けられている。
これらの混練釜2、第1の駆動機構4、第2の駆動機構6及び成形型9などは、据え付け台14に設置されている。
次に、本実施の形態の混練装置1を用いて無機中子を製造する流れを説明する。図3は、原料を混練した後に当該原料を成形型に射出した状態を模式的に示す断面図である。図4は、成形型から成形品を取り出した状態を模式的に示す断面図である。
ちなみに、図3及び図4では、第1の供給孔2dが開放状態で示されているが、第1の供給孔2dは人工砂を供給するためのホッパー(不図示)などに接続され、開閉可能な構成とされている。
先ず、図1に示すように、射出ピストン5を最も混練釜2のカバー部2b側に配置した状態で、混練釜2の第1の空間S1に人工砂を第1の供給孔2dから供給する。そして、混練釜2の第1の空間S1にバインダを第1の気体供給機構7から供給される気体と共に第2の供給孔2eから供給する。このとき、バインダは気体により噴霧される。これにより、人工砂に対して略均一にバインダを吹き付けることができる。また、バインダを供給するためのスプレーノズル(不図示)の目詰まりを抑制することができる。
次に、第1の気体供給機構7及び第2の気体供給機構8で混練釜2に気体を供給しつつ、原料Mを混練する。つまり、第1の気体供給機構7から供給される気体を第2の供給孔2eから混練釜2の第1の空間S1に供給する。また、第2の気体供給機構8から供給される気体を第3の供給孔2fから混練釜2の第2の空間S2に供給する。このとき、第1の供給孔2dは閉状態とされる。ここで、気体は、原料Mに影響を与えない気体であればよく、例えば、大気中の空気である。
第2の空間S2に供給された気体は、射出ピストン5の外周面と混練釜2における本体部2aの内周面との間のクリアランス、及び射出ピストン5の貫通孔5aと撹拌ピン3aとの間のクリアランスから第1の空間S1に流入する。
このように第1の空間S1に気体が供給された状態で、第1の駆動機構4のモータ4bを駆動させて撹拌子3を回転させる。これにより、撹拌ピン3aが第1の回転軸線L1を中心に回転し、撹拌ピン3aと混練釜2における本体部2aの内周面との間に原料Mが入り込んで当該原料Mが練られる。それと共に、残りの原料Mは撹拌ピン3aの回転に伴って当該撹拌ピン3aで押し上げられつつ自重で落下する。落下した原料Mは、撹拌ピン3aと混練釜2における本体部2aの内周面との間に入り込んで練られ、残りの原料Mは撹拌ピン3aの回転に伴って当該撹拌ピン3aで押し上げられつつ自重で落下する。このように混練釜2内での原料Mの練りと自重落下とが繰り返される。そのため、原料Mの混練効率を向上させることができる。
このとき、原料Mの練りと自重落下とを繰り返すことで、原料Mが混練釜2における第1の空間S1の気体を取り込みながら圧縮膨張(スポンジを揉むような動き)を繰り返して発泡するので、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を短縮することができる。なお、ここでの「発泡」とは、原料Mが気体を取り込んで当該原料M内に気泡が発生することである。
特に、本実施の形態では、上述のように第1の空間S1に気体を供給しているので、原料Mに積極的に気体を取り込ませて発泡効率を向上させることができる。そのため、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を一層、短縮することができる。
しかも、第2の空間S2から射出ピストン5の外周面と混練釜2における本体部2aの内周面との間のクリアランス、及び射出ピストン5の貫通孔5aと撹拌ピン3aとの間のクリアランスを介して第1の空間S1に気体が流入するので、原料Mを混練中に当該原料Mが第1の空間S1から第2の空間S2に漏れることを抑制することができる。
次に、上述のように混練された原料Mを成形型9に射出する。詳細には、図3に示すように、第2の駆動機構6のギアドモータ6cを駆動させて射出ピストン5を水平方向に移動させて原料Mを混練釜2の射出孔2gから押し出す。押し出された原料Mは、流路9eを通ってキャビティ9d内に直接充填される。
次に、キャビティ9d内に充填された原料Mの硬化後、図4に示すように、上型9bを上昇させて型開きする。その後、ピストンシリンダ機構9cのシリンダ9fを上昇させて、成形品10を上方に押し上げると、成形品10を外部に取り出すことができる。
このような混練装置1は、上述のように混練釜2内で水平方向に延在する複数の撹拌ピン3aが回転して原料Mを混練するので、原料Mの練りと自重落下とを繰り返すことができる。その結果、混練釜2の内周面に原料が付着し難く、混練の効率を高めることができる。
しかも、原料Mの練りと自重落下とを繰り返すことで、原料Mが混練釜2における第1の空間S1の気体を取り込みながら圧縮膨張(スポンジを揉むような動き)を繰り返して発泡するので、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を短縮することができる。
特に、本実施の形態では、上述のように第1の空間S1に気体を供給しているので、原料Mに積極的に気体を取り込ませて発泡効率を向上させることができる。そのため、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を一層、短縮することができる。
また、本実施の形態では、第2の空間S2から射出ピストン5の外周面と混練釜2における本体部2aの内周面との間のクリアランス、及び射出ピストン5の貫通孔5aと撹拌ピン3aとの間のクリアランスを介して第1の空間S1に気体が流入するので、原料Mの混練中に当該原料Mが第1の空間S1から第2の空間S2に漏れることを抑制することができる。
[実施の形態2]
実施の形態1の複数本の撹拌ピン3aは、混練釜2における本体部2aの内周面とのクリアランスC1を略等しくしているが、この限りでない。図5は、本実施の形態の撹拌ピンの配置及び混練時の原料の動きを模式的に示す図である。
実施の形態1の複数本の撹拌ピン3aは、混練釜2における本体部2aの内周面とのクリアランスC1を略等しくしているが、この限りでない。図5は、本実施の形態の撹拌ピンの配置及び混練時の原料の動きを模式的に示す図である。
本実施の形態の撹拌子は、図5に示すように、混練釜2における本体部2aの内周面との間に第1のクリアランスC2を有する第1の撹拌ピン31と、混練釜2における本体部2aの内周面との間に、第1のクリアランスC2より広い第2のクリアランスC3を有する第2の撹拌ピン32と、が撹拌子の回転方向に交互に配置されている。
このような撹拌子を用いて原料Mを混練すると、混練釜2における本体部2aの径方向で原料Mに圧縮及び膨張させる反復力を作用させることができ、実施の形態1の撹拌子3を用いる場合に比べて、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を短縮することができる。
[実施の形態3]
本実施の形態では、撹拌子の回転速度を変化させることで、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を短縮している。図6は、本実施の形態における撹拌子の回転速度と回転角度との関係を模式的に示す図である。図7は、本実施の形態における撹拌子の回転速度と時間との関係を模式的に示す図である。
本実施の形態では、撹拌子の回転速度を変化させることで、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を短縮している。図6は、本実施の形態における撹拌子の回転速度と回転角度との関係を模式的に示す図である。図7は、本実施の形態における撹拌子の回転速度と時間との関係を模式的に示す図である。
ここで、本実施の形態の混練装置は、実施の形態1の混練装置1と略等しく、撹拌ピンの回転速度のみが異なる。そのため、実施の形態1の混練装置1と等しい符号を用いて説明する。
本実施の形態では、撹拌子3の回転速度が周期的に予め設定された回転速度に変化し、当該回転速度には、少なくとも、撹拌ピン3aの回転による遠心力で当該撹拌ピン3aに押し付けられる原料Mが落下する第1の回転速度V1と、第1の回転速度V1より速い第2の回転速度V2と、を含む。
例えば、撹拌子3の回転角度(即ち、撹拌子3の位置的な周期)に基づいて、撹拌子3の回転速度が第1の回転速度V1と第2の回転速度V2とを周期的に繰り返すように、第1の駆動機構4が撹拌子3を回転駆動させる。このとき、第1の回転速度V1と第2の回転速度V2とは、原料Mの練りと自重落下との繰り返し頻度が低下しないように設定するとよい。
具体例として、図6に示すように、反時計回りに撹拌子3の0°(360°)位置、90°位置、180°位置、270°位置を定めた場合、撹拌子3が0°より大きく90°以下の回転角度範囲で当該撹拌子3の回転速度を第1の回転速度V1に到達させ、撹拌子3が90°より大きく180°以下の回転角度範囲で当該撹拌子3の回転速度を第2の回転速度V2に到達させ、撹拌子3が180°より大きく270°以下の回転角度範囲で当該撹拌子3の回転速度を第1の回転速度V1に到達させ、撹拌子3が270°より大きく360°以下の回転角度範囲で当該撹拌子3の回転速度を第2の回転速度V2に到達させる。
このように撹拌子3の回転速度を変化させると、原料Mの練りと自重落下とを迅速に繰り返すことができる。よって、実施の形態1の混練装置1に比べて、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を短縮することができる。
ここで、図7に示すように、時間的な周期Tに基づいて、撹拌子3の回転速度が第1の回転速度V1と第2の回転速度V2とを周期的に繰り返してもよい。このとき、例えば、周期Tは3秒程度、第1の回転速度V1は0.7×Xrpm程度、第2の回転速度V2はXrpmとすればよい。
ちなみに、撹拌子3の回転速度が第1の回転速度V1と第2の回転速度V2とを周期的に繰り返す前の第3の回転速度V3の期間(例えば、10秒程度)は、人口砂とバインダとを馴染ませるための期間である。このとき、例えば、第3の回転速度V3は1.5×Xrpm程度とすればよい。
本発明は、上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、下記のような種々の変形が可能である。
例えば、撹拌ピンの配置は、上述の限りでなく、図8(a)及び(b)に示す撹拌ピンの配置でもよい。詳細には、図8(a)に示す撹拌子33は、2列のピン列R1、R2を有している。各ピン列R1、R2は、第1の回転軸線L1に対して直交する平面上で、回転中心を中心点Pとして点対称をなすようにS字状又は逆S字状に配列された複数本(例えば10本)の撹拌ピン33a、33bからなる。一方のピン列R1と他方のピン列R2は、混練釜2の周方向において互いに等距離になるように配置されている。なお、ピン列R1、R2における撹拌ピン33a、33bの配列は、撹拌子33の回転方向を左周りとした場合にはS字で、回転方向を右周りとした場合には逆S字である。但し、撹拌子は、少なくとも一列のピン列を備えていればよい。
また、図8(b)に示す撹拌子34は、8列のピン列R3〜R10を有している。各ピン列R3〜R10は、複数(例えば3本)の撹拌ピン34aからなる。ピン列R3〜R10は、第1の回転軸線L1に対して直交する平面上で、撹拌子34の回転方向において混練釜2の内周面から徐々に離れるような形状を有している。このようなピン列R3〜R10は、混練釜2内で周方向に等間隔で配置されている。
このような図8(a)に示す撹拌子33又は図8(b)に示す撹拌子34を用いると、上述のように原料Mを混練中に当該原料Mが第1の空間S1から第2の空間S2に漏れることを抑制できるだけでなく、原料Mが混練釜2内で練りと自重落下とを容易に繰り返すことができ、原料Mが所定の動粘度を得るまでの時間を一層、短縮することができる。
例えば、実施の形態1乃至3の何れかを組み合わせて実施することができる。
例えば、実施の形態1の混練装置1は、第1の気体供給機構7によって混練釜2の第1の空間S1に気体を供給しているが、省略してもよい。
例えば、上述の実施の形態では、バインダを第1の気体供給機構7から供給される気体と共に混練釜2の第1の空間S1に供給しているが、この限りでない。バインダを混練釜2の第1の空間S1に供給した後に、第1の気体供給機構7から混練釜2の第1の空間S1に気体を供給しつつ原料Mを混練してもよい。
例えば、上述の実施の形態では、バインダを第1の気体供給機構7から供給される気体と共に混練釜2の第1の空間S1に供給した後に、原料Mを混練しているが、この限りでない。バインダを第1の気体供給機構7から供給される気体と共に混練釜2の第1の空間S1に供給しつつ原料Mを混練してもよい。
1 混練装置
2 混練釜、2a 本体部、2b カバー部、2c 壁部、2d 第1の供給孔、2e 第2の供給孔、2f 第3の供給孔、2g 射出孔
3 撹拌子、3a 撹拌ピン、3b 回転ベース、3c ギア部、3d 貫通孔
4 駆動機構、4a 駆動歯車、4b モータ
5 射出ピストン、5a 貫通孔
6 駆動機構、6a ボールネジ軸、6b ボールナット、6c ギアドモータ
7 第1の気体供給機構
8 第2の気体供給機構
9 成形型、9a 下型、9b 上型、9c ピストンシリンダ機構、9d キャビティ、9e 流路、9f シリンダ
10 成形品
11 軸受
12、13 流路
14 据え置き台
31、32 撹拌ピン
33 撹拌子
33a、33b 撹拌ピン
34 撹拌子
34a 撹拌ピン
2 混練釜、2a 本体部、2b カバー部、2c 壁部、2d 第1の供給孔、2e 第2の供給孔、2f 第3の供給孔、2g 射出孔
3 撹拌子、3a 撹拌ピン、3b 回転ベース、3c ギア部、3d 貫通孔
4 駆動機構、4a 駆動歯車、4b モータ
5 射出ピストン、5a 貫通孔
6 駆動機構、6a ボールネジ軸、6b ボールナット、6c ギアドモータ
7 第1の気体供給機構
8 第2の気体供給機構
9 成形型、9a 下型、9b 上型、9c ピストンシリンダ機構、9d キャビティ、9e 流路、9f シリンダ
10 成形品
11 軸受
12、13 流路
14 据え置き台
31、32 撹拌ピン
33 撹拌子
33a、33b 撹拌ピン
34 撹拌子
34a 撹拌ピン
Claims (1)
- 原料を混練する混練装置であって、
前記原料が供給される第1の空間を有する混練釜と、
前記混練釜内で水平方向に延在する回転軸線に平行に延在する複数本の撹拌ピンを有し、前記回転軸線を中心に回転する撹拌子と、
前記撹拌子を回転駆動させるための第1の駆動機構と、
前記混練釜内を水平方向で前記第1の空間と第2の空間とに仕切り、前記撹拌ピンが貫通した状態で、前記混練釜に連通された成形型に向かって、前記混練釜内の前記原料を水平方向に押し出す射出ピストンと、
前記撹拌ピンの回転を許容するように前記射出ピストンが連結され、前記射出ピストンを水平方向に移動させるための第2の駆動機構と、
前記第2の空間に気体を注入する気体供給機構と、を備え、
前記第1の空間と前記第2の空間とをつなぐ隙間を有する、混練装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016012703A JP2017131913A (ja) | 2016-01-26 | 2016-01-26 | 混練装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2016012703A JP2017131913A (ja) | 2016-01-26 | 2016-01-26 | 混練装置 |
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JP2017131913A true JP2017131913A (ja) | 2017-08-03 |
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-
2016
- 2016-01-26 JP JP2016012703A patent/JP2017131913A/ja active Pending
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