JP2017125808A - ガスクロマトグラフ - Google Patents

ガスクロマトグラフ Download PDF

Info

Publication number
JP2017125808A
JP2017125808A JP2016006234A JP2016006234A JP2017125808A JP 2017125808 A JP2017125808 A JP 2017125808A JP 2016006234 A JP2016006234 A JP 2016006234A JP 2016006234 A JP2016006234 A JP 2016006234A JP 2017125808 A JP2017125808 A JP 2017125808A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample introduction
heater block
main body
sample
introduction unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016006234A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6540522B2 (ja
Inventor
優輝 小森
Yuki Komori
優輝 小森
亮 武知
Ryo Takechi
亮 武知
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2016006234A priority Critical patent/JP6540522B2/ja
Publication of JP2017125808A publication Critical patent/JP2017125808A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6540522B2 publication Critical patent/JP6540522B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)

Abstract

【課題】試料導入部を効率よく加熱でき、かつ、試料導入部に対してヒータブロックを確実に位置決めできるガスクロマトグラフを提供する。
【解決手段】ガスクロマトグラフは、試料導入部3と、ヒータブロック7と備えている。試料導入部3の本体32の第1凹部35には、接触部41が嵌められている。ヒータブロック7は、試料導入部3の本体32に設けられた接触部41に直接的に接触することによって、試料導入部3の本体32に対して固定されて位置決めされる。そのため、試料導入部3に対してヒータブロック7を確実に位置決めできる。また、ヒータブロック7からの熱が外部に伝達して損失するような部材を設けることなく、ヒータブロック7を位置決めできるため、試料導入部3を効率的に加熱できる。
【選択図】 図2

Description

本発明は、試料導入部と、当該試料導入部を加熱するヒータブロックとを備えるガスクロマトグラフに関するものである。
従来から、試料導入部と、試料導入部を外側から加熱するヒータブロックとを備えるガスクロマトグラフが知られている(例えば、下記特許文献1参照)。ガスクロマトグラフでは、試料導入部に試料が導入されるとともに、ヒータブロックによって試料導入部が加熱される。そして、試料導入部内の試料が気化する。気化した試料は、カラムに導入された後、検出器によって検出される。
図4は、このような従来のガスクロマトグラフに備えられる試料導入部100及びヒータブロック200を示した側断面図である。試料導入部100は、中空状の本体101と、本体101の一端部(上端部)に取り付けられたセプタム102とを備えている。本体101の内部空間は、試料を気化するための試料気化室103として形成されている。
ヒータブロック200は、本体201と、ピン202とを備えている。本体201は、筒状に形成されており、その内部空間が挿入空間203として形成されている。また、本体201は、ヒータ301を保持している。ピン202は、本体201の上端部に設けられており、本体201の外側に向かって突出している。
ガスクロマトグラフにおいて、試料導入部100及びヒータブロック200は、以下のようにして固定される。まず、ヒータブロック200の本体201の挿入空間203に、試料導入部100の本体101が挿入されるとともに、試料導入部100の本体101が天板303に固定される。なお、天板303は、ガスクロマトグラフ内において位置固定されている部材である。
そして、試料導入部100の本体101の他端部(下端部)に設けられたナット302が締め付けられることにより、ナット302が本体101の上端部側に移動する。さらに、このナット302によってヒータブロック200の本体201が押し上げられ、本体201の上端部に設けられたピン202が天板303に当接する。これにより、ヒータブロック200が位置固定される。
この状態で、ヒータ301によってヒータブロック200を介して試料導入部100(試料気化室103)が加熱される。
特許第5120303号公報
上記のような従来のガスクロマトグラフでは、ヒータブロック200は、ピン202が天板303に押し当てられることにより固定されているため、ヒータ301からの熱の一部が、ピン202を介して天板303に伝達してしまう。そのため、試料導入部100を加熱するための熱の一部が、ピン202を介して損失してしまうという不具合がある。特に、気温が低い場合など、天板303の温度が低い場合には、損失する熱の量が大きくなるだけでなく、気化室内部の温度分布も変化してしまうという問題点があった。また、ヒータブロック200は、ピン202が天板303に当接されることにより試料導入部100に対して間接的に位置決めされている。そのため、天板303に対するピン202の当接の状態によっては、試料導入部100に対するヒータブロック200の位置がずれることがあった。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、試料導入部を効率よく加熱でき、かつ、試料導入部に対してヒータブロックを確実に位置決めできるガスクロマトグラフを提供することを目的とする。
(1)本発明に係るガスクロマトグラフは、試料導入部と、ヒータブロックと、位置決め機構とを備える。前記試料導入部は、試料を気化させる試料気化室が内部に形成される。前記ヒータブロックは、前記試料導入部を外側から加熱する。前記位置決め機構は、前記試料導入部に設けられた接触部に前記ヒータブロックを接触させることにより、前記試料導入部に対して前記ヒータブロックを位置決めする。
このような構成によれば、ヒータブロックは、位置決め機構によって、試料導入部の接触部に直接的に接触されることにより、試料導入部に対して位置決めされる。
そのため、試料導入部に対してヒータブロックを確実に位置決めできる。
また、ヒータブロックからの熱が外部に伝達して損失するような部材を設けることなく、ヒータブロックを位置決めできる。
そのため、ヒータブロックからの熱を損失することなく試料導入部に伝達でき、試料導入部を効率的に加熱できる。
(2)また、前記ヒータブロックは、筒状の部材であってもよい。前記試料導入部は、軸線方向に沿って前記ヒータブロック内に挿入されてもよい。前記位置決め機構は、前記軸線方向における前記ヒータブロックの両端部を挟み込んだ状態で、前記試料導入部に対して前記ヒータブロックを位置決めしてもよい。
このような構成によれば、試料導入部に対して位置決めされるヒータブロックの位置を確実に一定位置に保つことができる。
(3)また、前記位置決め機構は、前記試料導入部に対する前記ヒータブロックの位置決めの相対位置を変更可能であってもよい。
このような構成によれば、ヒータブロックによる試料導入部の加熱位置を変更できる。
そのため、ガスクロマトグラフにおける分析の内容に応じて、試料導入部の加熱部分を調整できる。例えば、試料導入部にスプリット流路が連続している場合には、その連続部分周辺を加熱するように加熱位置を変更することで、スプリット流路において前回分析時の試料が溜まるキャリーオーバーが発生することを抑制できる。また、例えば、試料導入部における試料注入口周辺の加熱を抑制するように加熱位置を変更することで、試料を試料導入部に注入している途中で試料が気化することを抑制でき、再現性の高い分析を行うことができる。
(4)また、前記接触部が複数の取付位置に着脱可能であってもよい。前記位置決め機構は、複数の前記取付位置のいずれかに取り付けられた前記接触部に前記ヒータブロックを接触させることにより、前記試料導入部に対する前記ヒータブロックの位置決めの相対位置を変更可能であってもよい。
このような構成によれば、接触部の取付位置を変更するだけの簡易な操作で、試料導入部に対するヒータブロックの位置決めの相対位置を変更できる。
本発明によれば、ヒータブロックは、試料導入部の接触部に直接的に接触されることにより、試料導入部に対して位置決めされる。そのため、ヒータブロックからの熱を損失することなく試料導入部に伝達でき、試料導入部を効率的に加熱できる。また、試料導入部に対してヒータブロックを確実に位置決めできる。
本発明の一実施形態に係るガスクロマトグラフの構成例を示した概略図である。 図1のガスクロマトグラフの試料導入部及びヒータブロック示した側断面図であって、ヒータブロックが第1取付位置に位置する状態を示している。 図1のガスクロマトグラフの試料導入部及びヒータブロック示した側断面図であって、ヒータブロックが第2取付位置に位置する状態を示している。 従来のガスクロマトグラフに備えられる試料導入部及びヒータブロックを示した側断面図である。
1.ガスクロマトグラフの全体構成
図1は、本発明の一実施形態に係るガスクロマトグラフの構成例を示した概略図である。このガスクロマトグラフは、キャリアガスとともに試料ガスをカラム1内に供給することにより分析を行うためのものであり、上記カラム1以外に、カラムオーブン2、試料導入部3、検出器4、及び、これらを収容する中空状の本体10などを備えている。
カラム1は、例えば、キャピラリカラムからなる。カラム1は、ヒータ及びファンなど(いずれも図示せず)とともにカラムオーブン2内に収容されている。
カラムオーブン2は、カラム1を加熱するためのものであり、分析時にはヒータ及びファンを適宜駆動させる。
試料導入部3は、カラム1内にキャリアガス及び試料ガスを導入するためのものであり、その内部に試料気化室31が形成されている。この試料気化室31には、液体試料が注入され、試料気化室31内で気化された試料が、キャリアガスとともにカラム1内に導入される。また、試料気化室31には、ガス供給流路5及びスプリット流路6が連通している。
ガス供給流路5は、試料導入部3の試料気化室31内にキャリアガスを供給するための流路である。
スプリット流路6は、スプリット導入法によりカラム1内にキャリアガス及び試料ガスを導入する際に、試料気化室31内のガス(キャリアガス及び試料ガスの混合ガス)の一部を所定のスプリット比で外部に排出するための流路である。
検出器4は、例えば、水素炎イオン化検出器(FID)により構成される。検出器4は、カラム1から導入されるキャリアガスに含まれる各試料成分を順次検出する。
このガスクロマトグラフにおいて試料を測定する際は、分析対象となる試料が試料導入部3に注入される。試料は、試料気化室31において気化される。また、試料導入部3の試料気化室31には、ガス供給流路5を介してキャリアガスが供給される。
試料気化室31内で気化された試料は、キャリアガスとともにカラム1内に導入される。試料に含まれる各試料成分は、カラム1内を通過する過程で分離されて、検出器4に順次導入される。
そして、検出器4において、カラム1から導入されるキャリアガスに含まれる各試料成分が順次検出される。また、検出器4における検出結果に基づいて、クロマトグラムが生成される。
2.試料導入部及びヒータブロックの詳細な構成
図2は、図1のガスクロマトグラフの試料導入部3及びヒータブロック7を示した側断面図であって、ヒータブロック7が第1取付位置に位置する状態を示している。
上記した試料導入部3は、本体32と、取付部33と、セプタム34とを備えている。
本体32は、長尺な中空円柱状に形成されている。本体32の軸線方向において、本体32の一端部(上端部)には、第1凹部35及び第2凹部36が形成されており、他端部(下端部)には、後述するナット42を取り付けるためのねじ山(図示せず)が形成されている。本体32の内部空間は、上記した試料気化室31として形成されている。
第1凹部35は、本体32の上端部の周面に形成されている。第1凹部35は、本体32の周面から径方向内方に向かって窪む円環状の溝である。
第2凹部36は、本体32の上端部の周面であって、第1凹部35よりも下端部側の周面に形成されている。第2凹部36は、本体32の周面から径方向内方に向かって窪む円環状の溝である。第2凹部36の形状は、第1凹部35の形状と同一である。
取付部33は、本体32の上端部の端面に取り付けられている。取付部33は、円環状に形成されている。
セプタム34は、取付部33の端面であって、本体32が位置する側と反対側の端面に取り付け可能に構成されている。後述するように、セプタム34は、試料導入部3が固定された状態において、取付部33に取り付けられる。セプタム34は、例えば、ゴム製又はシリコン製の部材である。
ヒータブロック7は、固定された状態においては、試料導入部3の本体32を覆うようにして、試料導入部3の外側に配置されている。ヒータブロック7は、本体71と、保持部72とを備えている。
本体71は、長尺な筒状に形成されている。本体71の内径は、試料導入部3の本体32の外径よりもわずかに大きい。本体71の長手方向(軸線方向)の寸法は、試料導入部3の本体32の長手方向(軸線方向)の寸法よりも小さい。本体71の内部空間は、挿入空間73として形成されている。
保持部72は、本体71と一体的に形成されており、本体71の周面から径方向外方に突出している。保持部72は、本体71の軸線方向に沿って延びる長尺状に形成されている。保持部72には、長手方向(本体71の軸線方向)に貫通する保持空間74が形成されている。保持空間74内には、ヒータ8が配置されている。
3.試料導入部及びヒータブロックの固定
(1)本体に固定される部材
上記した本体10内(図1参照)には、天板11と、挿入部12とが配置されている。
天板11は、水平方向に拡がる板状の部材であって、本体10に取り付けられている。天板11には、上下方向に貫通する取付穴11Aが形成されている。天板11には、上記したスプリット流路6が形成されている。
挿入部12は、天板11の下方に取り付けられている。すなわち、挿入部12は、天板11とともに本体10内において固定されている。挿入部12は、例えば、断熱材からなり、上下方向に延びる筒状に形成されている。上下方向に見たときに、挿入部12の内部空間と、天板11の取付穴11Aとは重なっている。
(2)試料導入部に対するヒータブロックの固定
また、試料導入部3及びヒータブロック7を固定する際には、接触部41及びナット42が用いられる。
接触部41は、後述するように、試料導入部3の本体32の上端部に取り付けられる。接触部41は、例えば、水平面内でE字状に湾曲するEリングである。接触部41の上下方向の厚みは、第1凹部35及び第2凹部36のそれぞれの上下方向の幅と同一である。また、接触部41の水平方向の幅は、第1凹部35及び第2凹部36のそれぞれの水平方向の深さよりも大きい。また、接触部41の内径は、試料導入部3の本体32の外径よりも小さい。
ナット42は、後述するように、試料導入部3の本体32の下端部に取り付けられる。
なお、接触部41及びナット42が、試料導入部3に対してヒータブロック7を位置決めする位置決め機構を構成している。
そして、試料導入部3及びヒータブロック7は、以下のようにして固定される。
まず、試料導入部3の本体32の第1凹部35又は第2凹部36のいずれかに接触部41が取り付けられる。なお、ここでは、接触部41が第1凹部35に取り付けられる場合について説明する。
具体的には、接触部41は、第1凹部35に嵌められることにより、試料導入部3の本体32に対して固定される。この状態において、接触部41の内縁部は、第1凹部35内に入り込んでおり、接触部41の外縁部は、試料導入部3の本体32の外周面よりも径方向外方側に突出している。
そして、ヒータブロック7の本体71の挿入空間73に、試料導入部3の本体32が挿入される。具体的には、まず、試料導入部3の本体32が、ヒータブロック7の本体71の挿入空間73に下端部側から挿入される。
次いで、試料導入部3の本体32の下端部にナット42が取り付けられる。そして、ナット42が締め付けられることにより、ナット42が試料導入部3の本体32の上端部側に移動してヒータブロック7の本体71の下端面に当接する。さらに、ナット42が締め付けられることにより、ナット42によって、ヒータブロック7の本体71が押し上げられ、ヒータブロック7が試料導入部3の本体32の上端部側に移動する。そして、ヒータブロック7の本体71の上端面は、試料導入部3の上端部(第1凹部35)に設けられた接触部41に当接する。
このようにして、ヒータブロック7の本体71は、接触部41及びナット42によって、その両端部が挟み込まれるようにして、試料導入部3の本体32に対して固定される。このときの試料導入部3の本体32に対するヒータブロック7(ヒータ8)の位置が第1取付位置である。
ヒータブロック7が取り付けられた試料導入部3の本体32は、その軸線方向が上下方向に沿う状態で、挿入部12内に配置される。試料導入部3の本体32の上端部は、天板11の取付穴11Aに取り付けられている取付部33に固定される。セプタム34は、固定された状態の取付部33に対して取り付けられる。
このように、ヒータブロック7は、試料導入部3の本体32に取り付けられた接触部41に直接的に接触することによって、試料導入部3の本体32に対して固定される。そして、試料導入部3が天板11に固定されることにより、ヒータブロック7が位置固定される。
そして、この状態で、ヒータ8の熱がヒータブロック7を介して試料導入部3に伝達されることにより、試料導入部3が加熱される。具体的には、試料導入部3の本体32では、ヒータブロック7によって、その上端部から下端部までが加熱される。
4.試料導入部とヒータブロックとの相対位置の変更
このガスクロマトグラフでは、以下のように接触部41の位置を変更することにより、試料導入部3の本体32が加熱される位置(箇所)を調整できる。
図3は、図1のガスクロマトグラフの試料導入部3及びヒータブロック50を示した側断面図であって、ヒータブロック50が第2取付位置に位置する状態を示している。
例えば、セプタム34の周辺の加熱を抑制したい場合などには、接触部41は、図3に示すように、第2凹部36に嵌められて、試料導入部3の本体32に対して固定される。
この状態において、接触部41の内縁部は、第2凹部36内に入り込んでおり、接触部41の外縁部は、試料導入部3の本体32の外周面よりも径方向外方側に突出している。
そして、上記の試料導入部3に対するヒータブロック7の固定と同様にして、試料導入部3に対してヒータブロック50が固定される。
なお、ヒータブロック50の形状は、ヒータブロック7において、その長手方向(軸線方向)の寸法を小さくした形状であって、長手方向の寸法以外は、ヒータブロック7の形状と同様である。すなわち、ヒータブロック50の本体51、保持部52、挿入空間53及び保持空間54のそれぞれは、ヒータブロック7の本体71、保持部72、挿入空間73及び保持空間74のそれぞれに対応している。また、ヒータブロック50の保持空間54内には、ヒータ8が配置されている。
すなわち、ヒータブロック50の本体51の挿入空間53に、試料導入部3の本体32が挿入される。そして、試料導入部3の本体32がヒータブロック50の本体51によって覆われる。
次いで、試料導入部3の本体32の下端部にナット42が取り付けられる。また、ナット42が締め付けられることにより、ナット42によって、ヒータブロック50の本体51が押し上げられ、ヒータブロック50が試料導入部3の本体32の上端部側に移動する。そして、ヒータブロック50の本体51の上端面は、試料導入部3の第2凹部36に設けられた接触部41に当接する。
このようにして、ヒータブロック50の本体51は、接触部41及びナット42によって、その両端部が挟み込まれるようにして、試料導入部3の本体32に対して固定される。このときの試料導入部3の本体32に対するヒータブロック50(ヒータ8)の位置が第2取付位置である。
このとき、試料導入部3の本体32におけるセプタム34周辺の部分は、ヒータブロック50の本体51には覆われていない。
また、上記と同様にして、試料導入部3の本体32が天板11に対して固定される。
この状態で、ヒータ8の熱がヒータブロック50を介して試料導入部3に伝達されることにより、試料導入部3が加熱される。具体的には、試料導入部3の本体32は、ヒータブロック50によって、セプタム34周辺を除く部分が加熱される。
5.作用効果
(1)本実施形態では、図2に示すように、ヒータブロック7は、試料導入部3の本体32に取り付けられた接触部41に直接的に接触することによって、試料導入部3の本体32に対して固定されて位置決めされる。
そのため、試料導入部3に対してヒータブロック7を確実に位置決めできる。
また、ヒータブロック7からの熱が外部に伝達して損失するような部材を設けることなく、ヒータブロック7を位置決めできる。
そのため、ヒータブロック7からの熱を損失することなく試料導入部3に伝達でき、試料導入部3を効率的に加熱できる。
(2)また、本実施形態では、図2に示すように、ヒータブロック7の本体71は、接触部41及びナット42によって、その両端部が挟み込まれるようにして、試料導入部3に対して固定されて位置決めされる。
そのため、試料導入部3に対して位置決めされるヒータブロック7の位置を確実に一定位置に保つことができる。
(3)また、本実施形態では、図2及び図3に示すように、試料導入部3に対するヒータブロック7,50の位置決めの相対位置が変更可能であるため、試料導入部3における加熱部分を変更できる。
そのため、ガスクロマトグラフにおける分析の内容に応じて、試料導入部3の加熱部分を調整できる。例えば、図2に示すように、試料導入部3の本体32が、ヒータブロック7によって、上端部から下端部まで加熱されるようにすると、スプリット流路6周辺を加熱することができる。そして、この場合には、スプリット流路6において前回分析時の試料が溜まるキャリーオーバーが発生することを抑制できる。また、例えば、図3に示すように、試料導入部3の本体32におけるセプタム34周辺の部分が、ヒータブロック50の本体51に覆われないようにすると、試料導入部3におけるセプタム34周辺を除く部分を加熱することができる。そして、この場合には、セプタム34を介して試料を試料気化室31に注入している途中で試料が気化することを抑制でき、再現性の高い分析を行うことができる。
(4)また、本実施形態では、図2及び図3に示すように、接触部41は、第1凹部35及び第2凹部36のいずれかに着脱可能である。そして、接触部41が第1凹部35及び第2凹部36のいずれかに取り付けられた状態で、接触部41にヒータブロック7,50を当接させることにより、試料導入部3に対するヒータブロック7,50の位置決めの相対位置が変更される。
そのため、接触部41の取付位置を変更するだけの簡易な操作で、試料導入部3に対するヒータブロック7,50の位置決めの相対位置を変更できる。
6.変形例
以上の説明では、接触部41は、Eリングであるとして説明したが、接触部41は、試料導入部3の本体32に設けられ、ヒータブロックに直接的に接触する部材であればよい。例えば、接触部41は、Cリングなどの他のリング部材によって構成されてもよい。また、例えば、接触部41は、試料導入部3の本体32に取り付けられるねじなどのように、試料導入部3の本体32の外周面から突出するように取り付けられる他の部材であってもよい。
また、以上の説明では、試料導入部3の本体32には、第1凹部35及び第2凹部36の2つの凹部が形成されるとして説明したが、試料導入部3の本体32には、接触部41を取り付ける凹部が3つ以上形成されてもよい。
また、以上の説明では、1つの接触部41が試料導入部3の本体32に設けられるとして説明したが、複数の接触部が試料導入部3の本体32に設けられてもよい。そして、複数の接触部のいずれかにヒータブロックを接触させることにより、試料導入部3に対するヒータブロックの位置決めの相対位置を変更してもよい。この場合には、各接触部の突出量は、試料導入部3の本体32の上端部側に配置されるに従って大きくなることが好ましい。このような構成によれば、ヒータブロックを接触させる接触部を変更するだけで、試料導入部3に対するヒータブロックの位置決めの相対位置を容易に変更できる。
また、以上の説明では、1つのヒータブロックを試料導入部3の本体32に対して固定するとして説明したが、任意の個数のヒータブロックを選択し、各ヒータブロックをそれぞれ試料導入部3の本体32に対して固定してもよい。
また、以上の説明では、試料導入部3の本体32に凹部が形成され、その凹部に接触部41が嵌められるとして説明したが、試料導入部3の本体32と接触部が一体的に形成されていてもよい。
3 試料導入部
7 ヒータブロック
31 試料気化室
35 第1凹部
36 第2凹部
41 接触部
42 ナット
50 ヒータブロック

Claims (4)

  1. 試料を気化させる試料気化室が内部に形成された試料導入部と、
    前記試料導入部を外側から加熱するヒータブロックと、
    前記試料導入部に設けられた接触部に前記ヒータブロックを接触させることにより、前記試料導入部に対して前記ヒータブロックを位置決めする位置決め機構とを備えることを特徴とするガスクロマトグラフ。
  2. 前記ヒータブロックは、筒状の部材であり、
    前記試料導入部は、軸線方向に沿って前記ヒータブロック内に挿入されており、
    前記位置決め機構は、前記軸線方向における前記ヒータブロックの両端部を挟み込んだ状態で、前記試料導入部に対して前記ヒータブロックを位置決めすることを特徴とする請求項1に記載のガスクロマトグラフ。
  3. 前記位置決め機構は、前記試料導入部に対する前記ヒータブロックの位置決めの相対位置を変更可能であることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスクロマトグラフ。
  4. 前記接触部が複数の取付位置に着脱可能であり、
    前記位置決め機構は、複数の前記取付位置のいずれかに取り付けられた前記接触部に前記ヒータブロックを接触させることにより、前記試料導入部に対する前記ヒータブロックの位置決めの相対位置を変更可能であることを特徴とする請求項3に記載のガスクロマトグラフ。
JP2016006234A 2016-01-15 2016-01-15 ガスクロマトグラフ Active JP6540522B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016006234A JP6540522B2 (ja) 2016-01-15 2016-01-15 ガスクロマトグラフ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016006234A JP6540522B2 (ja) 2016-01-15 2016-01-15 ガスクロマトグラフ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017125808A true JP2017125808A (ja) 2017-07-20
JP6540522B2 JP6540522B2 (ja) 2019-07-10

Family

ID=59365317

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016006234A Active JP6540522B2 (ja) 2016-01-15 2016-01-15 ガスクロマトグラフ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6540522B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019003792A1 (ja) 2017-06-28 2019-01-03 パイオニア株式会社 制御装置、制御方法、及びプログラム
US20200018732A1 (en) * 2018-07-11 2020-01-16 Shimadzu Corporation Gas chromatograph

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4886020U (ja) * 1972-01-26 1973-10-18
JPH01250857A (ja) * 1988-03-31 1989-10-05 Shimadzu Corp 試料気化装置
JP2006145535A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Agilent Technol Inc ガスクロマトグラフィ試料導入装置およびその使用方法
US20060157983A1 (en) * 2005-01-19 2006-07-20 Lyons Paul M High pressure coupling device and method
JP3142790U (ja) * 2008-04-15 2008-06-26 株式会社島津製作所 ガスクロマトグラフ
JP2010217078A (ja) * 2009-03-18 2010-09-30 Shimadzu Corp ガスクロマトグラフ及びガスクロマトグラフ質量分析計
WO2015004757A1 (ja) * 2013-07-10 2015-01-15 株式会社島津製作所 試料気化ユニット及びガスクロマトグラフ
WO2015037123A1 (ja) * 2013-09-13 2015-03-19 株式会社島津製作所 着脱機構、試料気化ユニット、水素炎イオン化検出器及びガスクロマトグラフ

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4886020U (ja) * 1972-01-26 1973-10-18
JPH01250857A (ja) * 1988-03-31 1989-10-05 Shimadzu Corp 試料気化装置
JP2006145535A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Agilent Technol Inc ガスクロマトグラフィ試料導入装置およびその使用方法
US20060157983A1 (en) * 2005-01-19 2006-07-20 Lyons Paul M High pressure coupling device and method
JP3142790U (ja) * 2008-04-15 2008-06-26 株式会社島津製作所 ガスクロマトグラフ
JP2010217078A (ja) * 2009-03-18 2010-09-30 Shimadzu Corp ガスクロマトグラフ及びガスクロマトグラフ質量分析計
WO2015004757A1 (ja) * 2013-07-10 2015-01-15 株式会社島津製作所 試料気化ユニット及びガスクロマトグラフ
WO2015037123A1 (ja) * 2013-09-13 2015-03-19 株式会社島津製作所 着脱機構、試料気化ユニット、水素炎イオン化検出器及びガスクロマトグラフ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019003792A1 (ja) 2017-06-28 2019-01-03 パイオニア株式会社 制御装置、制御方法、及びプログラム
US20200018732A1 (en) * 2018-07-11 2020-01-16 Shimadzu Corporation Gas chromatograph
US10753912B2 (en) * 2018-07-11 2020-08-25 Shimadzu Corporation Gas chromatograph

Also Published As

Publication number Publication date
JP6540522B2 (ja) 2019-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9897576B2 (en) Gas chromatography device
EP2889615B1 (en) Vaporizing injector, gas chromatograph and combined spectrometer
CN210743914U (zh) 电喷雾离子源及系统
JP6540522B2 (ja) ガスクロマトグラフ
KR19980080821A (ko) 가스크로마토그래프질량분석장치
JP4701855B2 (ja) ガスクロマトグラフ質量分析装置
US11099160B2 (en) Multidimensional gas chromatograph
US20140118734A1 (en) Atomizing Furnace
US11092579B2 (en) Machine for chemical analysis comprising the combination of electron ionization mass spectrometry with liquid chromatography
GB2390829A (en) Sample injection in gas chromatography.
US10753912B2 (en) Gas chromatograph
JP2010271241A (ja) マルチディメンジョナルガスクロマトグラフ装置
JP2017151117A (ja) ガスクロマトグラフ装置
JP5120303B2 (ja) ガスクロマトグラフ及びガスクロマトグラフ質量分析計
JP3296232B2 (ja) ガスクロマトグラフ用オンカラム試料導入装置
US11231400B2 (en) Column attaching method and heating device
US8821789B1 (en) Sample preparation assembly
JP6394499B2 (ja) フローコントローラ、及び、これを備えたガスクロマトグラフ
CN107533036B (zh) 用于液相色谱的溶剂预处理系统
JP3209322U (ja) ガスクロマトグラフ
JP2018155568A (ja) ガスクロマトグラフ
WO2022224294A1 (ja) 試料気化室、及びその試料気化室を備えたガスクロマトグラフ
WO2018047348A1 (ja) 試料気化ユニット
JP2005010102A (ja) 試料気化室
JP6631699B2 (ja) ガスクロマトグラフ用フィルタ装置及びガスクロマトグラフ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180606

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190314

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190514

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190527

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6540522

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151