JP6394499B2 - フローコントローラ、及び、これを備えたガスクロマトグラフ - Google Patents
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Description
そのため、ガス流出口に対する作業スペースを十分に確保でき、フローコントローラに対する作業性が高い。
そのため、ガスへの不純物の混入を抑制でき、測定精度を向上できる。また、接続部分が減ることにより、ガスが漏れる可能性を低減することができる。さらに、部品点数が減ることにより、製造コストを低減することができる。
また、他の部品から延びる配管とガス流入口とを連通させる場合には、その配管を第2部分に直接接続させれば、フローコントローラと他の部品との間で、複数の配管同士を連結する必要がなく、フローコントローラから延びる配管、及び、当該配管を他の配管に連結するための部材を省くことができる。
そのため、フィルタを着脱するための作業スペースを十分に確保でき、フローコントローラに対する作業性が一層高い。
また、フィルタによってガスへの不純物の混入を一層抑制でき、測定精度を一層向上できる。
そのため、ガスへの不純物の混入を抑制でき、測定精度を向上できる。また、接続部分が減ることにより、ガスが漏れる可能性を低減することができる。さらに、部品点数が減ることにより、製造コストを低減することができる。
また、試料導入部とフローコントローラとの間で、第2配管を他の配管に連結する必要がなく、他の配管、及び、第2配管を他の配管に連結するための部材を省くことができる。
そのため、ガスへの不純物の混入を抑制でき、測定精度を向上できる。また、接続部分が減ることにより、ガスが漏れる可能性を低減することができる。さらに、部品点数が減ることにより、製造コストを低減することができる。
その結果、フローコントローラに対する作業性が一層高い。
このような構成によれば、ガスクロマトグラフ内の空間を有効活用でき、ガスクロマトグラフの小型化を図れる。
図1は、本発明の一実施形態に係るガスクロマトグラフ1の構成例を示した概略図である。
ガスクロマトグラフ1は、カラム2と、カラムオーブン3と、試料導入部4と、検出器5と、フロー調整部6とを備えている。
キャリアガスコントローラ81は、流路部材811と、バルブ812と、流量センサ813と、圧力センサ814とを備えている。
なお、キャリアガスとしては、例えばHeガス又はN2ガスなどの不活性ガスが用いられる。
保持部9は、複数のAFC8を位置固定するように保持している。
また、分析対象となる試料が試料導入部4に注入される。そして、試料は、試料気化室7において気化される。
試料気化室7には、キャリアガスコントローラ81を介してキャリアガスが供給される。
このとき、H2ガスコントローラ82では、流量センサ823及び圧力センサ824によって検出されるH2ガスの流量及び圧力に基づいて、H2ガスの流量が所定量となるようにバルブ822がフィードバック制御される。
(1)キャリアガスコントローラ
図2は、図1のAFC8を示した斜視図である。図3は、図1のフロー調整部6を示した側断面図である。
上記したように、キャリアガスコントローラ81は、流路部材811を備えている。
流路部材811は、側面視略L字形状に形成されており、第1部分21と、第2部分22とを備えている。
第2部分22は、第1部分21の水平方向一方側の上端部から連続して水平方向に延びている。第2部分22は、略矩形状の板形状に形成されている。第2部分22と第1部分21との間のなす角度であって、第1部分21の下方側に形成される角度は、略90°である。
ガス流出口26は、第1外板23Aにおける第2部分22に配置されている。ガス流出口26は、第1外板23Aを厚み方向に貫通している。
そして、1対の外板23と中板24とが拡散接合されることにより、流路部材811が構成される。
このように、流路部材811の内部には、中板24に形成された複数の溝によって、複数の流路が形成される。
上記したように、H2ガスコントローラ82は、流路部材821を備えている。流路部材821は、キャリアガスコントローラ81の流路部材811とほぼ同様の構成である。
ガス供給口55は、第1外板53Aにおける第1部分51に配置されている。ガス供給口55は、第1外板53Aを厚み方向に貫通している。
ガス流出口56は、第1外板53Aにおける第2部分52に配置されている。ガス流出口56は、第1外板53Aを厚み方向に貫通している。
図3に示すように、保持部9は、上方が開放された矩形枠形状に形成されている。そして、保持部9は、複数のAFC8を並列配置するようにして保持(収容)している。具体的には、保持部9は、キャリアガスコントローラ81とH2ガスコントローラ82とを隣接させて保持している。
図4は、ガスクロマトグラフ1におけるフロー調整部6の周辺の構成を示した概念図である。
これにより、図3に示すように、流路部材811内の流路30と第1配管71とが連通する。
これにより、流路部材811内の流路(図示せず)と第2配管72とが連通する。
また、図2及び図3に示すように、H2ガスコントローラ82には、検出器5(図1参照)から延びる第3配管73が直接接続される。
これにより、図3に示すように、流路部材821内の流路60と第3配管73とが連通する。
(1)本実施形態では、図3に示すように、キャリアガスコントローラ81において、第2部分22は、第1部分21の上端部から水平方向に延びている。第2部分22と第1部分21との間のなす角度であって、第1部分21の下方側に形成される角度は、略90°である。第2部分22には、ガス流出口26が形成されている。
また、フィルタ75によって流路部材811内を流れるガスへの不純物の混入を一層抑制でき、測定精度を一層向上できる。
その結果、キャリアガスコントローラ81及びH2ガスコントローラ82に対する作業性を一層高く保つことができる。
そのため、ガスクロマトグラフ1内の空間を有効活用でき、ガスクロマトグラフ1の小型化を図れる。
以上の実施形態では、フロー調整部6の複数のAFC8には、キャリアガスコントローラ81と、H2ガスコントローラ82が含まれるとして説明したが、フロー調整部6の複数のAFC8の全てがキャリアガスコントローラ81であってもよい。この場合、検出器5は、フロー調整部6からガスが供給されるものに限らず、例えば熱伝導度型検出器、電子捕獲型検出器又は質量分析計などの他の検出器であってもよい。
2 カラム
4 試料導入部
5 検出器
7 試料気化室
8 AFC
9 保持部
21 第1部分
22 第2部分
23 外板
23A 第1外板
23B 第2外板
24 中板
25 ガス供給口
26 ガス流出口
27 ガス流入口
30 流路
31 部品
51 第1部分
52 第2部分
53 外板
53A 第1外板
53B 第2外板
54 中板
55 ガス供給口
56 ガス流出口
60 流路
61 部品
65 収容空間
71 第1配管
72 第2配管
73 第3配管
75 フィルタ
81 キャリアガスコントローラ
82 H2ガスコントローラ
811 流路部材
821 流路部材
Claims (9)
- ガスクロマトグラフに使用されるガスの流量を制御するためのフローコントローラであって、
複数の板が積層されて構成され、内部に流路が形成される流路部材を備え、
前記流路部材は、曲げられることにより第1部分と第2部分とに区分けされ、
前記第1部分には、ガスが供給されるガス供給口が形成されており、
前記第2部分には、前記ガス供給口から供給されて、前記流路を通過したガスが流出するガス流出口が形成されていることを特徴とするフローコントローラ。 - 前記第2部分には、外部からのガスが流入するガス流入口が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のフローコントローラ。
- 前記第2部分に直接取り付けられ、前記流路内を流れるガスから不純物を除去するフィルタをさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のフローコントローラ。
- 請求項1に記載のフローコントローラと、
試料が導入されるカラムと、
前記カラムに導入する試料を気化するための試料気化室が形成された試料導入部と、
前記カラムを通過する過程で分離された試料成分を検出する検出器とを備えることを特徴とするガスクロマトグラフ。 - 前記フローコントローラから前記試料導入部に向けてキャリアガスを送るための第1配管をさらに備え、
前記第1配管は、前記ガス流出口に連通するように前記第2部分に直接接続されていることを特徴とする請求項4に記載のガスクロマトグラフ。 - 前記第2部分には、外部からのガスが流入するガス流入口が形成されており、
前記試料導入部から前記フローコントローラに向けてスプリットガス又はパージガスを送るための第2配管をさらに備え、
前記第2配管は、前記ガス流入口に連通するように前記第2部分に直接接続されていることを特徴とする請求項5に記載のガスクロマトグラフ。 - 前記フローコントローラから前記検出器に向けて検出用ガスを送るための第3配管をさらに備え、
前記第3配管は、前記ガス流出口に連通するように前記第2部分に直接接続されていることを特徴とする請求項4に記載のガスクロマトグラフ。 - 前記フローコントローラは、複数備えられており、
前記複数のフローコントローラのそれぞれの前記第1部分が互いに平行に配置されるように、前記複数のフローコントローラを保持する保持部をさらに備えることを特徴とする請求項4〜7のいずれかに記載のガスクロマトグラフ。 - 互いに隣接する前記フローコントローラのうちの一方の前記フローコントローラの前記第1部分及び前記第2部分と、他方の前記フローコントローラの前記第1部分とにより囲まれる空間が、前記他方の前記フローコントローラの前記第1部分に取り付けられる部品を収容する収容空間を形成していることを特徴とする請求項8に記載のガスクロマトグラフ。
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