JP2017117658A - ヒータ - Google Patents

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【課題】 ヒータの長期信頼性を向上する。【解決手段】 本発明のヒータは、表面に凹部を有するセラミック基体と、該セラミック基体中に設けられた発熱抵抗体と、前記セラミック基体中に設けられており、一方が前記発熱抵抗体に接続されるとともに、他方が前記凹部の底面に引き出された取出電極と、該取出電極に導電性の接合材によって接合されているリード部材と、前記凹部の底面のうち前記凹部の壁面と前記リード部材との間に設けられた絶縁性部材とを備えており、該絶縁性部材の気孔率が前記セラミック基体の気孔率よりも大きい。【選択図】 図1

Description

本発明は、液体加熱用ヒータ、粉体加熱用ヒータ、気体加熱用ヒータおよび酸素センサ用ヒータ等に用いられるヒータに関するものである。
液体加熱用ヒータ、粉体加熱用ヒータ、気体加熱用ヒータおよび酸素センサ用ヒータ等に用いられるヒータとして、例えば特許文献1に開示されたセラミックヒータが知られている。特許文献1に開示されたセラミックヒータは、セラミック基体と、セラミック基体中に設けられた発熱抵抗体と、発熱抵抗体に接続されてセラミック基体の表面に引き出された取出電極とを備えている。セラミック基体の表面には凹部が設けられてり、取出電極は凹部の底面に引き出されている。取出電極は凹部の底面に引き出された部分がリード部材に接続されている。リード部材は、端部が凹部の内部に位置しており、接合材によって取出電極に接合されている。接合材が凹部の壁面まで流れることを防止すべく、壁面とリード部材との間にはセラミック基体と同質のペーストが配置されている。
特開2011−34979号公報
特許文献1に開示されたセラミックヒータは、接合材が凹部の壁面にまで流れることを防止するために、壁面とリード部材との間にペーストが配置されている。しかしながら、セラミックヒータを従来よりも急速に昇温したり急速に降温したりするような使い方をした場合には、ヒートサイクル下においてこのペーストと接合材との間に熱応力が発生してしまい、接合材にクラックが生じるおそれがあった。その結果、セラミックヒータの長期信頼性をさらに向上させることが困難であった。
本発明の一態様のヒータは、表面に凹部を有するセラミック基体と、該セラミック基体中に設けられた発熱抵抗体と、前記セラミック基体中に設けられており、一方が前記発熱抵抗体に接続されるとともに、他方が前記凹部の底面に引き出された取出電極と、該取出電極に導電性の接合材によって接合されているリード部材と、前記凹部の底面のうち前記凹部の壁面と前記リード部材との間に設けられた絶縁性部材とを備えており、該絶縁性部材の気孔率が前記セラミック基体の気孔率よりも大きいことを特徴とする。
本発明の一態様のヒータによれば、絶縁性部材の気孔率がセラミック基体の気孔率よりも大きい。そのため、ヒートサイクル下において絶縁性部材と接合材との間に熱応力が発生したとしても、絶縁性部材が変形することによってこの熱応力を吸収することができる。そのため、接合材にクラックが生じるおそれを低減できる。その結果、ヒータの長期信頼性をさらに向上できる。
本実施形態のヒータの一例を示す斜視図である。 図1に示すヒータにおけるセラミック基体を構成する2層のセラミック層のうち下側のセラミック層を示す平面図である。 図1に示すヒータにおけるセラミック基体を構成する2層のセラミック層のうち上側のセラミック層を示す平面図である。 図1に示すヒータのちセラミック基体の表面の凹部の近傍を示す斜視図である。 図4に示す凹部を通る断面で切った部分断面図である。 図5に示す凹部の近傍の平面図である。 変形例のヒータにおける凹部の近傍の平面図である。
本実施形態の一例のヒータ10について詳細に説明する。
図1は、本実施形態のヒータ10の一例を示す斜視図である。図1に示すように、ヒータ10は、表面に凹部14を有するセラミック基体1と、セラミック基体1に取り付けられたリード部材4とを備えている。ヒータ10は、セラミック基体1の内部にさらに発熱抵抗体2および取出電極3を備えている。凹部14はセラミック基体1の一方の端部に設けられている。
セラミック基体1は発熱抵抗体2を保護するために設けられる部材である。セラミック基体1の形状は、例えば、板状、棒状、または筒状である。図1に示すヒータ10においては、セラミック基体1は主面が長さ方向を有する長方形状である板状である。
セラミック基体1は、絶縁性のセラミック材料から成る。絶縁性のセラミック材料としては、例えばアルミナ、窒化珪素または窒化アルミニウムが挙げられる。熱伝導率に優れるという観点からは窒化アルミニウムを用いることが好ましい。特に、窒化アルミニウムを用いる場合には、セラミック基体11の熱伝導率を150W/(m・K)と高くできるので、セラミック基体1の内部に形成した発熱抵抗体2で発生した熱をヒータ10の表面に効率良く伝えることができる。したがって、ヒータ10の急速昇温が可能となる。
また、製造のしやすさの観点からはアルミナを用いることが好ましい。セラミック基体1が板状の場合には、セラミック基体1の寸法は、例えば長さを80mmに、幅を50mmに、厚みを2mmに設定することができる。セラミック基体1は、様々な方法で製造することができるが、本実施形態のヒータ10においては、セラミック基体1は2層のセラミック層が積層されて成る。
図2は、2層のセラミック層のうちの下側のセラミック層(以下、下側セラミック層11)を示している。下側セラミック層11は、セラミック基体1と同じく主面が長方形状である。下側セラミック層11の上面には発熱抵抗体2および取出電極3が形成されている。なお、本明細書においては、説明の都合上、セラミック基体1の表面のうち凹部14が設けられている側を上側と見なすとともに、反対側を下側と見なしている。しかしながら、これらは便宜上用いている表現であり、使用時におけるヒータ10の向き等を限定するものではない。すなわち、セラミック基体1の表面のうち下側の表面に凹部14があってもよいし、側面に凹部14があってもよい。
発熱抵抗体2は、電流が流れることによって発熱する抵抗体である。発熱抵抗体2はセラミック基体1の内部に設けられている。すなわち、発熱抵抗体2はセラミック基体1に埋設されている。より具体的には、発熱抵抗体2は、2層のセラミック層の層間に位置している。本実施形態のヒータ10における発熱抵抗体2は折り返し形状を有している。発熱抵抗体2の両端部は取出電極3に接続されている。
発熱抵抗体2の折り返し部はセラミック基体1の他方の端部に設けられている。取出電
極3は、セラミック基体1のうち発熱抵抗体2の折り返し部とは反対側の領域に設けられている。発熱抵抗体2の両端部は、取出電極3を介して、セラミック基体1に設けられたリード部材4に電気的に接続されている。
発熱抵抗体2は金属材料から成る。金属材料としては、例えばタングステン、モリブデンまたはレニウム等が挙げられる。取出電極3は、発熱抵抗体2と同じ金属材料を用いて、発熱抵抗体2と同時に形成することができる。また、取出電極3は、発熱抵抗体2とは異なる材料を用いて別々に形成することもできる。
図3は、2層のセラミック層のうちの上側のセラミック層(以下、上側セラミック層12)を示している。上側セラミック層12と下側セラミック層11とが積層されてセラミック基体1となる。上側セラミック層12は、部分的に切りかかれた2つの切り欠き部13を有する長方形状である。具体的には、上側セラミック層12は、上側セラミック層12を上下方向に貫通するとともに、上側セラミック層12の側面に開口する切り欠き部13を有している。切り欠き部13は、上側セラミック層12の主面の長手方向に伸びるように、形成されている。切り欠き部13のうち、上側セラミック層12の側面に開口する部分の太さは、リード部材4を挿入できる程度の太さに設定されており、また、長手方向で見たときに、切り欠き部13のうち開口部とは反対側に位置する端部も、リード部材4を挿入できる程度の太さに設定されている。そして、切り欠き部13のうち開口部および開口部の反対側に位置する端部の間に位置する領域は、開口部および開口部の反対側に位置する端部と比較して、幅広になるように形成されている。
図2に示した下側セラミック層11と図3に示した上側セラミック層12とが積層されてセラミック基体1が形成されている。このとき、下側セラミック層11の上面と上側セラミック層12の切り欠き部13とによって、セラミック基体1の表面の2つの凹部14が形成される。そのため、本例においては、凹部14はセラミック基体1の上面とセラミック基体1の側面に開口している。より具体的には、凹部14は、セラミック基体1の側面のうちセラミック基体1の長手方向に対して垂直に交わる側面に開口している。
また、上側セラミック層12における切り欠き部13は、下側セラミック層11の上面に形成された取出電極3に重なるように位置している。すなわち、セラミック基体1の表面の凹部14の底面に取出電極3が引き出されている。
図4は、セラミック基体1の表面の凹部14の近傍を示す斜視図である。図4に示すように、リード部材4は、凹部14のうちセラミック基体1の側面に開口する部分から挿入されている。リード部材4は、2つの凹部14のそれぞれに取り付けられる。
リード部材4は発熱抵抗体2に電力を供給するための部材である。リード部材4は外部の電源(図示せず)に電気的に接続されて用いられる。リード部材4としては、ニッケルまたは銅の金属からなる線材または板材を用いることができる。リード部材4は、取出電極3のうち凹部14の底面に引き出された部分に接合材5によって接続されている。接合材5としては、例えば、ろう材を用いることができる。図4においては説明の都合上、一方のリード部材4のみを記載して、他方のリード部材4を省略している。また、図4においては、接合材5および後述する絶縁性部材6も省略している。
上述したとおり、上側セラミック層12の切り欠き部13は上側セラミック層12の側面の開口部と開口部と反対側に位置する端部との間に幅広な領域を有している。そのため、凹部14も同様に、幅広な領域を有することになる。そして、凹部14のうち幅広な領域において、取出電極3とリード部材4との接合および電気的な接続が行なわれている。
図5は、凹部14を通りリード部材4の長手方向に垂直な断面で切った断面図である。図5に示すように、リード部材4は、取出電極3に接合材5を介して接合されている。接合材5と、凹部14の壁面との間には絶縁性部材6が設けられている。絶縁性部材6は、接合材5が凹部14の壁面に濡れ広がることを防止するために設けられている。
ここで、本実施形態においては、絶縁性部材6の気孔率がセラミック基体1の気孔率よりも大きい。そのため、ヒートサイクル下において絶縁性部材6と接合材5との間に熱応力が発生したとしても、この熱応力を絶縁性部材6が変形することによって吸収することができる。そのため、接合材5にクラックが生じるおそれを低減できる。その結果、ヒータ10の長期信頼性をさらに向上できる。絶縁性部材6としては、例えば、アルミナ、窒化珪素または窒化アルミニウム等のセラミック材料を用いることができる。
気孔率が大きな絶縁性部材6を得るための方法として、例えば、以下の方法が挙げられる。具体的には、アルミナ粉末に、造孔材、樹脂バインダー、及び水又は有機溶剤を回転ミルにて混練し、セラミックスラリーを得る。このとき、造孔材の量を調整することによって気孔率を調整することができる。これらをスプレードライ等の方法で有機溶剤を除去し、メッシュパスした紛体をプレス機で所定の形状にプレスする。その後1500℃で焼成し、所定の形状に研削加工することによって、上記の気孔率が大きな絶縁性部材6を得ることができる。次に、造孔材を含まないグリーンシートを積層して成るセラミック基体1の凹部の隅部に、アルミナ粉末とバインダーからなるセラミックペーストを塗り、上記で得られた絶縁性部材6を配置し、1450℃焼成することにより、凹部14の底面の隅部に絶縁性部材6が接合されたセラミック基体1を得ることができる。
また別の方法として、以下の方法が挙げられる。まず、アルミナ粉末に、造孔材、樹脂バインダー、及び水又は有機溶剤を回転ミルにて混練し、セラミックスラリーを得る。このとき、造孔材の量を調整することによって気孔率を調整することができる。これらをスプレードライ等の方法で有機溶剤を除去し、メッシュパスした紛体をプレス機で所定の形状にプレスする。その後所定の形状に切削して、焼成前のセラミック基体1の凹部14の隅部に切削後の部材を配置し、造孔材を含まないグリーンシートを積層して成るセラミック基体1と1500℃で一体焼結することで、凹部14の底面の隅部に気孔率がセラミック基体1よりも大きな絶縁性部材6が接合されたセラミック基体1を得ることができる。
セラミック基体1および絶縁性部材6がともに、アルミナから成る場合には、例えば、セラミック基体1の気孔率を0.01〜0.1%に、絶縁性部材6の気孔率を1〜10%に設定できる。
気孔率の測定方法としては、以下の方法が挙げられる。例えば、アルキメデス法を用いて気孔率の測定を行なうことができる。ただし、絶縁性部材6の大きさが小さすぎてアルキメデス法による測定が困難な場合には、以下の方法に替えてもよい。具体的には、セラミック基体1の表面と絶縁性部材6の表面とをSEM(走査型電子顕微鏡)を用いて確認する。ここで得られた画像からセラミック基体1の表面と絶縁性部材6の表面との空隙率を求める。そして、両者の空隙率の比較を行ない、絶縁性部材6の表面の空隙率がセラミック基体1の表面の空隙率よりも大きい場合には、絶縁性部材6の気孔率がセラミック基体1の気孔率よりも大きいと見なすことがでいる。
また、図6に示すように、凹部14の底面が四角形状の部分を有しており、リード部材4は四角形状のうちの2辺の間に2辺と並ぶように設けられているとともに、平面視したときに、絶縁性部材6は、2辺のうち少なくとも一方の辺に接して底面に広がっているとともに、一方の辺の中央よりも一方の辺の端部において一方の辺に垂直な方向に幅広であってもよい。これにより、一般的に応力が集中しやすい四角形状の隅部において絶縁性部材6を多く設けることができるので、凹部14の隅部にクラックが生じるおそれを低減できる。なお、図6においては、絶縁性部材6を明確に示すことを目的として、接合材5を省略している。
また、平面視したときに、絶縁性部材6のうちリード部材4に対向している領域は、一方の辺の中央に向かって凹んだ弧状であってもよい。これにより、接合材5を弧状に広げることができるので、接合材5を滑らかに広げることができる。そのため、接合材5に角部等を生じにくくすることができるので、接合材5に応力の集中を起こりにくくすることがでいる。その結果、ヒータ10の長期信頼性を向上できる。
また、図7に示すように、平面視したときに、絶縁性部材6のうちリード部材4に対向している領域は、波打った形状であってもよい。これにより、接合材5を波状に広げることができるので、接合材5と絶縁性部材6との接触面積を増やすことができる。そのため、発熱抵抗体2から取出電極3等を介して接合材5に伝わってきた熱を絶縁性部材6に素早く放熱することができる。なお、図7においては、絶縁性部材6を明確に示すことを目的として、接合材5を省略している。
1:セラミック基体
11:下側セラミック層
12:上側セラミック層
13:切り欠き部
14:凹部
2:発熱抵抗体
3:取出電極
4:リード部材
5:接合材
6:絶縁性部材
10:ヒータ

Claims (4)

  1. 表面に凹部を有するセラミック基体と、該セラミック基体中に設けられた発熱抵抗体と、前記セラミック基体中に設けられており、一方が前記発熱抵抗体に接続されるとともに、他方が前記凹部の底面に引き出された取出電極と、該取出電極に導電性の接合材によって接合されているリード部材と、前記凹部の底面のうち前記凹部の壁面と前記リード部材との間に設けられた絶縁性部材とを備えており、該絶縁性部材の気孔率が前記セラミック基体の気孔率よりも大きいことを特徴とするヒータ。
  2. 前記凹部の底面が四角形状の部分を有しており、前記リード部材は前記四角形状のうちの2辺の間に前記2辺と並ぶように設けられているとともに、平面視したときに、前記絶縁性部材は、前記2辺のうち少なくとも一方の辺に接して前記底面に広がっているとともに、前記一方の辺の中央よりも前記一方の辺の端部において前記一方の辺に垂直な方向に幅広であることを特徴とする請求項1に記載のヒータ。
  3. 平面視したときに、前記絶縁性部材のうち前記リード部材に対向している領域は、前記一方の辺の中央に向かって凹んだ弧状であることを特徴とする請求項2に記載のヒータ。
  4. 平面視したときに、前記絶縁性部材のうち前記リード部材に対向している領域は、波打った形状であることを特徴とする請求項2に記載のヒータ。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006165181A (ja) * 2004-12-06 2006-06-22 Toshiba Ceramics Co Ltd 金属部材埋設セラミックス基材の給電端子取付け構造
JP2008130609A (ja) * 2006-11-16 2008-06-05 Ngk Insulators Ltd 加熱装置
JP2011034979A (ja) * 2004-05-27 2011-02-17 Kyocera Corp セラミックヒータ及びそれを用いたヘアアイロン
KR20110042737A (ko) * 2009-10-20 2011-04-27 (주) 존인피니티 Dc 구동형 세라믹 히터

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011034979A (ja) * 2004-05-27 2011-02-17 Kyocera Corp セラミックヒータ及びそれを用いたヘアアイロン
JP2012253040A (ja) * 2004-05-27 2012-12-20 Kyocera Corp セラミックヒータ及びそれを用いたヘアアイロン
JP2006165181A (ja) * 2004-12-06 2006-06-22 Toshiba Ceramics Co Ltd 金属部材埋設セラミックス基材の給電端子取付け構造
JP2008130609A (ja) * 2006-11-16 2008-06-05 Ngk Insulators Ltd 加熱装置
KR20110042737A (ko) * 2009-10-20 2011-04-27 (주) 존인피니티 Dc 구동형 세라믹 히터

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