JP2017105739A - 化粧料の使用方法及び化粧料 - Google Patents

化粧料の使用方法及び化粧料 Download PDF

Info

Publication number
JP2017105739A
JP2017105739A JP2015242570A JP2015242570A JP2017105739A JP 2017105739 A JP2017105739 A JP 2017105739A JP 2015242570 A JP2015242570 A JP 2015242570A JP 2015242570 A JP2015242570 A JP 2015242570A JP 2017105739 A JP2017105739 A JP 2017105739A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cosmetic
coating film
nail
meth
acrylate copolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015242570A
Other languages
English (en)
Inventor
千浪 北原
Chinami Kitahara
千浪 北原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seed Leaf Co Ltd
Original Assignee
Seed Leaf Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seed Leaf Co Ltd filed Critical Seed Leaf Co Ltd
Priority to JP2015242570A priority Critical patent/JP2017105739A/ja
Publication of JP2017105739A publication Critical patent/JP2017105739A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Cosmetics (AREA)

Abstract

【課題】日常生活において簡単に剥離することなく接着性を維持できる塗膜をなすだけでなく、所望の際には有機溶剤を用いずに指先等で塗膜を簡単に取り外せるようにする。
【解決手段】本願発明は、爪に化粧料で塗膜を形成し装飾する化粧料の使用方法であって、少なくとも水とエチレンビニルアセテートコポリマーと(メタ)アクリレートコポリマーとを含む前記化粧料を前記爪に塗布して前記塗膜を形成する被覆工程と、前記塗膜を除去する際に有機溶剤を用いることなく前記爪から前記塗膜を物理的に剥がす除去工程と、を備える。
【選択図】図2

Description

本願発明は、爪に化粧料で塗膜を形成し装飾する化粧料の使用方法及び化粧料に関するものである。
従来、爪等に塗膜を形成するための化粧料として、多種多様な配合のものが開発されている。例えばマニキュアやペディキュア等のネイルポリッシュは、ニトロセルロースや酢酸エステル類を中心とする有機溶媒タイプのものが主流である。この場合、爪等に塗布したネイルポリッシュは、自然乾燥によって硬化して塗膜となる。また、紫外線等の光によって硬化する光硬化性樹脂を用いたジェルネイルも近年流行している。この場合、爪等に塗布したジェルネイルは、紫外線等の光に当たることによって硬化して塗膜となる。
ネイルポリッシュ及びジェルネイルのいずれであっても、これを除去するにはアセトン等の有機溶剤を用いなければならない。特にジェルネイルの場合は、有機溶剤に爪等を長時間晒して塗膜を取り除かなければならない。このため、爪等を傷めやすく爪等への負担が大きいという問題があった。
上記の問題を解消するため、有機溶剤を用いることなく爪等から物理的に剥離可能な塗膜を形成する化粧料が種々提案されている。例えば特許文献1では、酢酸ビニル系ポリマーエマルジョンとアクリル系ポリマーマイクロエマルジョンとを特定比で配合した化粧料が開示され、特許文献2では、水溶液状のポリウレタン重合体を含む基礎展色剤からなる化粧料が開示されている。また、特許文献3では、アクリル酸エステルを乳化重合して得たエマルジョン樹脂、染料及び顔料を天然ゴムラテックスに添加してなる化粧料が開示され、特許文献4では、アクリル系樹脂及び可塑剤を含有する揮発性有機溶媒からなる化粧料が開示されている。
特公昭62−61002号公報 特開昭60−166605号公報 特開昭62−63507号公報 特開平7−252115号公報
しかし、前記従来技術の化粧料による塗膜は、日常の使用態様ですぐに剥がれてしまうものであり、十分に実用的であるとはいえないものであった。
本願発明は、上記のような現状を検討して改善を施した化粧料の使用方法及び化粧料を提供することを技術的課題としている。
本願発明の第1局面は、爪に化粧料で塗膜を形成し装飾する化粧料の使用方法であって、少なくとも水とエチレンビニルアセテートコポリマーと(メタ)アクリレートコポリマーとを含む前記化粧料を前記爪に塗布して前記塗膜を形成する被覆工程と、前記塗膜を除去する際に有機溶剤を用いることなく前記爪から前記塗膜を物理的に剥がす除去工程と、を備えているというものである。
本願発明の第2局面は、第1局面における化粧料の使用方法において、前記化粧料はスチレン(メタ)アクリレートコポリマーを含んでいるというものである。
本願発明の第3局面は、第1又は第2局面における化粧料の使用方法において、前記化粧料はポリウレタンを含んでいるというものである。
本願発明の第4局面は、第1〜第3局面のいずれかにおける化粧料の使用方法において、前記爪に塗布した前記化粧料を加熱又は非加熱で乾燥させることによって前記塗膜をなすというものである。
本願発明の第5局面は、第1〜第4局面のいずれかにおける化粧料の使用方法において、前記被覆工程の後にジェルネイル又はネイルポリッシュを前記塗膜上に塗布するというものである。
本願発明の第6局面は、第1〜第5局面のいずれかにおける化粧料の使用方法において、前記被覆工程の前に前記爪のサンディングを実行しないというものである。
本願発明の第7局面は、爪に塗膜を形成するための化粧料であって、少なくとも水とエチレンビニルアセテートコポリマーと(メタ)アクリレートコポリマーとを含んでいるというものである。
本願発明の第8局面は、第7局面の化粧料において、スチレン(メタ)アクリレートコポリマーを含んでいるというものである。
本願発明の第9局面は、第7又は第8局面の化粧料において、ポリウレタンを含んでいるというものである。
本願発明によると、塗布が容易であり且つ日常生活において簡単に剥離することなく接着性を維持できる塗膜を提供できる。しかも、所望の際には有機溶剤を用いることなく指先等で塗膜を簡単に取り外せる。爪に対して塗膜を着脱する際に爪に負担をかけるおそれ(爪を痛めるおそれ)をほぼなくせる。有機溶剤を使用しないので、有機溶剤に含まれるVOC揮発物質を使用者(ユーザー)が吸引するおそれもない。
被膜工程を説明する図である。 除去工程を説明する図である。
以下に、図面を参照しながら、本願発明を具体化した実施形態について説明する。各図面においては、説明の便宜上、実質的に同一の機能を発揮する構成要素を同一の参照符号で示している。なお、本願発明は下記の実施形態に限定されるものではない。
本願発明に係る化粧料は、爪に塗膜を形成するためのものであり、少なくとも水とエチレンビニルアセテートコポリマーと(メタ)アクリレートコポリマーとを含んでいる。水は溶媒として機能するものであり、エチレンビニルアセテートコポリマーと(メタ)アクリレートコポリマーとは皮膜形成剤として機能するものである。エチレンビニルアセテートコポリマーは、化粧料の主成分であると共に爪との接着性能を発揮するものであり、その配合量の範囲は0.1〜30重量%程度である。より好ましくは0.5〜25重量%程
度である。爪に化粧料を塗布して形成した塗膜は、エチレンビニルアセテートコポリマーの存在によって適度な接着性と剥離性とを兼ね備えたものになる。(メタ)アクリレートコポリマーも化粧料の主要な成分の一つであり、その配合量の範囲は5〜35重量%程度である。より好ましくは7〜30重量%程度である。
なお、エチレンビニルアセテートコポリマーや(メタ)アクリレートコポリマー等を分散させる溶媒である水としては、蒸留やろ過、イオン交換等によって純度を上げた精製水を用いるのが好ましい。
本願発明に係る化粧料には、スチレン(メタ)アクリレートコポリマーやポリウレタンを含有してもよい。これらは一方だけを化粧料に含有させてもよいし、両方共化粧料に含有させてもよい。スチレン(メタ)アクリレートコポリマーやポリウレタンは、皮膜形成剤として機能すると共に爪との接着性能を発揮するものである。これら(特にポリウレタン)は、爪のタンパク質の化学構造との親和性が高いと解される。このため、スチレン(メタ)アクリレートコポリマー及びポリウレタンの少なくとも一方と、エチレンビニルアセテートコポリマーと組み合わせることによって、爪に形成した塗膜の接着性と剥離性との両方をより一層高められる。
スチレン(メタ)アクリレートコポリマーやポリウレタンを単独で化粧料に含有させる場合は、その配合量の範囲を0.1〜10重量%程度にするのが好ましい。より好ましくは1〜9重量%程度である。すなわち、(メタ)アクリレートコポリマーと同程度か若干前後する程度の配合量にするのが好適である。スチレン(メタ)アクリレートコポリマーとポリウレタンとの両方を化粧料に含有させる場合は、これら合計の配合量の範囲を0.1〜10重量%程度にするのが好ましい。より好ましくは1〜9重量%程度である。すなわち、この場合も、(メタ)アクリレートコポリマーと同程度か若干前後する程度の配合量にするのが好適である。
化粧料に顔料や染料を含まない状態では、爪に塗布して形成した塗膜は透明又は半透明である。スチレン(メタ)アクリレートコポリマーやポリウレタンを含有しない化粧料や、ポリウレタンを含有した化粧料よりも、スチレン(メタ)アクリレートコポリマーを含有した化粧料の方が塗膜の透明度を高められる。
本願発明者は実験の結果、エチレンビニルアセテートコポリマー、(メタ)アクリレートコポリマー、並びにスチレン(メタ)アクリレートコポリマー(及び/又はポリウレタン)の配合比を2〜4:1:1程度にすれば、爪に塗布して形成した塗膜において、接着性(日常の使用態様では剥がれない程度の接着性)と、例えばスティック等で引っ掛けたりして爪から剥がせる程度の剥離性との両方を発揮できることを確認した。この場合、爪に化粧料を塗布して塗膜を形成した状態で、日常生活(例えば炊事洗濯等の家事一般を行う生活)を送ったところ、1週間〜10日程度は塗膜の接着性を維持できた。
上記のように、(メタ)アクリレートコポリマーやポリウレタン等に対するエチレンビニルアセテートコポリマーの配合比を2倍以上にすると、例えば(メタ)アクリレートコポリマーの割合をエチレンビニルアセテートコポリマーよりも多くした場合に比べて、化粧料を爪に塗布した後の表面性状が極めて滑らかになる(レベリング性が格段に向上する)ことが分かった。
また、前記配合比に比べてエチレンビニルアセテートコポリマーの配合割合を極端に少なくすると、剥離性がよくなり過ぎて塗膜が不用意に剥がれ易くなり、実用的でないことを確認した。更に、前記配合比に比べてエチレンビニルアセテートコポリマーの配合割合を極端に多くした場合は、接着性がよくなり過ぎて爪から塗膜を物理的に剥がし難くなり
、これも実用的でないことを確認した。エチレンビニルアセテートコポリマー、(メタ)アクリレートコポリマー、並びにスチレン(メタ)アクリレートコポリマー(及び/又はポリウレタン)に関する2〜4:1:1の配合比はあくまで基準である。なお、本願発明に係る化粧料中のエチレンビニルアセテートコポリマー、(メタ)アクリレートコポリマー、並びにスチレン(メタ)アクリレートコポリマー(及び/又はポリウレタン)は、エマルジョンである。
本願発明に係る化粧料には、本願発明の効果を損なわない範囲で、上記成分の他に化粧料として一般的に用いられる成分、例えば可塑剤、界面活性剤、消泡剤、保湿剤、紫外線吸収剤、キレート剤、pH調整剤、増粘剤、乳化剤、ナトリウムベンゾナイト等の防腐剤、ベントナイト等の粘度調整剤、水溶性高分子、酸化防止剤、顔料、染料、色素あるいはその他の化粧料用粉体等を配合できることは言うまでもない。
例えば保湿剤としては、ステビア、ソディウムカゼイネイト、ブチレングリコール、ザボン抽出液、シトラスグランディスシード、グリセリン、菖蒲根エキス、シソ葉エキス等を含有させてよい。防腐剤としては、エタノール、フェノキシエタノール、安息香酸等を含有させてよい。増粘剤としては、リチウムマグネシウムソディウムシリケート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースステアロオキシエーテル等を含有させてよい。pH調整剤としては、クエン酸、テトラソディウムピロフォスフェート等を含有させてよい。乳化剤としてはグリコールエーテルを含有させてもよい。グリコールエーテルの例としては、プロピレングリコール、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等が挙げられる。その他、メチルピロリドン、トリエチルアミン、ジメチコン、マカダミア種子油、スクラワン、メドウフォーム油、ヘーゼルナッツ油、コメ胚芽油、シア脂油、アボカド油、ホホバ種子油、ブドウ種子油、アーモンド油、ツバキ種子油、カニナバラ果実油、月見草油、ポリエチレングリコール−30水添ヒマシ油、イソステアリルグリセリル、ミリスチン酸ポリグリセリル−10、ポリ−ε−リシン、リン酸等を含有させてよい。
図1(a)〜(c)は、本願発明に係る化粧料1を爪3に塗布して塗膜2を形成する被覆工程の一例である。図1(a)〜(c)の例は、顔料、染料及び色素のうち少なくとも一つを化粧料1に含ませ、化粧料1をネイルポリッシュとして用いる場合を示している。まずは、使用者(ユーザー)の指先や爪3上にある不要な油分、水分をアルコール等で除去する。次いで、図1(a)に示すように、刷毛又は筆ペン等の塗布具5の先端側に収容容器4内の化粧料1を付着させる。そして、図1(b)に示すように、塗布具5で爪3の表面に化粧料1を塗布する。化粧料1の塗布厚み(塗膜2の厚み)は特に限定されるものではないが、例えば0.5mm以下にすれば足りる(好ましくは0.01〜0.3mm程度)。それから、図1(c)に示すように、爪3に塗布した化粧料1を加熱又は非加熱で乾燥させることによって塗膜2を形成する。この場合、ドライヤー等による熱風で化粧料1を乾燥させてもよいし、自然乾燥にしてもよい。
本願発明に係る化粧料1の使用方法において、図1(a)〜(c)に示す被覆工程の前には爪3のサンディング(ヤスリ掛け)を実行しない。このため、爪3を削って痛めたり薄くしたりするおそれがなく爪3を保護できると共に、従来のようなサンディング作業を行う手間を省ける。なお、図1(c)に示す塗膜2の上に、ネイルアートを描いたりネイルシールやネイルストーンを貼り付けたりし、更にその上に、有機溶媒タイプや光硬化性樹脂製のトップコート(仕上げ剤)を塗布して硬化させるようにしてもよい。
図2(a)〜(c)は、図1(a)〜(c)に示す被覆工程で形成した塗膜2を物理的に剥がす除去工程の一例である。図2(a)に示すように、塗膜2のある爪3の根元付近に、スティックやもう一方の手の指先等を当てて引っ掛け、塗膜2の一部を爪3から物理
的に剥がす。次いで、図2(b)に示すように、爪3から外れた塗膜2の一部を指先で摘んで引っ張り、最終的には有機溶剤を用いることなく、塗膜2全体を爪3から物理的に取り外すのである(図2(c)参照)。
従って、本願発明によると、塗布が容易であり且つ日常生活において簡単に剥離することなく接着性を1週間〜10日程度維持できる塗膜2を提供できる。しかも、所望の際には有機溶剤を用いることなく指先等で塗膜2を簡単に取り外せる。爪3に対して塗膜2を着脱する際に爪3に負担をかけるおそれ(爪3を痛めるおそれ)をほぼなくせる。ネイル業界で通常使われる有機溶剤を使用しないので、有機溶剤に含まれるVOC揮発物質を使用者(ユーザー)が吸引するおそれもない。
図1(a)〜(c)に示す化粧料1から顔料、染料及び色素を除き、化粧料1をベースコート(下地剤)として用いることもできる。この場合の被覆工程の手順は前述の通りである。被覆工程の前に爪3のサンディングを実行しないのはもちろんである。そして、被覆工程の後にはジェルネイル又はネイルポリッシュ(着色用の化粧料)を塗膜2上に塗布して硬化させる。ジェルネイルやネイルポリッシュ上には、ネイルアートを描いたりネイルシールやネイルストーンを貼り付けたりし、更にその上に、光硬化性樹脂製や有機溶媒タイプのトップコート(仕上げ剤)を塗布して硬化させることになる。
本願発明に係る化粧料1をベースコートとして使用すると、爪3上のベースとなった塗膜2の表面が理想的な平滑面となって接触面積を拡大でき、塗膜2とジェルネイルやネイルポリッシュとの間の密着性を向上できる。また、ベースコートとしての塗膜2上には様々な化粧料を塗布できる。例えば塗膜2上に光硬化性樹脂製のジェルネイル及びトップコートを塗布していたとしても、所望の際には有機溶剤を用いることなく指先等で塗膜2ごと一緒に簡単に取り外せるという利点がある。
本願発明に係る化粧料1は、ベースコートとしてだけでなく、着色用の化粧料(カラーポリッシュと言ってもよい)としても使用できるし、トップコートとしても使用できる。
本願発明は、前述の実施形態に限らず、様々な態様に具体化できる。各部の構成は図示の実施形態に限定されるものではなく、本願発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更が可能である。なお、(メタ)アクリレートコポリマーの文言は、アクリレートコポリマーとメタクリレートコポリマーとの両方を指し示す総称として使用していることを付言しておく。
1 化粧料
2 塗膜
3 爪

Claims (9)

  1. 爪に化粧料で塗膜を形成し装飾する化粧料の使用方法であって、
    少なくとも水とエチレンビニルアセテートコポリマーと(メタ)アクリレートコポリマーとを含む前記化粧料を前記爪に塗布して前記塗膜を形成する被覆工程と、
    前記塗膜を除去する際に有機溶剤を用いることなく前記爪から前記塗膜を物理的に剥がす除去工程と、
    を備えている、
    化粧料の使用方法。
  2. 前記化粧料はスチレン(メタ)アクリレートコポリマーを含んでいる、
    請求項1に記載した化粧料の使用方法。
  3. 前記化粧料はポリウレタンを含んでいる、
    請求項1又は2に記載した化粧料の使用方法。
  4. 前記爪に塗布した前記化粧料を加熱又は非加熱で乾燥させることによって前記塗膜をなす、
    請求項1〜3のうちいずれかに記載した化粧料の使用方法。
  5. 前記被覆工程の後にジェルネイル又はネイルポリッシュを前記塗膜上に塗布する、
    請求項1〜4のうちいずれかに記載した化粧料の使用方法。
  6. 前記被覆工程の前に前記爪のサンディングを実行しない、
    請求項1〜5のうちいずれかに記載した化粧料の使用方法。
  7. 爪に塗膜を形成するための化粧料であって、
    少なくとも水とエチレンビニルアセテートコポリマーと(メタ)アクリレートコポリマーとを含んでいる、
    化粧料。
  8. スチレン(メタ)アクリレートコポリマーを含んでいる、
    請求項7に記載した化粧料。
  9. ポリウレタンを含んでいる、
    請求項7又は8に記載した化粧料。

JP2015242570A 2015-12-11 2015-12-11 化粧料の使用方法及び化粧料 Pending JP2017105739A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015242570A JP2017105739A (ja) 2015-12-11 2015-12-11 化粧料の使用方法及び化粧料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015242570A JP2017105739A (ja) 2015-12-11 2015-12-11 化粧料の使用方法及び化粧料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017105739A true JP2017105739A (ja) 2017-06-15

Family

ID=59059301

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015242570A Pending JP2017105739A (ja) 2015-12-11 2015-12-11 化粧料の使用方法及び化粧料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017105739A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6483316B1 (ja) * 2018-08-03 2019-03-13 株式会社マックスオーガニック ジェルネイル用ジェル
JP2020121014A (ja) * 2019-01-31 2020-08-13 株式会社Joelle ネイルマーカ、ネイルシステムおよびネイルアート形成方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56131513A (en) * 1980-03-17 1981-10-15 Shiseido Co Ltd Release type manicure
JPS60166605A (ja) * 1983-10-27 1985-08-29 クラウデイオ ジユリア−ノ デ ビ−タ マニキユア液
JPH03206018A (ja) * 1990-01-09 1991-09-09 Shiseido Co Ltd 機能性化粧料
JP2002114641A (ja) * 2000-10-10 2002-04-16 Asanuma Corporation 水系美爪料
JP2004514728A (ja) * 2000-12-04 2004-05-20 ロレアル ソシエテ アノニム 尿素変性チキソトロピー剤を含有するマニキュア液組成物
JP2010077122A (ja) * 2008-08-29 2010-04-08 Toyo Ink Mfg Co Ltd 水性ネイルエナメル用分散体の製造法
JP5844931B1 (ja) * 2015-04-10 2016-01-20 株式会社ビーファースト 下塗り剤、及び、ネイルアート方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56131513A (en) * 1980-03-17 1981-10-15 Shiseido Co Ltd Release type manicure
JPS60166605A (ja) * 1983-10-27 1985-08-29 クラウデイオ ジユリア−ノ デ ビ−タ マニキユア液
JPH03206018A (ja) * 1990-01-09 1991-09-09 Shiseido Co Ltd 機能性化粧料
JP2002114641A (ja) * 2000-10-10 2002-04-16 Asanuma Corporation 水系美爪料
JP2004514728A (ja) * 2000-12-04 2004-05-20 ロレアル ソシエテ アノニム 尿素変性チキソトロピー剤を含有するマニキュア液組成物
JP2010077122A (ja) * 2008-08-29 2010-04-08 Toyo Ink Mfg Co Ltd 水性ネイルエナメル用分散体の製造法
JP5844931B1 (ja) * 2015-04-10 2016-01-20 株式会社ビーファースト 下塗り剤、及び、ネイルアート方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6483316B1 (ja) * 2018-08-03 2019-03-13 株式会社マックスオーガニック ジェルネイル用ジェル
JP2020019753A (ja) * 2018-08-03 2020-02-06 株式会社マックスオーガニック ジェルネイル用ジェル
JP2020121014A (ja) * 2019-01-31 2020-08-13 株式会社Joelle ネイルマーカ、ネイルシステムおよびネイルアート形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8474464B2 (en) Method and material for nail manicuring
KR101700010B1 (ko) 저 감작성을 갖는 손톱래커 조성물
US20150366763A1 (en) Eyeliner Decal Composition and Method of Use
CA3068457C (en) High shine, long wear cosmetic compositions also useful as cosmetic adhesives
JP5989918B2 (ja) アートメイク用唇パック化粧料組成物及びその製造方法
KR101367817B1 (ko) 문신용 입술 팩 화장료 조성물
US20150224045A1 (en) Radiation curable nail preparations, post-processing nail finisher and methods of application
US20130068242A1 (en) Semi-Permanent Mascara and Method of Applying
WO2015135021A1 (en) Nail polish remover
JP2017105739A (ja) 化粧料の使用方法及び化粧料
CN114795982A (zh) 凝胶指甲油及其制造和使用方法
CN107007488B (zh) 在角质材料上形成指甲凝胶膜的凝胶指甲油组合物及其使用方法
JP2005118398A (ja) フィルム状の美爪化粧料及び化粧方法並びにその化粧具
JP2005118398A5 (ja)
US20200315945A1 (en) Actinic Light Curable Dip System
CN112336647B (zh) 一种基于水性聚氨酯分散体的美甲防溢胶
CN110200848A (zh) 一种指甲油体系及其美甲方法
BR102015003295A2 (pt) Composition and kit for removal of unhealth enamel, and, union care method
KR20120110844A (ko) 네일아트용 마스킹제 및 이를 이용한 네일아트 시술방법
WO2017112373A1 (en) Nail compositions containing alkyd resin
JP2016165457A (ja) 爪装飾用シール素材及び爪装飾用シール
JP6155359B1 (ja) 二重まぶた形成用溶液
US10206866B2 (en) Nail compositions containing silicone-organic polymer hybrid compound
KR20200060075A (ko) 하이브리드 젤네일 폴리쉬 조성물
KR20110080506A (ko) 건조가 필요없고 지우기가 필요 없는 '붙이는 매니큐어'와 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170510