BR102015003295A2

BR102015003295A2 - Composition and kit for removal of unhealth enamel, and, union care method

Info

Publication number: BR102015003295A2
Application number: BR102015003295-1A
Authority: BR
Inventors: Surk Kim Hyun; Sik Choi Kyung; Young Park Ju; Rim Choi Jeong; Mi Kim Bo
Original assignee: Jc Korea Corp.
Priority date: 2014-10-21
Filing date: 2015-02-13
Publication date: 2017-12-12
Also published as: CA2880957A1; KR101529461B1; JP2016079167A; US20160106658A1; CN105982826A; EP3011997A1

Abstract

uma composição para remoção de esmalte de unhas é divulgada. a composição para remoção de esmalte de unhas é aplicada a uma unha de modo a formar uma camada para remoção esmalte de unha, e, em seguida, um gel uv é aplicado à camada para remoção de esmalte de unha ou uma resina acrílica é aplicada à camada para a remoção do esmalte de unhas para estender a unha. portanto, o gel uv ou a resina acrílica podem ser removidos de uma maneira simples, sem a utilização de uma ferramenta especial ou a necessidade de realizar uma operação especial. além disso, o risco de danos para a unha pode ser bastante reduzido. também é revelado um kit para unhas remoção de esmalte de unha incluindo a composição.

Description

“COMPOSIÇÃO E KIT PARA REMOÇÃO DE ESMALTE DE UNHA, E, MÉTODO PARA CUIDADO DAS UNHAS” FUNDAMENTOS DA INVENÇÃO CAMPO DA INVENÇÃO

[0001] A presente invenção refere-se a uma composição para remoção de esmalte de unha e um kit para a remoção do esmalte de unha incluindo a composição.

DESCRIÇÃO DA TÉCNICA RELACIONADA

[0002] A indústria da beleza tem sido motivada pelo desejo humano de expressar sua beleza física. A indústria da beleza tem se desenvolvido rapidamente e foi subdividida em diversos ramos da indústria. Junto com a popularização da indústria da beleza, o mercado para a indústria da beleza tem expandido rapidamente, particularmente desde o século 20. Arte nas unhas, uma das indústrias de beleza, é um elemento essencial para a arte de expressar o corpo humano, independentemente da idade e do sexo. Nos últimos anos, um progresso notável foi feito no desenvolvimento da arte nas unhas.

[0003] Arte nas unhas foi originalmente considerada um campo de arte da beleza de adornar o corpo humano. Unhas têm refletido mudanças culturais contemporâneas e valores por seu comprimento, forma e cor. Arte nas unhas é realizada utilizando vários tipos de materiais. Géis ultravioleta (UV) estão atraindo a atenção como materiais promissores para arte nas unhas. Luz UV é usada para curar géis de UV. Géis de UV são resistentes à fragilização devido à sua maciez e flexibilidade. Além disso, géis de UV são dificilmente descoloridos, mesmo quando expostos à luz solar e são muito brilhantes. Um tal gel UV é preparado por aplicação de uma composição de gel UV para uma unha natural de modo a formar uma camada de gel UV de cura e a camada de gel UV sob irradiação UV. Géis UV tornam unhas naturais lustrosas e brilhantes na aparência. Tal aparência atraente faz géis úteis em uma ampla gama de aplicações.

[0004] Apesar destas vantagens, a remoção de camadas de gel UV convencionais formadas diretamente sobre as unhas naturais requer imersão dos dedos em solventes tóxicos, tais como acetona, durante um longo período de tempo. Esta imersão é muito prejudicial para a pele e para as unhas e causa danos severos para as unhas naturais após a remoção das camadas de gel UV.

[0005] Depois de um gel UV para a arte das unhas ser aplicado a uma unha ou uma resina adequada, tal como uma resina acrílica é utilizada para alargar uma unha, ele é removido por em torno da unha com um pedaço de gaze embebida com um solvente orgânico tal como acetona por 5 a 10 minutos e retirar a gaze da unha. A exposição ao solvente orgânico causa dano grave à unha e a extremidade da unha oposta a cutícula pode ser lascada ou a porção de extremidade da unha perto da cutícula está em risco de cair.

[0006] Documentos do Estado da Técnica [0007] Documentos de Patente [0008] Publicação de Patente Coreana No. 10-2012-0110844 [0009] Publicação de Patente Coreana No. 10-2010-0125859 [0010] Publicação de Patente Coreana No. 10-2014-0086437 [0011] Publicação de Patente Coreana No. 10-2010-0108555 RESUMO DA INVENÇÃO

[0012] Como resultado de pesquisa intensiva em vista os problemas acima, os inventores descobriram que, quando uma composição para remoção de esmalte de unha é aplicado a uma unha natural de modo a formar uma camada e um gel UV é aplicada à camada ou uma resina adequada, tal como uma resina acrílica é aplicada à camada de estender a unha, a aparência atraente da camada de gel UV permanece intato enquanto se mantém as vantagens inerentes do gel UV ou o efeito da extensão da haste com a resina permanece inalterada. Os inventores verificaram também que o gel UV pode ser facilmente descascada sem utilizar quaisquer solventes orgânicos tóxicos.De acordo com um aspecto da presente invenção, proporciona-se uma composição para remoção de esmalte de unha incluindo (a) uma solução de polímero selecionado a partir de uma solução de poliuretano, uma solução aquosa de álcool polivinílico, poli (met) acrilato de solução, e as suas misturas. De acordo com um outro aspecto da presente invenção, é proporcionado um kit para a remoção do esmalte de unha incluindo (I) uma composição para remoção de esmalte de unha e (II) um manual de instruções sobre como utilizar a composição para remoção de esmalte de unha. De acordo com outro aspecto da presente invenção, é proporcionado um método para o tratamento das unhas, incluindo (A) aplicação de uma composição para remoção de esmalte de unha a uma unha de modo a formar uma camada para remoção de esmalte de unha e (B) formar uma camada sobre a unha polonês camada de removedor de esmalte de unha .De acordo com formas de realização exemplificativas da presente invenção, a composição para remoção de esmalte de unha é aplicado a uma unha de modo a formar uma camada para remoção de esmalte de unha, e, em seguida, um gel UV é aplicada à camada de remoção de esmalte de unha ou uma resina acrílica aplicado é a camada de removedor de esmalte de unha para estender a unha. Portanto, o gel UV ou da resina acrílica pode ser removida de uma maneira simples, sem a utilização de uma ferramenta especial ou a necessidade de realizar uma operação especial. Além disso, o risco de danos para a unha pode ser bastante reduzido.

DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO

[0013] Diversos aspectos e formas de realização da presente invenção serão agora descritos em mais detalhe. Um aspecto da presente invenção é dirigido a uma composição para remoção de esmalte de unha incluindo (a) uma solução de polímero selecionado a partir de uma solução de poliuretano, uma solução aquosa de álcool polivinílico, solução de poli (met) acrilato, e as suas misturas.

[0014] A solução de poliuretano é constituída por 25 a 40% em peso de poliuretano e 60 a 75% em peso de água. A solução aquosa de álcool polivinílico é composta por 1 a 25% em peso de álcool polivinílico e 75 a 99% em peso de água. A solução de poli(met)acrilato é composta por 5 a 50% em peso de poli (met) acrilato e 50 a 95% em peso de água.

[0015] De acordo com uma forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha pode incluir adicionalmente (b) um agente de deslizamento fluorado ou silicone. Nesta forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha inclui de 95 a 99,9% em peso da solução de polímero (a) e 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b).

[0016] De acordo com uma outra forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha pode incluir adicionalmente (c) um adesivo acrílico sensível à pressão, para além dos componentes (a) e (b). Nesta forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha inclui de 76 a 95% em peso da solução de polímero (a), 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), e 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível a pressão (c).

[0017] De acordo com uma outra forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha pode ainda incluir (d), glicerina, além dos componentes (a), (b), e (c). Nesta forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha inclui de 66 a 95% em peso da solução de polímero (a), de 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), de 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível à pressão (c), e de 0,1 a 10% em peso de glicerina (d).

[0018] É preferível que os componentes da composição para remoção de esmalte de unha e os seus teores sejam ajustados de tal modo que o tempo necessário para secar ou volatilizar a composição até que um revestimento seja formado esteja na faixa de 50 a 200 segundos. A exigência em termos de tempo de secagem ou volatilização é satisfeita quando a composição inclui os componentes (a), (b), (c) e (d) nas quantidades dentro dos respectivos intervalos acima definidos. Se o tempo de secagem ou volatilização for menor que 50 segundos, cordas finas como teias formam-se quando a composição é aplicada com uma escova, fazendo com que seja difícil para a composição formar uma camada clara para remoção de esmalte de unha. Além disso, a composição tem uma estabilidade de armazenamento pobre. Por exemplo, durante o armazenamento em um recipiente, a composição tende a endurecer em torno da entrada do recipiente bem como no recipiente. Entretanto, se o tempo de secagem ou volatilização for superior a 200 segundos, ele leva muito tempo para cuidar das unhas, causando muito transtorno no uso. Além disso, a secagem retardada impede a formação de uma camada para a remoção do esmalte de unha com força adesiva uniforme, tornando-se difícil de remover uniformemente um esmalte de unha sobrejacente em um passo subsequente.

[0019] De acordo com uma outra forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha pode incluir adicionalmente (e) um agente espessante além dos componentes (a), (b), (c) e (d). Nesta forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha inclui de 65 a 95% em peso da solução de polímero (a), de 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), de 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível à pressão (c), de 0,1 a 10% em peso de glicerina (d), e 0,1 a 1% em peso do espessante (e).

[0020] De acordo com uma outra forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha pode ainda incluir (f) uma vitamina, além dos componentes (a), (b), (c), (d) e (e). Nesta forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha inclui de 45 a 95% em peso da solução de polímero (a), de 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), de 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível à pressão (c), de 0,1 a 10% em peso de glicerina (d), de 0,1 a 1% em peso do espessante (e), e de 0,1 a 20% em peso da vitamina (f).

[0021] Em cada uma das composições de acordo com as modalidades exemplares anteriores, se o teor da solução de poliuretano é menor do que o limite inferior correspondente, existe um risco de que a composição possa cair facilmente, ao contrário, quando o conteúdo da solução de poliuretano no interior cai no intervalo definido acima. Por outro lado, se o conteúdo da solução de poliuretano excede o limite superior correspondente, uma camada sobrejacente de esmalte de unha não é claramente removida como um todo e as suas partes permanecem não separadas, ao contrário, quando o conteúdo da solução de poliuretano esteja dentro do intervalo definido acima. Especificamente, a camada de esmalte de unha é apenas parcialmente retirada como se ela fosse dividida em pedaços e se desintegra, e como resultado, a camada de esmalte de unha pode ser difícil de remover completamente.

[0022] Em cada uma das composições de acordo com as modalidades exemplares anteriores, se o teor de silicone ou o agente de deslizamento fluorado for menor do que o limite inferior correspondente, cordas finas como teias formam-se quando a composição for aplicada com uma escova, fazendo com que seja difícil para a composição formar uma camada clara de removedor de esmalte de unha, ao contrário, quando o conteúdo do agente de deslizamento cai dentro do intervalo definido acima. Além disso, uma camada sobrejacente de esmalte de unha é apenas parcialmente retirada como se ela fosse dividida em pedaços e se desintegra, e como resultado, a camada de esmalte de unha pode ser difícil de remover completamente. Por outro lado, se o conteúdo do agente de deslizamento excede o limite superior correspondente, que leva um tempo excessivamente longo para secar a composição e um esmalte de unha sobrejacente pode ser facilmente quebrado ou cair, ao contrário, quando o conteúdo do agente de deslizamento cai dentro do intervalo definido acima.

[0023] Em cada uma das composições de acordo com as modalidades exemplares anteriores, se o conteúdo do adesivo sensível à pressão é menor do que o limite inferior correspondente, a força adesiva do uretano para a superfície de uma unha subjacente torna-se excessivamente elevada, o que torna difícil descascar a camada resultante mais tarde, e as cordas finas como teias formam-se quando a composição é aplicada com uma escova, fazendo com que seja difícil para a composição formar uma camada de clara de removedor de esmalte de unha. Por outro lado, se o conteúdo do adesivo sensível à pressão excede o limite superior correspondente, a força de aderência entre uma camaad composta da composição e a superfície de uma unha subjacente se torna excessivamente baixa, tornando-o difícil de fixar de forma estável uma camada de esmalte de unha para a camada composta pela composição, ao contrário, quando o conteúdo do adesivo sensível à pressão cai dentro do intervalo definido acima.

[0024] Em cada uma das composições de acordo com as modalidades exemplares anteriores, se o teor de glicerina for inferior ao limite inferior correspondente, cordas finas como teias formam-se quando a composição for aplicada com uma escova, fazendo com que seja difícil para a composição formar uma clara camada de removedor de esmalte de unha, ao contrário de quando o teor de glicerina estiver dentro do intervalo definido acima. Entretanto, se o teor de glicerina excede o limite superior correspondente, a força de aderência entre uma camada composta da composição e a superfície de uma unha subjacente se torna excessivamente baixa, tornando-o difícil de fixar de forma estável uma camada para a camada de esmalte composta da composição, ao contrário, quando o teor de glicerina cai dentro do intervalo definido acima.

[0025] Em cada uma das composições de acordo com as formas de realização exemplares anteriores, se o teor de espessante for menor do que o limite inferior correspondente, a viscosidade da composição torna-se demasiadamente baixa, ao contrário, quando o teor de espessante cai dentro do intervalo definido acima. Devido a esta baixa viscosidade, a espessura de uma camada formada por uma unha por um tempo de aplicação é pequena, e, como resultado, a força de aderência da camada não é uniforme sobre toda a área, tornando-se difícil de remover uniformemente um esmalte de unha sobrejacente em uma etapa posterior. Entretanto, se o teor de espessante excede o limite superior correspondente, a composição é aplicada a uma espessura excessivamente grande de modo a formar uma camada para remoção de esmalte de unha, e, como resultado, é necessário um longo tempo para secar, ao contrário, quando o teor de espessante cai dentro do intervalo definido acima. Além disso, a força de aderência da camada não é uniforme, tornando-se difícil de remover uniformemente um esmalte de unha sobrejacente em um passo subsequente.

[0026] Em cada uma das composições de acordo com as modalidades exemplares anteriores, se a vitamina estiver presente em uma quantidade de menos do que o limite inferior correspondente, o seu efeito de melhoria das funções de queratina, um componente importante das unhas, para melhorar a saúde de unhas e curar o estado de unhas danificadas é negligenciável, ao contrário, quando o teor de vitamina cai dentro do intervalo definido acima. Entretanto, se a vitamina está presente em uma quantidade que excede o limite superior correspondente, a força de aderência entre uma camaad composta da composição e a superfície de uma unha subjacente se torna excessivamente baixa, tornando-a difícil de fixar de forma estável uma camada de esmalte de unha à camada composta da composição, ao contrário, quando o teor de vitamina cai dentro do intervalo definido acima.

[0027] Em uma forma de realização, a solução de poliuretano é de preferência composta de 25 a 40% em peso de poliuretano e de 60 a 70% em peso de água. Se o teor de sólidos do poliuretano, em que a solução é menor do que o limite inferior, existe um risco de um esmalte de unha sobrejacente não ser fácil de remover, ao contrário, quando o teor de sólidos do poliuretano na solução está dentro do intervalo acima definido . Entretanto, se o teor de sólidos do poliuretano na solução exceder o limite superior, um esmalte de unha sobrejacente pode ser facilmente quebrado ou cair, ao contrário, quando o teor de sólidos do poliuretano na solução está dentro do intervalo definido acima.

[0028] A solução aquosa de álcool polivinílico é preferencialmente composta por 5 a 30% em peso de álcool polivinílico e 70 a 95% em peso de água. Se o teor de sólidos do álcool polivinílico na solução aquosa for inferior ao limite inferior, existe um risco de que um esmalte de unha sobrejacente não seja fácil de remover, ao contrário, quando o conteúdo sólido do álcool polivinílico na solução aquosa cai no intervalo definido acima. Entretanto, se o teor de sólidos do álcool polivinílico na solução aquosa excede o limite superior, um esmalte de unha sobrejacente pode ser facilmente quebrado ou cair, ao contrário, quando o conteúdo sólido do álcool polivinílico na solução aquosa estiver dentro do intervalo acima definido.

[0029] A solução de poli (met) acrilato é de preferência constituída por 25 a 40% em peso de poli (met) acrilato e 60 a 70% em peso de água. Se o teor de sólidos do poli(met)acrilato na solução for menor do que o limite inferior, existe um risco de que o esmalte de unha sobrejacente possa cair ou ser endireitado, ao contrário, quando o conteúdo sólido do poli(met)acrilato na solução cai dentro do intervalo definido acima. Entretanto, se o teor de sólidos do poli(met)acrilato na solução de exceder o limite superior, um esmalte de unha sobrejacente pode ser difícil de remover uniformemente, ao contrário, quando o conteúdo sólido do poli(met)acrilato na solução cai dentro do intervalo definido acima.

[0030] Exemplos de agentes de silicone fluorado e deslizantes adequados para utilização na presente invenção incluem os agentes de deslizamento à base de polissiloxano, agentes de deslizamento à base de perfluoroalquilo, sais de ácidos carboxílicos, sais de ácidos sulfônicos, sais de amônio, polissacarídeos, e agentes de deslizamento à base de acetileno. Estes agentes de deslizamento podem ser usados isoladamente ou como uma mistura de dois ou mais destes. Exemplos de adesivos sensíveis à pressão adequados para utilização na presente invenção incluem adesivos acrílicos sensíveis à pressão, adesivos sensíveis à pressão à base de borracha, e adesivos sensíveis à pressão à base de uretano. Estes adesivos sensíveis à pressão podem ser utilizados isoladamente ou como uma mistura de dois ou mais destes. Exemplos de agentes espessantes adequados para utilização na presente invenção incluem espessantes celulósicos e espessantes à base de uretano. Estes espessantes podem ser utilizados isoladamente ou como uma mistura de dois ou mais destes. Exemplos de vitaminas adequadas para utilização na presente invenção incluem as vitaminas Β1, Β2, Β5, C, E e H, e cálcio. Estas vitaminas podem ser utilizadas isoladamente ou como uma mistura de duas ou mais destas.

[0031] Os inventores confirmaram que a utilização da composição para remoção de esmalte de unha em que os componentes estão presentes nas quantidades dentro dos respectivos intervalos acima definidos podem resolver os problemas frequentes encontrados na utilização de camadas de gel UV convencionais, isto é, de lascamento na extremidade oposta à cutícula ou queda da parte final perto da cutícula.

[0032] Um outro aspecto da presente invenção é direcionado a um kit para a remoção do esmalte de unha incluindo (I) uma composição para remoção de esmalte de unha e (II) um manual de instruções sobre como utilizar a composição para remoção de esmalte de unha.

[0033] De acordo com uma forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha (I) pode ser uma das composições para remoção de esmalte de unha de acordo com as formas de realização exemplificativas da presente invenção.

[0034] De acordo com uma outra forma de realização, o kit para remoção de esmalte de unha pode ainda incluir (III) uma composição de esmalte de unha.

[0035] A composição de esmalte de unha pode ser composta de (1) uma composição de base de gel UV, (2) uma composição de gel UV, e (3) uma composição de gel UV superior. A composição de esmalte de unha pode incluir uma única composição capaz de realizar as funções de ambas as composições (1) e (2). A composição de esmalte de unha pode ser composta por uma única composição capaz de realizar as funções de todas as três composições (1), (2) e (3). A composição de gel UV (2) pode ainda incluir um colorante tal como um corante ou um pigmento.

[0036] Outro aspecto da presente invenção é direcionado a um método para o tratamento das unhas, incluindo (A) aplicação de uma composição para remoção de esmalte de unha a uma unha de modo a formar uma camada para remoção de esmalte de unha e (B) formação de uma camada de esmalte de unha na camada para remoção de esmalte de unha.

[0037] De acordo com uma forma de realização, a composição para remoção de esmalte de unha pode ser uma das composições para remoção de esmalte de unha de acordo com as formas de realização exemplificativas da presente invenção.

[0038] De acordo com uma outra forma de realização, o passo (B) pode incluir (B1) a formação de uma camada de gel de base de UV sobre a camada para remoção de esmalte de unha, (B2), que forma uma camada de gel UV na camada de gel base de UV, e (B3), que forma um camada de gel UV top sobre a camada de gel UV.

[0039] De acordo com uma outra forma de realização, o passo (B2) pode incluir (B2') aplicação de uma composição de gel UV para a camada de gel a base de UV e (B2") irradiação de UV para a composição de gel UV.

[0040] De acordo com uma outra forma de realização, a camada para remoção de esmalte de unha pode ter uma espessura de 10 a 80 pm. Se a espessura da camada para a remoção do esmalte de unha for menor do que o limite inferior, a camada de esmalte de unha não é removida, mas é claramente apenas parcialmente removida como se ela fosse dividida em pedaços e se desintegra, e como resultado, a camada de esmalte de unha pode ser difícil de remover completamente, ao contrário, quando a espessura da camada para a remoção do esmalte de unha cai dentro do intervalo definido acima. Além disso, a unha pode ser corada com a cor do esmalte de unha aplicado à superfície da camada para a remoção do esmalte de unha. Entretanto, se a espessura da camada para a remoção do esmalte de unha exceder o limite superior, existe um risco de que o esmalte de unha possa ser lascado ou cair, ao contrário, quando a espessura da camada para a remoção do esmalte de unha cai dentro do intervalo definido acima.

[0041] De acordo com uma outra forma de realização, a camada para remoção de esmalte de unha pode ter uma força de 0,3 kgf ou mais, por exemplo, 0,3 a 3 kgf, conforme medido por ASTM D683. Se a resistência da camada de remoção de esmalte de unha for menor do que o limite inferior, a camada de esmalte de unha não é claramente removida como um todo, mas as suas partes permanecem não separadas, ao contrário de quando a força da camada para remoção de esmalte de unha cai dentro da gama definida acima. Especificamente, a camada de esmalte de unha é apenas parcialmente retirada como se ela fosse dividida em pedaços e se desintegra, e como resultado, a camada de esmalte de unha pode ser difícil de remover completamente.

REIVINDICAÇÕES

Claims

1. Composição para remoção de esmalte de unha caraterizada pelo fato de que compreende (a) uma solução de polímero selecionada a partir de uma solução de poliuretano, uma solução aquosa de álcool polivinilico, uma solução de poli(met)acrilato, e as misturas das mesmas, em que a solução de poliuretano é composta de 25 a 40% em peso de poliuretano e 60 a 75% em peso de água, a solução aquosa de álcool polivinilico é composta de 1 a 25% em peso de álcool polivinilico e 75 a 99% em peso de água, e a solução de poli(met)acrilato é composta por 5 a 50% em peso de poli(met)acrilato e 50 a 95% em peso de água.

2. Composição para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 1, caraterizada pelo fato de que compreende ainda (b) um agente de deslizamento fluorado ou silicone, em que a composição para remoção de esmalte de unha compreende de 95 a 99,9% em peso da solução de polímero (a) e 0,01 a 5 % em peso do agente de deslizamento (b).

3. Composição para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 1, caraterizada pelo fato de que compreende ainda (b) um agente de deslizamento fluorado ou silicone e (c) um adesivo acrílico sensível à pressão, em que a composição para remoção de esmalte de unha compreende de 76 a 95% em peso da solução de polímero (a), 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), e 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível à pressão (c).

4. Composição para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 1, caraterizada pelo fato de que compreende adicionalmente (b) um agente de deslizamento fluorado ou silicone e (c) um adesivo acrílico sensível à pressão, e (d) glicerina, em que a composição para remoção de esmalte de unha compreende de 66 a 95% em peso da solução de polímero (a), 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível à pressão (c), e de 0,1 a 10% em peso da glicerina (d).

5. Composição para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 1, caraterizada pelo fato de que compreende adicionalmente (b) um agente de deslizamento fluorado ou silicone e (c) um adesivo acrílico sensível à pressão, e (d) glicerina, e (e) um espessante, em que a composição para a remoção do esmalte de unha compreende 65-95% em peso da solução de polímero (a), 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível à pressão (c), 0,1 a 10% em peso de glicerina (d), e 0,1 a 1% em peso do espessante (e).

6. Composição para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 1, caraterizada pelo fato de que compreende adicionalmente (b) um agente de deslizamento fluorado ou silicone e (c) um adesivo acrílico sensível à pressão, e (d) glicerina, (e) um espessante, e (f) uma vitamina, em que a composição para remoção de esmalte de unha compreende de 45 a 95% em peso da solução de polímero (a), 0,01 a 5% em peso do agente de deslizamento (b), 0,01 a 20% em peso do adesivo sensível à pressão (c), de 0,1 a 10% em peso de glicerina (d), 0,1 a 1% em peso do espessante (e), e de 0,1 a 20% em peso da vitamina (f).

7. Composição para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 5, caraterizada pelo fato de que o adesivo sensível à pressão é selecionado a partir de adesivos acrílicos sensíveis à pressão, adesivos à base de borracha sensíveis à pressão, adesivos à base de uretano sensíveis à pressão, e suas misturas, e o espessante é selecionado a partir de espessantes celulósicos, agentes espessantes à base de uretano, e suas misturas.

8. Kit para remoção de esmalte de unha caracterizado pelo fato de que compreende (I) uma composição para remoção de esmalte de unha e (II) um manual de instruções sobre como usar a composição para remoção de esmalte de unha.

9. Kit para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que a composição para remoção de esmalte de unha (I) é a composição para remoção de esmalte de unha como definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 6.

10. Kit para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que compreende ainda (III) uma composição de esmalte de unha.

11. Kit para remoção de esmalte de unha de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a composição de esmalte de unha é composta de composição de (1) uma composição a base de gel UV, (2) uma composição de gel UV, e (3) uma composição de gel UV superior.

12. Método para cuidado das unhas caracterizado pelo fato de que compreende (A) aplicação de uma composição para remoção de esmalte de unha a uma unha para formar uma camada para remoção de esmalte de unha e (B) a formação de uma camada de esmalte de unha sobre a camada para remoção de esmalte de unha.

13. Método para o tratamento das unhas de acordo com a reivindicação 12, caracterizado pelo fato de que a composição para remoção de esmalte de unha é a composição para remoção de esmalte de unha como definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 6.

14. Método para cuidado das unhas de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de a etapa (B) compreende (B1) a formação de uma camada de gel de base de UV sobre a camada para remoção de esmalte de unha, (B2) a formação de uma camada de gel UV na camada de gel base de UV, e (B3), a\formação de uma camada de gel UV no topo da camada de gel UV.

15. Método para cuidado das unhas de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que a etapa (B2) compreende (B2‘) aplicação de uma composição de gel UV para a camada de gel base de UV e (B2") irradiação de UV na composição de gel UV.

16. Método para cuidado das unhas de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que a camada para remoção do esmalte de unhas tem uma espessura de 10 a 20 pm.

17. Método para cuidado das unhas de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que a camada para remoção do esmalte de unhas tem uma resistência de 0,3 a 3 kgf.