JP2017102304A - アライメントパターンを有するフォトマスクブランクスならびにそれを用いたフォトマスクおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
少なくとも四角形の頂点に位置する4個のアライメントパターンを備え、
前記各アライメントパターンの座標位置からなる基準データ情報と、
自身に記録された座標位置または自身を識別する識別情報とが関連付けられている
ことを特徴とする。
前記第2の辺および前記第1の基準点からそれぞれ第3の距離および第4の距離だけ離間した第2の基準点と、
前記第1の基準点から、前記第1の基準点と前記第2の基準点とを繋ぐ基準辺に垂直方向に第5の距離だけ離間した第3の基準点と、
前記第2の基準点から前記基準辺に垂直方向に第6の距離だけ離間した第4の基準点とに位置することを特徴とする。
前記各アライメントパターンの前記座標位置が、
前記アライメントパターン形成後に測定された前記各アライメントパターンの相対座標位置、または相対座標位置および絶対座標位置を備える
ことを特徴とする。
前記フォトマスクブランクスに関連付けられた前記基準データ情報を入力する工程と、
前記フォトマスクブランクスに備えられた前記各アライメントパターンの座標位置をパターン描画装置により測定し描画装置データ情報として出力する工程と、
前記基準データ情報と前記描画装置データ情報とから前記フォトマスクブランクスに描画するパターンを補正する工程と、
前記工程により補正されたパターンを前記フォトマスクブランクスに描画する工程と
を含むことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
それぞれ、少なくとも四角形の頂点に位置する4個のアライメントパターンを備え、
前記各アライメントパターンの座標位置の基準データ情報が関連付けられている、
複数のフォトマスクブランクスに、
それぞれ異なるパターンが描画された複数のフォトマスクを含むことを特徴とする。
図1は、本発明におけるフォトマスクブランクスのアライメントパターンの配置位置を設定するプロセスを示す平面図である。
以下では、フォトマスクブランクスにアライメントパターンを形成する方法について、ハーフトーンマスクを例に説明する。
以下では、フォトマスクブランクスとアライメントパターンの基準データ情報との組とすることの効果について、図を参照して詳細に説明する。
以下では、本発明に係るフォトマスクブランクスを用いて製造したフォトマスクを、製品のリソグラフィー工程に適用する方法について説明する。
2 第1の辺
3 第2の辺
4 第1の基準点
5 転写パターン露光領域
6 第2の基準点
7 基準辺
8 第3の基準点
9 第4の基準点
10 基本アライメントパターン
11 第1の補助パターン
12 第2の補助パターン
13 透明基板
14、14a 遮光膜
15 フォトレジストパターン
16、16a 半透過膜
17a フォトレジストパターン
18a、18b、18c 転写パターン
19a、19b、19c 転写パターン
Claims (6)
- 少なくとも四角形の頂点に位置する4個のアライメントパターンを備え、
前記各アライメントパターンの座標位置からなる基準データ情報と、
自身に記録された座標位置または自身を識別する識別情報とが関連付けられている
ことを特徴とするフォトマスクブランクス。 - 前記4個のアライメントパターンは、前記フォトマスクブランクスの端面を構成する四辺のうち交差する第1の辺および第2の辺から、それぞれ第1の距離および第2の距離だけ離間した第1の基準点と、
前記第2の辺および前記第1の基準点からそれぞれ第3の距離および第4の距離だけ離間した第2の基準点と、
前記第1の基準点から、前記第1の基準点と前記第2の基準点とを繋ぐ基準辺に垂直方向に第5の距離だけ離間した第3の基準点と、
前記第2の基準点から前記基準辺に垂直方向に第6の距離だけ離間した第4の基準点とに位置することを特徴とする請求項1記載のフォトマスクブランクス。 - 前記各アライメントパターンの前記座標位置は、
前記アライメントパターン形成後に測定された前記各アライメントパターンの相対座標位置、または相対座標位置および絶対座標位置を備える
ことを特徴とする請求項1乃至2記載のフォトマスクブランクス。 - 請求項1乃至3のいずれか1項記載の前記フォトマスクブランクスに関連付けられた前記基準データ情報を入力する工程と、
前記フォトマスクブランクスに備えられた前記各アライメントパターンの座標位置をパターン描画装置により測定し描画装置データ情報として出力する工程と、
前記基準データ情報と前記描画装置データ情報とから前記フォトマスクブランクスに描画するパターンを補正する工程と、
前記工程により補正されたパターンを前記フォトマスクブランクスに描画する工程と
を含むことを特徴とするフォトマスクの製造方法。 - それぞれ、少なくとも四角形の頂点に位置する4個のアライメントパターンを備え、
前記各アライメントパターンの座標位置の基準データ情報が関連付けられている、
複数のフォトマスクブランクスに、
それぞれ異なるパターンが描画された複数のフォトマスクを含むことを特徴とする一群のフォトマスク。 - 前記異なるパターンは、前記フォトマスクブランクスの前記各アライメントパターンの座標位置をパターン描画装置により測定された座標位置測定値と前記基準データ情報とにより補正されたパターンであることを特徴とする請求項4記載の一群のフォトマスク。
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