JP2017095790A5 - - Google Patents

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  1. 金属Ｃｏ、金属Ｐｔ、および酸化物を含有してなるスパッタリングターゲットであって、
    不可避的な不純物以外に金属Ｃｒを含まないスパッタリングターゲットであり、
    前記酸化物はＢ 2 Ｏ 3 のみからなり、
    かつ、前記Ｂ 2 Ｏ 3 を１０〜５０ｖｏｌ％含有することを特徴とするスパッタリングターゲット。
  2. 前記Ｂ 2 Ｏ 3 を、２０〜４０ｖｏｌ％含有することを特徴とする請求項１に記載のスパッタリングターゲット。
  3. 前記Ｂ 2 Ｏ 3 を、２５〜３５ｖｏｌ％含有することを特徴とする請求項１に記載のスパッタリングターゲット。
  4. 前記スパッタリングターゲットは、磁性薄膜の作製に使用可能なことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
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