JP2017094551A - 成膜装置 - Google Patents

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雄三 三浦
知之 上薗
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Abstract

【課題】一対のロール間への粉粒体の供給不足の発生を抑制することができる成膜装置を提供すること。
【解決手段】所定の間隔で水平に対向配置された、第1ロール10と第1ロール10より周速度が速い第2ロール20とを備え、これらのロール間へ粉粒体130を鉛直方向から供給して粉粒体を130圧縮成形することによりシート状物を成膜する成膜装置において、第2ロール20の径は、第1ロール10の径よりも小さく設定されている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、粉粒体を圧縮して成膜する成膜装置に関するものである。
成膜装置に関して、粉粒体を圧縮することによりシート状物を成膜するものが知られている。この種の成膜装置の1つとして、所定の間隔で互いに平行に配置され、異なる回転速度(周速度)で回転駆動される一対のロールと、その一対のロール間(対面位置)に粉粒体を供給するホッパとを備えているものがある。そして、この成膜装置では、ホッパから一対のロール間に供給された粉粒体を、一対のロールで圧縮成形することにより、シート状物を成膜している(特許文献1参照)。
特開2013−077560号公報
しかしながら、上記の成膜装置では、一対のロールの回転速度(周速度)に速度差があるため、回転速度の速い方のロール側へ粉粒体が引っ張られる。そのため、粉粒体の供給が追いつかない部位が発生してしまう。つまり、一対のロール間への粉粒体の供給不足が発生する。そうすると、粉粒体に十分な展延性がない場合には、その部位が空間となったままで一対のロールの対面位置へ送られ、その状態で一対のロールで圧縮成形される。そのため、シート状物において、粉粒体が全く存在しない部位(透け)や、膜厚不足部位が発生し、成膜不良となるおそれがあった(図3参照)。
なお、粉粒体に十分な展延性を持たせれば、粉粒体の供給が追いつかない部位にも粉粒体が入り込んで空間を塞ぐことができるため成膜不良を防止することはできるが、粉粒体材料成分や製造条件などの制約を受けてしまう。
そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、一対のロール間への粉粒体の供給不足の発生を抑制することができる成膜装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するためになされた本発明の一態様は、所定の間隔で水平に対向配置された、第1ロールと前記第1ロールより周速度が速い第2ロールとを備え、これらのロール間へ粉粒体を鉛直方向から供給して前記粉粒体を圧縮成形することによりシート状物を成膜する成膜装置において、前記第2ロールの径は、前記第1ロールの径よりも小さいことを特徴とする。
この成膜装置では、所定の間隔で水平に対向配置された第1ロールと第2ロールによって、ロール間に供給される粉粒体を圧縮成形することによりシート状物が成膜される。そして、第2ロールの周速度が第1ロールの周速度よりも速く設定されているため、第2ロール側へ粉粒体が引っ張られる。そのため、粉粒体の供給が追いつかない部位が発生(粉流体の供給不足が発生)して、その部位が空間となったままで、第1ロールと第2ロールとの対面位置へ送られ、その状態で第1ロール及び第2ロールによって圧縮成形されると、シート状物において、粉粒体が全く存在しない部位(透け)や、膜厚不足部位が発生し、成膜不良となるおそれがある。
ところが、この成膜装置では、第2ロールの径が第1ロールの径よりも小さく設定されている。これにより、周速度が速い方の第2ロール側への粉粒体の落下方向の供給口面積(単位時間当たり)を大きくすることができる(図2参照)。また、そのため、周速度が速い方の第2ロール側への粉粒体の供給量を増やして、粉粒体の流動性を向上させることができる。従って、第1ロールと第2ロールとの間への粉粒体の供給不足の発生を抑制することができる。その結果、シート状物において、粉粒体が全く存在しない部位(透け)や、膜厚不足部位の発生を防止することができる。
本発明に係る成膜装置によれば、上記した通り、一対のロール間への粉粒体の供給不足の発生を抑制することができる。
実施形態に係る成膜装置の概略構成図である。 粉粒体の落下方向における供給口面積についての説明図である。 従来の成膜装置における粉粒体の供給状態を示す図である。
以下、本発明の成膜装置を具体化した実施の形態について、図面に基づき詳細に説明する。本実施形態では、電極板の製造に本発明を適用した場合について説明する。そこで、本実施形態に係る成膜装置(電極板製造装置)について、図1及び図2を参照しながら説明する。図1は、実施形態に係る成膜装置の概略構成図である。図2は、粉粒体の落下方向における供給口面積についての説明図である。
本実施形態に係る成膜装置1は、図1に示すように、第1ロール10と、第2ロール20と、第3ロール30と、粉粒体供給部40とを有している。そして、成膜装置1は、粉粒体供給部40から供給される粉粒体130を、第1ロール10と第2ロール20とによって圧縮成形したシート状物としての活物質層120を成膜するようになっている。なお、図1において、上下方向が鉛直方向であり、重力は下向きに作用している。
第1ロール10及び第2ロール20は、水平に対向配置されており、粉粒体供給部40から供給される粉粒体130を、シート状に圧縮成形する異径のプレスロールである。すなわち、第1ロール10の中心軸10Oと第2ロール20の中心軸20Oが同じ高さ位置に配置されており、第2ロール20の径が第1ロール10の径よりも小さい。そして、第1ロール10及び第2ロール20は、それぞれの外周面11,21が第1対面位置Aにおいて互いに対面した状態で配置されている。
このような第1ロール10及び第2ロール20は、軸間距離が一定の間隔となるように保持されている。また、第1対面位置Aにおける第1ロール10の外周面11と第2ロール20の外周面21との間には、所定の隙間(成膜する膜厚相当)が設けられている。
第3ロール30は、第1ロール10及び第2ロール20によって成形された活物質層120を、基材である集電箔110に転写する転写ロールである。この第3ロール30の外周面31には、集電箔110が巻き掛けられており、第3ロール30は、第1ロール10や第2ロール20と干渉しない位置で、且つ、活物質層120を集電箔110に転写できる位置関係であればどこに配置されていてもよく、一例として、第2ロール20の直下に配置されている。そして、第3ロール30は、第2ロール20との軸間距離が一定の間隔となるように保持されている。また、第2対面位置Bにおける第2ロール20の外周面21と第3ロール30の外周面31との間には、所定の隙間(製造する電極板の厚さ相当)が設けられている。
粉粒体供給部40は、内部に収容している粉粒体130を重力落下により、鉛直方向から第1ロール10と第2ロール20との間(後述する加工領域)に供給するものである。粉粒体供給部40は、図1に示すように、第1ロール10及び第2ロール20が対面している第1対面位置Aの上方に設けられている。このため、粉粒体供給部40は、第1対面位置Aの上方より、粉粒体130を第1対面位置Aへ供給するようになっている。
粉粒体130は、活物質層120を形成するための粉末の材料を含むものである。本実施形態の粉粒体130は、活物質121と結着材122とを含んでいる。また、本実施形態の粉粒体130における粒子は、活物質121と結着材122とを造粒してなる造粒粒子である。
そして、第1ロール10、第2ロール20、第3ロール30は、電極板100を製造する際には、それぞれ回転するものである。図1には、第1ロール10、第2ロール20、第3ロール30の各回転方向をそれぞれ矢印により示している。図1に示すように、第1ロール10及び第3ロール30の回転方向は反時計回りであり、第2ロール20の回転方向は時計回りである。すなわち、対向配置された第1ロール10と第2ロール20、第2ロール20と第3ロール30は、それぞれ逆方向に回転するようになっている。
ここで、第1ロール10の周速度と第2ロール20の周速度が異なっており、第2ロール20が第1ロール10よりも周速度が速く設定されている。これにより、第1ロール10及び第2ロール20によって粉粒体130が圧縮されてシート状に成形された活物質層120が、第2ロール20の外周面21に付着するようになっている。
なお、第1ロール10及び第2ロール20によって粉粒体130が圧縮成形される領域(加工領域)は、図2に示すように、回転方向において、第1対面位置Aから所定寸法だけ回転方向上流側(上側)の位置C(第1対面位置Aから角度θだけ上側)までの範囲となる。また、加工領域は、軸方向(紙面前後方向)においては所定の長さ範囲(成膜する活物質層の幅相当)となる。このような範囲の加工領域において、粉粒体供給部40から供給された粉粒体130が、第1ロール10及び第2ロール20によって圧縮成形されるのである。
図1に戻って、第3ロール30の外周面31には、前述したように、基材としての集電箔110が巻き掛けられている。集電箔110は、第2面112側を第3ロール30の外周面31に向けた状態で、第3ロール30に巻き掛けられている。このため、集電箔110は、第3ロール30の回転により搬送されるようになっている。
また、集電箔110の第1面111は、第2対面位置Bにおいて、第2ロール20の外周面21に対面している。なお、本実施形態の第3ロール30は、第2対面位置Bにおける集電箔110の第1面111の移動速度が、第2ロール20の周速度よりも速くなる周速度で回転するようになっている。これにより、第2対面位置Bにおいて、第2ロール20に付着(成膜)されて搬送されてきた活物質層120が、第3ロール30に巻き掛けられている集電箔110の第1面111に転写されるようになっている。
次に、上記の成膜装置1の動作(電極板100の製造)について説明する。まず、粉粒体供給部40により、粉粒体130が第1対面位置A(加工領域)に供給される。このとき、粉粒体130は重力落下により第1対面位置Aに供給される。第1対面位置Aに供給された粉粒体130は、第1ロール10及び第2ロール20の回転によって、第1ロール10と第2ロール20との隙間を通過しつつ、その隙間の通過時に第1ロール10及び第2ロール20によって加圧(圧縮)される。この加圧により、粉粒体130中の各粒子同士が、粉粒体130中の結着材122の作用等によって結着される。これにより、第1対面位置Aを通過した粉粒体130は、シート状に成形される。
ここで、第2ロール20の周速度が、第1ロール10の周速度よりも速く設定されている。そのため、粉粒体供給部40から供給される粉粒体130は、第2ロール20にグリップされた際、加工領域への引き込み速度が急に速くなる。その結果、粉粒体130の流動性が不足している場合、粉粒体130の供給が追いつかない部位が発生(粉流体の供給不足が発生)して、その部位が空間となったままで、第1対面位置A(加工領域)へ送られるおそれがある。そして、その状態で第1ロール10及び第2ロール20によって粉粒体130が圧縮成形されると、活物質層120において、透けや膜厚不足が発生し、成膜不良となるおそれがある。
しかしながら、成膜装置1では、第2ロール20の径が、第1ロール10の径よりも小さい。そのため、第2ロール20側への粉粒体130の落下方向における(単位時間当たりの)供給口面積を大きくすることができ、粉粒体130の流動性を向上させることができる。その理由について、図2を参照しながら説明する。ここでは、従来装置を含めた以下の3つの具体例を挙げて説明する。
比較例:従来装置として、同一径のロール(半径R=100mm)を使用する場合
実施例1:第2ロールの半径を75mm、第1ロールの半径を100mmとした場合
実施例2:第2ロールの半径を50mm、第1ロールの半径を100mmとした場合
なお、成膜条件を不変とするため、ロール径が変わってもロール周速度は一定とする(ロール径に応じて、角度θも変化する)。
まず、図2に示すように、ロール半径をR、加工領域の軸方向(紙面前後方向)長さをLとすると、粉粒体130の供給口面積は「(R−Rcosθ)L」となる。ここで、具体例1(従来装置)における角度θがθ=5°であるとすると、ロール径に依らずロール周速度が一定になるように角度θを求めると以下の通りである。
比較例:第2ロールの半径が100mm、角度θがθ=5°
実施例1:第2ロールの半径が75mm、角度θがθ=6.667°
実施例2:第2ロールの半径が50mm、角度θがθ=10°
従って、各具体例の第2ロール20側への粉粒体130の落下方向における供給口面積は、次の通りとなる。
比較例:0.381L
実施例1:0.507L
実施例2:0.760L
すなわち、供給口面積が、従来の成膜装置(ロール半径が100mm)では「0.381L」であるのに対し、成膜装置1において、第2ロール20の半径を3/4にした場合(実施例1)には「0.507L」となり約1.4倍になる。また、第2ロール20の半径を1/2にした場合(実施例2)には「0.760L」となり約2倍になる。このように、第2ロール20の径を第1ロール10の径よりも小さくすることにより、粉粒体130の落下方向における供給口面積が大きくなるのである。その結果として、第2ロール20側への粉粒体130の供給量を増やし、粉粒体130の流動性を向上させることができる。これにより、第1ロール10と第2ロール20との間への粉粒体130の供給不足の発生を抑制することができる。
ここで、ロール径を小さくすることの背反として、加工領域の深さ(鉛直方向の長さ)が大きくなり、粉粒体130の供給が追いつかなくなる可能性がある。なお、加工領域の深さは、図2に示すように、「Rsinθ」となる。しかしながら、各具体例における深さは以下の通りとなり、ほとんど変化しないことがわかる。
比較例:8.716mm
実施例1:8.707mm
実施例2:8.682mm
つまり、第2ロール20の径を小さくしても、加工領域の深さへの影響はほとんどないのである。
また、角度θは、粉粒体130の特性などによって決まる値であって未知数のため、角度θが変化した場合であっても上記の効果が得られることを簡単に説明する。前提条件として、従来装置のロール半径が100mm、角度θがθ=10°とする(比較例に対して角度θが2倍)。これに対して、本実施形態の成膜装置1において、第2ロール20の半径が50mmとすると、角度θは、θ=20°となる。従って、粉粒体130の落下方向における供給口面積は、従来装置では「1.519L」、成膜装置1では「3.015L」となり、供給口面積は約2倍になる。一方、加工領域の深さは、従来装置では「17.365mm」、成膜装置1では「17.101mm」となり、ほとんど変化はなく、加工領域の深さへの影響はほとんどないと言える。従って、角度θに依らず、第2ロール20の径を小さくすることにより、上記の効果を得ることができる。
このようにして、過不足なく供給された粉粒体130は、第1対面位置Aにおいて第1ロール10及び第2ロール20によって加圧される。そして、加圧された粉粒体130は、第1ロール10の外周面11及び第2ロール20の外周面21のうち、第1対面位置Aにおける移動速度が速い方の面に付着する。そのため、第1対面位置Aを通過した粉粒体130は、図1に示すように、第2ロール20の外周面21上にシート状の活物質層120となって付着する。そして、第2ロール20の外周面21上に付着した活物質層120は、第2ロール20の回転により、第2対面位置Bへと搬送される。
このように成膜装置1では、粉粒体130において空間発生が少ない状態で、粉粒体130が第1ロール10と第2ロール20との間(加工領域)に供給されて活物質層120が形成される。そのため、活物質層120において成膜不良の発生を防止することができる。そして、その活物質層120は、図1に示すように、第2ロール20によって第2対面位置Bへと搬送される。第2対面位置Bでは、集電箔110が搬送により通されている。このため、第2ロール20の回転により第2対面位置Bへと到達した活物質層120は、集電箔110とともに第2ロール20と第3ロール30との隙間を通過する。その隙間を通過する際に、集電箔110及び活物質層120は、その厚み方向に第2ロール20及び第3ロール30に加圧される。また、第2対面位置Bにおいて、活物質層120が、第2ロール20の外周面21上から集電箔110の第1面111上に転写される。かくして、電極板100が製造される。
以上、詳細に説明したように本実施形態に係る成膜装置1によれば、周速度が速い方の第2ロール20の径が、第1ロール10の径よりも小さく設定されている。これにより、周速度が速い方の第2ロール20側への粉粒体130の落下方向における供給口面積が大きくなり、粉粒体130の供給量が増えるため、第2ロール20側への粉粒体130の供給不足を抑制することができる。従って、第1ロール10と第2ロール20との間(加工領域)に供給される粉粒体130における空間の発生が抑制されるため、第1ロール10と第2ロールと20により圧縮成形される活物質層120に成膜不良が発生することを抑制することができる。
なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。
1 成膜装置
10 第1ロール
20 第2ロール
30 第3ロール
40 粉粒体供給部
100 電極板
120 活物質層
130 粉粒体

Claims (1)

  1. 所定の間隔で水平に対向配置された、第1ロールと前記第1ロールより周速度が速い第2ロールとを備え、これらのロール間へ粉粒体を鉛直方向から供給して前記粉粒体を圧縮成形することによりシート状物を成膜する成膜装置において、
    前記第2ロールの径は、前記第1ロールの径よりも小さい
    ことを特徴とする成膜装置。
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