JP2017081967A - シリカ及び該シリカを用いた歯牙研磨剤 - Google Patents
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Abstract
Description
項1.
BET比表面積が20〜80m2/g、かつCTAB比表面積が10〜45m2/gであり、
(CTAB比表面積/BET比表面積)が0.3〜0.8である
るシリカ。
項2.
歯牙研磨用である、項1に記載のシリカ。
項3.
項1又は2に記載のシリカの表面に、下記式(I):
R1 3N+−R2−SiR3 nX3−n・Y− (I)
(式中、Xはそれぞれ独立してハロゲン原子、アルコキシ基、又はアシル基を示し、
Yは塩素又は臭素を示し、
R1はそれぞれ独立して炭素数1〜22の1価の脂肪族炭化水素基を示し、
R2は2価の炭化水素基を示し、
R3はそれぞれ独立して炭素数1、2、3又は4のアルキル基、フェニル基あるいはCF3CH2CH2基を示し、
nは0、1または2を表す)
で示されるオルガノシリコン第四級アンモニウム塩を固定化してなる、オルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカ。
項4.
オルガノシリコン第四級アンモニウム塩が、下記式(II):
で示されるオルガノシリコン第四級アンモニウム塩である、項3に記載のオルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカ。
項5.
項3又は4に記載のオルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカからなる歯牙研磨剤。
項6.
項1又は2に記載のシリカ、項3又は4に記載のオルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカ、あるいは項5に記載の歯牙研磨剤を含有する、口腔用組成物。
項7.
項3又は4に記載のオルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカあるいは項5に記載の歯牙研磨剤、及び塩化セチルピリジニウムを含有する、口腔用組成物。
項8.
項3又は4に記載のオルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカあるいは項5に記載の歯牙研磨剤のpHが6.5以下である、項7に記載の口腔用組成物。
、口腔用組成物において薬効成分(殺菌剤)として用いられる塩化セチルピリジニウムとの相容性にも優れる。すなわち、本発明の歯牙研磨剤は、塩化セチルピリジニウムに対する吸着性が低い。このため、本発明の歯牙研磨剤及び塩化セチルピリジニウムを口腔に対して併用した場合、塩化セチルピリジニウムが歯牙研磨剤にあまり吸着されず、よって効率的に塩化セチルピリジニウムが口腔内に適用される。
出するので、比較的小さな細孔の内部まで表面積の測定が可能である。このため、通常、BET比表面積が大きいシリカは、一次粒子が小さいシリカであると解釈することができる。
スルホこはく酸ジ―2−エチルヘキシルナトリウム)溶液で滴定し定量することにより、シリカへ吸着したCTAB量を算出し、さらに、CTAB1分子あたりの吸着断面積を0.35nm2として、シリカの比表面積を算出する。なお、CTABとは、セチルトリメチルアンモニウムブロミド(Cetyl Tri-methyl Ammonium Bromide)の略である。
アマニ油吸油量が、好ましくは100〜150(ml/100g)程度であり、より好ましくは100〜140(ml/100g)程度である。
、ケーキ洗浄が可能な濾過機(例えば、フィルタープレス、ベルトフィルター等)により濾別、洗浄して副生電解質を除去する。
/L、SiO2/Na2Oモル比3.3)2.1Lを加え、95℃に加熱する。この溶液の温度を95℃に維持しながら、上記と同様のケイ酸ナトリウム水溶液を890mL/分、硫酸(18mol/L)を35mL/分の流量で同時に滴下する。流量を調整しながら反応溶液中のNa2O濃度を0.015〜0.35mol/Lの範囲に維持しながら中和反応を行い、反応を停止する。ひき続いて、上記と同様の硫酸を溶液のpHが3になるまで添加して沈殿法シリカスラリーを得、当該スラリーをフィルタープレスで濾過、水洗を行って湿潤ケーキを得る。次いで当該湿潤ケーキを乳化装置を用いてスラリーとして、噴霧式乾燥機で乾燥し沈殿法シリカ粉末を得る。必要に応じて、当該沈殿法シリカ粉末を衝撃式粉砕機および風力式分級機にて粒子径を調整する。以上のようにして、本発明のシリカの好適な一態様を製造することができる。
R1 3N+−R2−SiR3 nX3−n・Y− (I)
で示される公知の化合物である。当該オルガノシリコン第四級アンモニウム塩は、通常、アルコール溶液として市販されている。
であり、炭素数1〜22のアルキル基が好ましく、炭素数8〜22のアルキル基がより好ましく、炭素数12〜20のアルキル基がさらに好ましい。また、直鎖のアルキル基であることが好ましい。
直鎖アルキル基)で他の1つが炭素数8〜22のアルキル基(好ましくは直鎖アルキル基)であることが好ましく、3つのR1のうちの2つが独立してメチル基又はエチル基で他
の1つが炭素数8〜22の直鎖アルキル基であることが特に好ましい。R2は2価の炭化
水素基であり、特に炭素数2、3又は4のアルキレン基あるいは−CH2CH2CH2NH
CH2CH2−であることが好ましい。R3は炭素数1、2、3又は4のアルキル基、フェ
ニル基あるいはCF3CH2CH2基である。nは0、1または2を表し、好ましくは0で
ある。なお、nが1のとき、2つのXはそれぞれ独立しており、またnが2のとき、2つのR3はそれぞれ独立している。
ヘキサンに添加することによって容易に調製される。処理溶液中のオルガノシリコン第四級アンモニウムの濃度は例えば0.25〜10重量%程度とすればよい。処理表面を乾燥
または加熱すると、オルガノシリコン第四級アンモニウム被膜がシリカの表面に固定化される。また、この処理済シリカをさらに65〜100℃で数分間加熱することで、オルガノシリコン第四級アンモニウム被膜が該シリカの表面により強固に固定化され得る。なお、図1は、R1が炭素数18の直鎖アルキル基である式(II)で表されるオルガノシリコン第四級アンモニウムがシリカに固定化されてなる固定化シリカの模式図に相当する。
50重量%程度が例示できる。
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、キシリット、マルチット、ラクチットなどを、単独または2種以上を組み合わせて配合することができる。配合量は、通常、組成物全量に対して1〜70重量%である。また、香味剤として、メントールカルボン酸、アネトール、オイゲノール、サリチル酸メチル、リモネン、オシメン、n−デシルアルコール、シトロネール、α−テルビネオール、メチルアセタート、シトロネニルアセタート、メチルオイゲノール、シネオール、リナロール、エチルリナロール、ワニリン、チモール、スペアミント油、ペパーミント油、レモン油、オレンジ油、セージ油、ローズマリー油、珪皮油、シソ油、冬緑油、丁子油、ユーカリ油などを、単独または2種以上を組み合わせて組成物全量に対して0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%程度の割合で配合することができる。また、甘味剤として、サッカリンナトリウム、スクラロース、アセスルファームカリウム、ステビオサイド、ネオヘスペリジルジヒドロカルコン、グリチルリチン、ペリラルチン、タウマチン、アスパラチルフェニルアラニルメチルエステル、p−メトキシシンナミックアルデヒドなどを、組成物全量に対して0.01〜1重量%、好
ましくは0.05〜0.5重量%の割合で配合することができる。また、粘結剤として、カルボキシメチルセルロースナトリウム、カルボキシメチルエチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、結晶セルロース・カルメロースナトリウムなどのセルロース誘導体、キサンタンガム、ジェランガムなどの微生物産生高分子、トラガントガム、カラヤガム、アラビヤガム、カラギーナン、デキストリン、寒天、アルギン酸ナトリウムなどの天然高分子または天然ゴム類、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの合成高分子、増粘性シリカ、ビーガムなどの無機粘結剤、塩化O−[2−ヒドロキシ−3−(トリメチルアンモニオ)プロピル]ヒドロキシエチルセルロースなどのカチオン性粘結剤を単独または2種以上を組み合わせて組成物全量に対して0.1〜5重量%、好ましくは0.5〜3重量%程度の割合で配合することができる。また、発泡剤として、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシアルキルエーテルリン酸塩、脂肪酸石鹸、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸塩、α-オレフィンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシアルキルエーテルス
ルホコハク酸塩などのアニオン界面活性剤、モノアルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩などのカチオン界面活性剤、糖脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、アルキルグルコシド、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、レシチンなどのノニオン界面活性剤、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン、脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン、2−アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインなどの両性界面活性剤を、単独または2種以上を組み合わせて組成物全量に対して0.01〜10重量%、好ま
しくは0.1〜5重量%程度の割合で配合することができる。
[製造例1]
撹拌機および加熱用ジャケットの付いた250L(リットル)の反応槽に、水72Lとケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2 160g/L、SiO2/Na2Oモル比3.3)5
.3Lを加え、95℃に加熱した。得られた溶液のNa2O濃度は0.05mol/Lであった。この溶液の温度を95℃に維持しながら、上記と同様のケイ酸ナトリウム水溶液を790mL/分、硫酸(18mol/L)を30mL/分の流量で同時に滴下した。流量を調整しながら反応溶液中のNa2O濃度を0.04〜0.06mol/Lの範囲に維持しながら中和反応を行い、150分で反応を停止した。ひき続いて、上記と同様の硫酸を溶液のpHが3になるまで添加して沈殿法シリカスラリーを得、当該スラリーをフィルタープレスで濾過、洗浄を行って湿潤ケーキを得た。次いで当該湿潤ケーキを乳化装置を用いてスラリーとして、噴霧式乾燥機で乾燥し沈殿法シリカ粉末を得た。次いで、当該沈殿法シリカ粉末を衝撃式粉砕機および風力式分級機にて粒子径を調整し、シリカ粉末(製造例1)を得た。
撹拌機および加熱用ジャケットの付いた250L(リットル)の反応槽に、水79Lとケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2 160g/L、SiO2/Na2Oモル比3.3)1
.7Lを加え、95℃に加熱した。得られた溶液のNa2O濃度は0.015mol/Lであった。この溶液の温度を95℃に維持しながら、上記と同様のケイ酸ナトリウム水溶液を790mL/分、硫酸(18mol/L)を30mL/分の流量で同時に滴下した。流量を調整しながら反応溶液中のNa2O濃度を0.005〜0.025mol/Lの範囲に維持しながら中和反応を行い、150分で反応を停止した。ひき続いて、上記と同様の硫酸を溶液のpHが3になるまで添加して沈殿法シリカスラリーを得、当該スラリーをフィルタープレスで濾過、洗浄を行って湿潤ケーキを得た。次いで当該湿潤ケーキを乳化装置を用いてスラリーとして、噴霧式乾燥機で乾燥し沈殿法シリカ粉末を得た。次いで、当該沈殿法シリカ粉末を衝撃式粉砕機および風力式分級機にて粒子径を調整し、シリカ粉末(製造例2)を得た。
撹拌機および加熱用ジャケットの付いた250L(リットル)の反応槽に、水81Lとケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2 160g/L、SiO2/Na2Oモル比3.3)0
.6Lを加え、95℃に加熱した。得られた溶液のNa2O濃度は0.005mol/Lであった。この溶液の温度を95℃に維持しながら、上記と同様のケイ酸ナトリウム水溶液を790mL/分、硫酸(18mol/L)を30mL/分の流量で同時に滴下した。流量を調整しながら反応溶液中のNa2O濃度を0.01mol/L以下の範囲に維持しながら中和反応を行い、150分で反応を停止した。ひき続いて、上記と同様の硫酸を溶液のpHが3になるまで添加して沈殿法シリカスラリーを得、当該スラリーをフィルタープレスで濾過、洗浄を行って湿潤ケーキを得た。次いで当該湿潤ケーキを乳化装置を用いてスラリーとして、噴霧式乾燥機で乾燥し沈殿法シリカ粉末を得た。次いで、当該沈殿法シリカ粉末を衝撃式粉砕機および風力式分級機にて粒子径を調整し、シリカ粉末(製造例3)を得た。
撹拌機および加熱用ジャケットの付いた250L(リットル)の反応槽に、水60Lとケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2 160g/L、SiO2/Na2Oモル比3.3)2
.1Lを加え、95℃に加熱した。得られた溶液のNa2O濃度は0.025mol/Lであった。この溶液の温度を95℃に維持しながら、上記と同様のケイ酸ナトリウム水溶液を890mL/分、硫酸(18mol/L)を35mL/分の流量で同時に滴下した。流量を調整しながら反応溶液中のNa2O濃度を0.015〜0.035mol/Lの範囲に維持しながら中和反応を行い、150分で反応を停止した。ひき続いて、上記と同様の硫酸を溶液のpHが3になるまで添加して沈殿法シリカスラリーを得、当該スラリーを
フィルタープレスで濾過、洗浄を行って湿潤ケーキを得た。次いで当該湿潤ケーキを乳化装置を用いてスラリーとして、噴霧式乾燥機で乾燥し沈殿法シリカ粉末を得た。次いで、当該沈殿法シリカ粉末を衝撃式粉砕機および風力式分級機にて粒子径を調整し、シリカ粉末(製造例4)を得た。
撹拌機および加熱用ジャケットの付いた250L(リットル)の反応槽に、水61Lとケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2 160g/L、SiO2/Na2Oモル比3.3)1
.3Lを加え、95℃に加熱した。得られた溶液のNa2O濃度は0.015mol/Lであった。この溶液の温度を95℃に維持しながら、上記と同様のケイ酸ナトリウム水溶液を890mL/分、硫酸(18mol/L)を35mL/分の流量で同時に滴下した。流量を調整しながら反応溶液中のNa2O濃度を0.005〜0.025mol/Lの範囲に維持しながら中和反応を行い、150分で反応を停止した。ひき続いて、上記と同様の硫酸を溶液のpHが3になるまで添加して沈殿法シリカスラリーを得、当該スラリーをフィルタープレスで濾過、洗浄を行って湿潤ケーキを得た。次いで当該湿潤ケーキを乳化装置を用いてスラリーとして、噴霧式乾燥機で乾燥し沈殿法シリカ粉末を得た。次いで、当該沈殿法シリカ粉末を衝撃式粉砕機および風力式分級機にて粒子径を調整し、シリカ粉末(製造例5)を得た。
撹拌機および加熱用ジャケットの付いた250L(リットル)の反応槽に、水73Lとケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2 160g/L、SiO2/Na2Oモル比3.3)0
.5Lを加え、85℃に加熱した。得られた溶液のNa2O濃度は0.005mol/Lであった。この溶液の温度を85℃に維持しながら、上記と同様のケイ酸ナトリウム水溶液を1015mL/分、硫酸(18mol/L)を40mL/分の流量で同時に滴下した。流量を調整しながら反応溶液中のNa2O濃度を0.01mol/L以下の範囲に維持しながら中和反応を行い、120分で反応を停止した。ひき続いて、上記と同様の硫酸を溶液のpHが3になるまで添加して沈殿法シリカスラリーを得、当該スラリーをフィルタープレスで濾過、洗浄を行って湿潤ケーキを得た。次いで当該湿潤ケーキを乳化装置を用いてスラリーとして、噴霧式乾燥機で乾燥し沈殿法シリカ粉末を得た。次いで、当該沈殿法シリカ粉末を衝撃式粉砕機および風力式分級機にて粒子径を調整し、シリカ粉末(製造例6)を得た。
製造例1〜6の物性値を、以下のようにして測定した。なお、練歯磨きの研磨剤を用途の一つとして市販されているシリカ(以下「シリカA」とする)についても、同様に物性値を測定した。
JIS Z8830(気体吸着吸着による粉体の比表面積測定法)に従って、N2吸着1点法によりBET比表面積を測定した。
JIS K6430(ゴム用配合材 シリカ試験法:2008年)に準じ測定した。具体的には、CTAB溶液中でシリカ表面にCTABを吸着させ、吸着せず溶液中に残ったCTAB量をAerosol OT(スルホこはく酸ジ―2−エチルヘキシルナトリウム
)溶液で滴定し定量することにより、シリカへ吸着したCTAB量を算出し、さらに、CTAB1分子あたりの吸着断面積を0.35nm2として、シリカの比表面積を算出することで、CTAB比表面積を求めた。
コールターカウンター法により各製造例の平均粒子径を求めた。具体的には、次のようにして求めた。
JIS K5101(顔料試験方法)吸油量測定法により、各製造例のアマニ油吸油量
を測定した。具体的には、次のようにして測定した。
水銀圧入法に基づき、水銀ポロシメーター(PASCAL 440;Thermo Fisher Scientific Inc.)を用いて、0.1〜380Mpaまで圧力を上昇させ、各製造例のシリ
カの細孔分布および容積を測定し、細孔容積及び平均細孔径を求めた。
牛歯象牙質を、各製造例のシリカのスラリーでブラッシングし、表面粗さ計にて平均深さを測定した。平均深さが深いほど研磨力が強いものとした。
さ:4mm、カットオフ値:0.80mm、縦倍数:2000倍、速度:0.30mm/
sの条件下で、ブラッシング後の牛歯象牙質について平均深さ(HAV値)を測定した。この平均深さを研磨力の指標とした。
シリカA、製造例2及び製造例5のシリカについて、下記式で示されるオルガノシリコン第四級アンモニウム塩を固定した。これがシリカへ固定化された模式図を図1に示す。なお、別の市販シリカであるNipsil E75(東ソー・シリカ株式会社製)についても、同様の処理を行った。Nipsil E75に下記式で示されるオルガノシリコン第四級アンモニウム塩を固定したものを、以下「Nipsil DSS」と表記する。
上述のようにして得られた、各シリカ又は各オルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカと、塩化セチルピリジニウム(CPC)との相容性を検討した。具体的には、各シリカ又は各オルガノシリコン第四級アンモニウム塩固定化シリカ2g及びCPC0.004gを水28mLに加え、撹拌して測定サンプルを調製し、これを遠心した後、上澄み中のCPC量を測定した。なお、当該CPC量の測定は、HPLC(高速液体クロマトグラフィー)によって行った。
ipsil DSSの研磨力は6であった。
Claims (4)
- シリカの表面に、下記式(II):
- BET比表面積が20〜80m2/g、かつCTAB比表面積が10〜45m2/gであり、(CTAB比表面積/BET比表面積)が0.3〜0.8である、シリカの表面に、
下記式(II):
- BET比表面積が25〜65m2/g、かつCTAB比表面積が10〜45m2/gであり、(CTAB比表面積/BET比表面積)が0.3〜0.8である、シリカの表面に、
下記式(II):
- 式(II)中、R1は炭素数12〜20の直鎖アルキル基を示す、請求項1〜3のいずれかに記載の口腔用組成物。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019069929A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 小林製薬株式会社 | 口腔用組成物 |
JP2019069928A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 小林製薬株式会社 | 口腔用組成物 |
JP2019069930A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 小林製薬株式会社 | 口腔用組成物 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4273759A (en) * | 1979-05-18 | 1981-06-16 | Colgate-Palmolive Company | Antibacterial oral composition |
JPH0665036A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-03-08 | Sunstar Inc | 口腔用組成物 |
JPH08133937A (ja) * | 1994-11-01 | 1996-05-28 | Sunstar Inc | 口腔用組成物 |
JPH09507204A (ja) * | 1993-12-29 | 1997-07-22 | ローヌ−プーラン シミ | 練り歯磨き組成物用の研磨剤シリカ |
JPH10310513A (ja) * | 1997-03-11 | 1998-11-24 | Earth Chem Corp Ltd | 液体口腔用組成物 |
JP2001131040A (ja) * | 1999-11-04 | 2001-05-15 | Sansho Seiyaku Co Ltd | う蝕誘発性細菌増殖抑制剤 |
WO2009091001A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Kuraray Medical Inc. | 歯科口腔用組成物 |
JP2010043031A (ja) * | 2008-08-13 | 2010-02-25 | Lion Corp | 液体口腔用組成物 |
JP2011140454A (ja) * | 2010-01-06 | 2011-07-21 | Sunstar Inc | 口腔用組成物 |
US8273385B1 (en) * | 2008-10-17 | 2012-09-25 | Thres Flo, LLC | Oral rinse composition and method |
-
2016
- 2016-12-28 JP JP2016254733A patent/JP6461898B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4273759A (en) * | 1979-05-18 | 1981-06-16 | Colgate-Palmolive Company | Antibacterial oral composition |
JPH0665036A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-03-08 | Sunstar Inc | 口腔用組成物 |
JPH09507204A (ja) * | 1993-12-29 | 1997-07-22 | ローヌ−プーラン シミ | 練り歯磨き組成物用の研磨剤シリカ |
JPH08133937A (ja) * | 1994-11-01 | 1996-05-28 | Sunstar Inc | 口腔用組成物 |
JPH10310513A (ja) * | 1997-03-11 | 1998-11-24 | Earth Chem Corp Ltd | 液体口腔用組成物 |
JP2001131040A (ja) * | 1999-11-04 | 2001-05-15 | Sansho Seiyaku Co Ltd | う蝕誘発性細菌増殖抑制剤 |
WO2009091001A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Kuraray Medical Inc. | 歯科口腔用組成物 |
JP2010043031A (ja) * | 2008-08-13 | 2010-02-25 | Lion Corp | 液体口腔用組成物 |
US8273385B1 (en) * | 2008-10-17 | 2012-09-25 | Thres Flo, LLC | Oral rinse composition and method |
JP2011140454A (ja) * | 2010-01-06 | 2011-07-21 | Sunstar Inc | 口腔用組成物 |
Non-Patent Citations (1)
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光井武夫: "オーラルケア化粧品", 新化粧品学, JPN6017043229, 18 January 2001 (2001-01-18), JP, pages 525 - 535, ISSN: 0003844997 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2019069929A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 小林製薬株式会社 | 口腔用組成物 |
JP2019069928A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 小林製薬株式会社 | 口腔用組成物 |
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JP6461898B2 (ja) | 2019-01-30 |
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