JP2017079329A5 - ロードロックアセンブリ - Google Patents

ロードロックアセンブリ Download PDF

Info

Publication number
JP2017079329A5
JP2017079329A5 JP2016201376A JP2016201376A JP2017079329A5 JP 2017079329 A5 JP2017079329 A5 JP 2017079329A5 JP 2016201376 A JP2016201376 A JP 2016201376A JP 2016201376 A JP2016201376 A JP 2016201376A JP 2017079329 A5 JP2017079329 A5 JP 2017079329A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
load lock
wafer
wafer transfer
module
post
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016201376A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017079329A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US14/887,959 external-priority patent/US10304707B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2017079329A publication Critical patent/JP2017079329A/ja
Publication of JP2017079329A5 publication Critical patent/JP2017079329A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

理解を深めるために、本実施形態について、ある程度詳しく説明したが、添付の特許請求の範囲内でいくらかの変更および変形を行ってもよいことは明らかである。したがって、本実施形態は、例示的なものであって、限定的なものではないとみなされ、実施形態は、本明細書に示した詳細に限定されず、特許請求の範囲および等価物の範囲内で変形されてよい。例えば、本開示の内容は、以下の適用例としても実施可能である。
[適用例1]ロードロックアセンブリであって、
装置フロントエンドモジュール(EFEM)とウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第1ロードロックであって、前記EFEMは実験室周囲条件に維持され、前記ウエハ搬送モジュールは真空条件に維持され、前記ウエハ搬送モジュールはウエハ搬送アセンブリの一部であり、前記ウエハ搬送アセンブリは、前記ウエハ搬送アセンブリに接続された1または複数の処理モジュールまでおよび前記処理モジュールからウエハを搬送するよう構成されている第1ロードロックと、
前記第1ロードロックの上に配置され、前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第2ロードロックと、
前記第2ロードロックの上に配置された後処理モジュールであって、前記ウエハ搬送アセンブリに接続された前記処理モジュールの少なくとも1つで処理された処理済みウエハに後処理動作を実施するよう構成され、前記ウエハ搬送モジュールに接続するよう構成されている後処理モジュールと
を備えるロードロックアセンブリ。
[適用例2]適用例1に記載のロードロックアセンブリであって、前記後処理モジュールは、前記第2ロードロックの上に積み重ねられ、前記第2ロードロックは、前記第1ロードロックの上に積み重ねられているロードロックアセンブリ。
[適用例3]適用例1に記載のロードロックアセンブリであって、
前記第1ロードロックは、前記EFEMから前記ウエハ搬送モジュール内にウエハを移動させるよう構成され、
前記第2ロードロックは、前記ウエハ搬送モジュールから前記EFEMにウエハを移動させるよう構成されている
ロードロックアセンブリ。
[適用例4]適用例1に記載のロードロックアセンブリであって、前記後処理モジュールは、剥離処理または不動態化処理を前記処理済みウエハに実施するよう構成されているロードロックアセンブリ。
[適用例5]適用例1に記載のロードロックアセンブリであって、さらに、
前記第1ロードロックに隣接して配置され、前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第3ロードロックと、
前記第3ロードロックの上に前記第2ロードロックに隣接して配置され、前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第4ロードロックと、
前記第4ロードロックの上に配置された第2後処理モジュールであって、処理済みウエハに後処理動作を実施するよう構成され、前記ウエハ搬送モジュールに接続するよう構成されている第2後処理モジュールと
を備えるロードロックアセンブリ。
[適用例6]適用例5に記載のロードロックアセンブリであって、前記第2後処理モジュールは、前記第4ロードロックの上に積み重ねられ、前記第4ロードロックは、前記第3ロードロックの上に積み重ねられているロードロックアセンブリ。
[適用例7]適用例5に記載のロードロックアセンブリであって、
前記第1および第2ロードロックは、前記EFEMから前記ウエハ搬送モジュール内にウエハを移動させるよう構成され、
前記第3および第4ロードロックは、前記ウエハ搬送モジュールから前記EFEMにウエハを移動させるよう構成されている
ロードロックアセンブリ。
[適用例8]システムであって、
装置フロントエンドモジュール(EFEM)と、
第1処理モジュールおよび第2処理モジュールに接続するよう構成されたウエハ搬送モジュールと、前記第1および第2処理モジュールにウエハを移動させると共に前記第1および第2処理モジュールからウエハを移動させるためのロボットとを備えたウエハ搬送アセンブリと、
前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールの前面との間に接続され、前記EFEMから前記ウエハ搬送モジュールにウエハを移動させるよう構成された第1ロードロックおよび第2ロードロックと、
前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールの前面との間に接続され、前記ウエハ搬送モジュールから前記EFEMにウエハを移動させるよう構成された第3ロードロックおよび第4ロードロックと
を備えるシステム。
[適用例9]適用例8に記載のシステムであって、
前記第1および第2ロードロックは、スタック構成で配置され、
前記第3および第4ロードロックは、前記第1および第2ロードロックに隣接して、スタック構成で配置されているシステム。
[適用例10]適用例8に記載のシステムであって、さらに、
前記ウエハ搬送モジュールの前記前面に接続され、処理済みウエハに後処理動作を実施するよう構成された第1後処理モジュールと、
前記ウエハ搬送モジュールの前記前面に接続され、処理済みウエハに後処理動作を実施するよう構成された第2後処理モジュールと
を備えるシステム。
[適用例11]適用例10に記載のシステムであって、前記第1または第2処理モジュールは、エッチング動作を実施するよう構成され、前記第1または第2処理モジュールは、前記エッチング動作の実施後に剥離動作を実施するよう構成されているシステム。
[適用例12]適用例11に記載のシステムであって、前記ロボットは、前記エッチング動作の実施に向けて、前記第1ロードロックから前記第1処理モジュールにウエハを搬送し、その後、前記剥離動作の実施に向けて、前記第1処理モジュールから前記第1後処理モジュールに前記ウエハを搬送し、その後、前記ウエハ搬送アセンブリから出すために、前記第1後処理モジュールから前記第3ロードロックに前記ウエハを搬送するよう構成されているシステム。
[適用例13]ウエハを処理するための方法であって、
装置フロントエンドモジュール(EFEM)から第1ロードロックを通してウエハ搬送アセンブリにウエハを搬送する工程であって、前記第1ロードロックは、前記EFEMと前記ウエハ搬送アセンブリとの間に接続されており、
前記ウエハに処理動作を実施するよう構成され、前記ウエハ搬送アセンブリに接続された処理モジュールに、前記ウエハを移動させ、
前記処理動作の実施後に、前記ウエハに後処理動作を実施するよう構成された後処理モジュールに前記ウエハを移動させる工程であって、前記後処理モジュールは、前記ウエハ搬送アセンブリに接続され、前記第1ロードロックと共に垂直スタック構成で配置されてており、
前記後処理動作の実施後に、前記後処理モジュールから、前記ウエハ搬送アセンブリに接続された第2ロードロックを通して、前記EFEMに、前記ウエハを移動させる工程であって、前記第2ロードロックは、前記EFEMと前記ウエハ搬送アセンブリとの間に接続されている
方法。
[適用例14]適用例13に記載の方法であって、前記処理動作はエッチング動作であり、前記後処理動作は剥離動作である方法。
[適用例15]適用例13に記載の方法であって、前記第2ロードロックは、前記第1ロードロックと垂直スタック構成で配置されている方法。
[適用例16]適用例13に記載の方法であって、前記第2ロードロックは、前記第1ロードロックおよび前記不動態化モジュールによって規定された垂直スタック構成に隣接して配置されている方法。

Claims (7)

  1. ロードロックアセンブリであって、
    装置フロントエンドモジュール(EFEM)とウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第1ロードロックであって、前記EFEMは実験室周囲条件に維持され、前記ウエハ搬送モジュールは真空条件に維持され、前記ウエハ搬送モジュールはウエハ搬送アセンブリの一部であり、前記ウエハ搬送アセンブリは、前記ウエハ搬送アセンブリに接続された1または複数の処理モジュールまでおよび前記処理モジュールからウエハを搬送するよう構成されている第1ロードロックと、
    前記第1ロードロックの上に配置され、前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第2ロードロックと、
    前記第2ロードロックの上に配置された後処理モジュールであって、前記ウエハ搬送アセンブリに接続された前記処理モジュールの少なくとも1つで処理され、その後、当該後処理モジュール内に搬送された処理済みウエハに当該後処理モジュール内で後処理動作を実施するよう構成され、前記ウエハ搬送モジュールに接続するよう構成されている後処理モジュールと
    を備えるロードロックアセンブリ。
  2. 請求項1に記載のロードロックアセンブリであって、前記後処理モジュールは、前記第2ロードロックの上に積み重ねられ、前記第2ロードロックは、前記第1ロードロックの上に積み重ねられているロードロックアセンブリ。
  3. 請求項1に記載のロードロックアセンブリであって、
    前記第1ロードロックは、前記EFEMから前記ウエハ搬送モジュール内にウエハを移動させるよう構成され、
    前記第2ロードロックは、前記ウエハ搬送モジュールから前記EFEMにウエハを移動させるよう構成されている
    ロードロックアセンブリ。
  4. 請求項1に記載のロードロックアセンブリであって、前記後処理モジュールは、剥離処理または不動態化処理を前記処理済みウエハに実施するよう構成されているロードロックアセンブリ。
  5. 請求項1に記載のロードロックアセンブリであって、さらに、
    前記第1ロードロックに隣接して配置され、前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第3ロードロックと、
    前記第3ロードロックの上に前記第2ロードロックに隣接して配置され、前記EFEMと前記ウエハ搬送モジュールとの間を接続するよう構成された第4ロードロックと、
    前記第4ロードロックの上に配置された第2後処理モジュールであって、処理済みウエハに後処理動作を実施するよう構成され、前記ウエハ搬送モジュールに接続するよう構成されている第2後処理モジュールと
    を備えるロードロックアセンブリ。
  6. 請求項5に記載のロードロックアセンブリであって、前記第2後処理モジュールは、前記第4ロードロックの上に積み重ねられ、前記第4ロードロックは、前記第3ロードロックの上に積み重ねられているロードロックアセンブリ。
  7. 請求項5に記載のロードロックアセンブリであって、
    前記第1および第2ロードロックは、前記EFEMから前記ウエハ搬送モジュール内にウエハを移動させるよう構成され、
    前記第3および第4ロードロックは、前記ウエハ搬送モジュールから前記EFEMにウエハを移動させるよう構成されている
    ロードロックアセンブリ。
JP2016201376A 2015-10-20 2016-10-13 ロードロックインターフェースおよび統合された後処理モジュール Pending JP2017079329A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/887,959 US10304707B2 (en) 2015-10-20 2015-10-20 Load lock interface and integrated post-processing module
US14/887,959 2015-10-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017079329A JP2017079329A (ja) 2017-04-27
JP2017079329A5 true JP2017079329A5 (ja) 2019-11-28

Family

ID=58524263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016201376A Pending JP2017079329A (ja) 2015-10-20 2016-10-13 ロードロックインターフェースおよび統合された後処理モジュール

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10304707B2 (ja)
JP (1) JP2017079329A (ja)
KR (1) KR20170054243A (ja)
TW (1) TW201725646A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11482434B2 (en) * 2016-10-18 2022-10-25 Belting E-Town Semiconductor Technology Co., Ltd Systems and methods for workpiece processing
KR20210008416A (ko) * 2018-05-15 2021-01-21 에바텍 아크티엔게젤샤프트 기판 진공 처리 장치 및 기판을 진공 처리하는 방법
US20230097597A1 (en) * 2020-03-02 2023-03-30 Lam Research Corporation Pedestal including pedestal plates for semiconductor fab tools and method for orienting the pedestal plates
US12080571B2 (en) 2020-07-08 2024-09-03 Applied Materials, Inc. Substrate processing module and method of moving a workpiece

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6558509B2 (en) * 1999-11-30 2003-05-06 Applied Materials, Inc. Dual wafer load lock
US7316966B2 (en) * 2001-09-21 2008-01-08 Applied Materials, Inc. Method for transferring substrates in a load lock chamber
US7207766B2 (en) * 2003-10-20 2007-04-24 Applied Materials, Inc. Load lock chamber for large area substrate processing system
JP4860167B2 (ja) * 2005-03-30 2012-01-25 東京エレクトロン株式会社 ロードロック装置,処理システム及び処理方法
US7655571B2 (en) * 2006-10-26 2010-02-02 Applied Materials, Inc. Integrated method and apparatus for efficient removal of halogen residues from etched substrates
JP5225815B2 (ja) * 2008-11-19 2013-07-03 東京エレクトロン株式会社 インターフェイス装置、基板を搬送する方法及びコンピュータ可読記憶媒体
US8246284B2 (en) * 2009-03-05 2012-08-21 Applied Materials, Inc. Stacked load-lock apparatus and method for high throughput solar cell manufacturing
JP5358366B2 (ja) * 2009-09-14 2013-12-04 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び方法
CN106847737B (zh) * 2012-02-29 2020-11-13 应用材料公司 配置中的除污及剥除处理腔室
TWI624897B (zh) * 2013-03-15 2018-05-21 應用材料股份有限公司 多位置批次負載鎖定裝置與系統,以及包括該裝置與系統的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017079329A5 (ja) ロードロックアセンブリ
US20230115122A1 (en) Method of bonding thin substrates
US10755953B2 (en) Cluster tool techniques with improved efficiency
TWI509722B (zh) 處理半導體晶圓的裝置及方法
JP2014068009A5 (ja)
WO2008085681A3 (en) Wet clean system design
JP2014513429A5 (ja)
US20150332950A1 (en) On-end effector magnetic wafer carrier alignment
US10497557B2 (en) Integrated platform for improved wafer manufacturing quality
JP2011124564A5 (ja) 真空処理装置及び真空処理装置の運転方法
JP2016208018A5 (ja)
KR20170028982A (ko) 게르마늄 함유 반도체들 및 화합물 반도체들의 기상 산화물 제거 및 패시베이션
KR102073728B1 (ko) 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법
TWI621572B (zh) 晶圓匣系統以及傳送半導體晶圓的方法
KR102227066B1 (ko) 웨이퍼 이송 장치
CN110544660B (zh) 模块化晶圆传输系统和半导体设备
US10050015B2 (en) Multi-device flexible electronics system on a chip (SOC) process integration
US9412639B2 (en) Method of using separate wafer contacts during wafer processing
US20160268124A1 (en) Low Interface State Device and Method for Manufacturing the Same
CN111968926A (zh) 半导体设备以及半导体工艺处理方法
JP5981307B2 (ja) 処理方法及び処理装置
TW201946289A (zh) 晶片加工系統
CN103915367A (zh) 刻蚀清洗工艺中的硅片搬送方法及设备
US10707186B1 (en) Compliant layer for wafer to wafer bonding
JP2011091323A (ja) 半導体製造装置