JP2017075205A - 接着剤組成物及び光半導体デバイス - Google Patents
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- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims abstract description 89
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 80
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 61
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 32
- -1 aliphatic oxetane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 47
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 claims description 9
- 235000020354 squash Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 3
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 claims description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract description 15
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 6
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- BJZYYSAMLOBSDY-QMMMGPOBSA-N (2s)-2-butoxybutan-1-ol Chemical compound CCCCO[C@@H](CC)CO BJZYYSAMLOBSDY-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 3
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117900 2,2-bis(4-glycidyloxyphenyl)propane Drugs 0.000 description 2
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N [4-(4-diphenylsulfoniophenyl)sulfanylphenyl]-diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC(C=C1)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- PFTXKXWAXWAZBP-UHFFFAOYSA-N octacene Chemical group C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC6=CC7=CC8=CC=CC=C8C=C7C=C6C=C5C=C4C=C3C=C21 PFTXKXWAXWAZBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- FGOJCPKOOGIRPA-UHFFFAOYSA-N 1-o-tert-butyl 4-o-ethyl 5-oxoazepane-1,4-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCN(C(=O)OC(C)(C)C)CCC1=O FGOJCPKOOGIRPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJWZDTGRJUXOCE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)CC1CCO1 LJWZDTGRJUXOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-ethylhexoxymethyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1(CC)COC1 BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011449 Rosa Nutrition 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 1
- NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol;7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1.C1C(C(=O)O)CCC2OC21.C1C(C(=O)O)CCC2OC21 NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 235000010357 aspartame Nutrition 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GJOGTGLNIWPDPF-UHFFFAOYSA-N trifluoromethyl hydrogen sulfite Chemical compound OS(=O)OC(F)(F)F GJOGTGLNIWPDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
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Abstract
Description
成分〔A〕は、ビスフェノール骨格を有するエポキシ樹脂〔A1〕及び脂肪族ポリエーテル骨格を有するエポキシ樹脂〔A2〕を含む。これにより、光学部品の固定に必要な機械強度、耐久性等を本実施形態の接着剤組成物に付与することができる。
成分〔B〕は、脂環式エポキシ化合物又は脂肪族オキセタン化合物を含む希釈性モノマーである。ここで、本実施形態における希釈性モノマーとは、接着剤組成物に配合することで、粘度を下げることができ、流動性を向上することができる成分をいう。
成分〔C〕は、光及び熱重合反応の開始物質として、光カチオン重合開始剤〔C1〕及び熱カチオン重合開始剤〔C2〕を含む。
光カチオン重合開始剤は、光酸発生剤、光硬化剤又は光カチオン発生剤とも呼ばれ、紫外線照射により、硬化剤としての実質的な機能を発揮するものである。
熱カチオン重合開始剤は、熱酸発生剤、熱硬化剤又は熱カチオン発生剤とも呼ばれ、接着剤組成物において硬化温度になれば、硬化剤としての実質的な機能を発揮するものである。
(R3 aR4 bR5 cR6 dZ)s+(AXt)s− (3)
成分〔D〕は、基板等との接着性向上を目的として本実施形態の接着剤組成物に配合されるシランカップリング剤である。成分〔D〕としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも1種のシランカップリング剤が好ましく、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
成分〔E〕は、疎水性シリカ粒子〔E1〕及び親水性シリカ粒子〔E2〕を含むシリカ粒子である。成分〔E1〕の成分〔E2〕に対する質量比〔E1〕/〔E2〕は、1/3000〜1/30である。
実施例1
以下の各成分を各々配合し撹拌して、所望の接着剤組成物を調製した。
成分〔A〕:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコート828/三菱化学製)を5質量部、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル(SR−PTMG/阪本薬品工業製)を45質量部
成分〔B〕:3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(セロキサイド2021P/ダイセル製)を40質量部、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン(B1796/東京化成工業製)を10質量部
成分〔C1〕:スルホニウム塩タイプの光カチオン重合開始剤(CPI−101A/サンアプロ製)を1.5質量部
成分〔C2〕:スルホニウム塩タイプの熱カチオン重合開始剤(SI−100L/三新化学製)を1.5質量部
成分〔D〕:3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン(KBM−402/信越シリコーン製)を0.5質量部
成分〔E1〕:疎水性シリカ粒子(QCB−100/信越シリコーン製、平均粒子径≒0.09〜0.69μm)を1質量部
成分〔E2〕:シリカフィラー(WACKER HDK T30/旭化成製)を299質量部
各成分を表1又は表2に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして接着剤組成物を調製した。
各実施例及び比較例で得られた接着剤組成物に対し、以下の評価を行った。評価結果をまとめて表1及び表2に示す。
TV−22型粘度計(東機産業社製)を用いて、接着剤組成物の25℃の粘度(Pa・s)をロータ回転数1rpmで測定した。チキソ係数は、ロータ回転数1rpmで測定した粘度を10rpmで測定した粘度で除して算出した。
実装基板上の位置決めマークに対し、光源(例:半導体レーザー)を載置して半田等で固定した。そして、実装基板上に実装するコリメートレンズの集光点を考慮にいれ、前記光源の光出射方向であって、前記光源から所定の箇所に一定量の接着剤組成物を塗布した。その後、プローブ等を光源に接触させ、微弱な電流を流した状態で、コリメートレンズを調芯設備を用いて把持し、光学レンズを塗布した接着剤組成物上で位置調整した。この際、レーザ光源の出射端面近傍に配置されている非球面レンズは、レーザ光源から出射されたレーザ光を平行光に変換し、平行光に変換されたレーザ光を一定距離空間中飛ばし、所定の近赤外CCDカメラ(浜ホト製C3077−80)に導いた。この近赤外CCDカメラを介して得られる紫外線照射時における平行光の変化量から、コリメートレンズの変位量を換算した。なお、変位量の換算にあたっては、紫外線照射による接着剤組成物の固定に先立ち、所定の調芯装置を用いてレンズを操作・移動させ、カメラに表示されるコリメート光中心部の変位量を読み取った。この読み取り値の換算量から、紫外線照射時におけるレンズの変位量を算出した。
実装基板上の位置決めマークに対し、光源(例:半導体レーザー)を載置して半田等で当該実装基板上に固定した。そして、実装基板上に実装するコリメートレンズの集光点を考慮に入れ、前記光源の光出射方向であって、前記光源から所定の箇所に接着剤を一定量塗布した。前記作業を複数回繰り返し、当該基板上には当該コリメートレンズを複数、狭ピッチで並列載置(例:ピッチ間隔は0.2mm)した。なお、コリメートレンズの当該実装基板への固定においては、プローブ等を光源に接触させ、微弱な電流を流した状態で、光学レンズを調芯治具・設備で把持し、光学レンズを塗布した接着剤組成物上で位置調整した。この際、光学レンズより出射される光を汎用ビームプロファイラにてモニタし、出射光として所望の平行光が得られる位置に光学レンズを位置調整する。位置調整後、所定量の紫外線光を照射して光学レンズを仮固定した。ここで、当該光学部品の高い実装精度を得ることができた場合には「A」と、できなかった場合(例:接着剤を実装基板上に塗布直後に流れ出し、所定のピッチを大きく超えてはみ出してしまった場合等)には「B」と判定した。
所定の実装基板(例:アルミナ)上に一定量の接着剤組成物(80〜100μg)を塗布した後、調心装置(福興システム製)を用いて、光学部品(1.0×1.0×0.6mm形状のコリメートレンズ/アルプス電気製)の底面部(1.0×0.6mm)と実装基板とを接触させた後、紫外線を照射し、オフライン下で熱硬化を行い、接着力評価用のサンプルを作製した。次に、当該サンプルを所定のダイシェアテスタ(XYZTEC製/CondorEZシリーズ)を使用して、接着剤組成物の硬化物の破壊強度(kgf)を温度25±2℃、湿度50±10%の雰囲気下で測定し、その平均値を接着剤組成物の接着力とした。
Claims (5)
- 〔A〕ビスフェノール骨格を有するエポキシ樹脂及び脂肪族ポリエーテル骨格を有するエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂と、
〔B〕脂環式エポキシ化合物又は脂肪族オキセタン化合物を含む希釈性モノマーと、
〔C〕光カチオン重合開始剤〔C1〕及び熱カチオン重合開始剤〔C2〕を含む重合開始剤と、
〔D〕シランカップリング剤と、
〔E〕疎水性シリカ粒子〔E1〕及び親水性シリカ粒子〔E2〕を含むシリカ粒子と、
を含有し、
前記熱カチオン重合開始剤の前記光カチオン重合開始剤に対する質量比〔C2〕/〔C1〕が、1/5〜1/2であり、
前記疎水性シリカ粒子の前記親水性シリカ粒子に対する質量比〔E1〕/〔E2〕が、1/3000〜1/30であり、
前記〔A〕及び前記〔B〕の合計量を100質量部としたとき、前記〔C〕を0.5〜5質量部、前記〔D〕を0.1〜3質量部、前記〔E〕を150〜350質量部含有する、接着剤組成物。 - チキソ係数が3.5〜7.0である、請求項1に記載の組成物。
- 前記疎水性シリカの平均粒子径が、0.09〜0.69μmであり、前記親水性シリカの平均粒子径が、0.5〜5.0μmである、請求項1又は2に記載の組成物。
- 前記〔A〕の重量平均分子量が、5000〜100000である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
- 実装基板と、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物の硬化物を介して前記実装基板上に実装された光学部品と、を備える光半導体デバイス。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017075205A true JP2017075205A (ja) | 2017-04-20 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018127507A (ja) * | 2017-02-06 | 2018-08-16 | アイカ工業株式会社 | 光学部品固定用接着剤 |
WO2021193576A1 (en) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Dual-curable adhesive composition |
JP2022069039A (ja) * | 2020-10-23 | 2022-05-11 | 住友電気工業株式会社 | 接着剤組成物及び光半導体デバイス |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0987363A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Nippon Zeon Co Ltd | 光硬化性組成物、シール材、シール方法、および液晶封止体 |
JPH09176606A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学部品固定用接着剤 |
WO2014171141A1 (ja) * | 2013-04-18 | 2014-10-23 | 三井化学株式会社 | 組成物、硬化物、表示デバイスおよびその製造方法 |
JP2016094509A (ja) * | 2014-11-12 | 2016-05-26 | 住友電気工業株式会社 | 光硬化性接着剤組成物及び光半導体デバイス |
-
2015
- 2015-10-13 JP JP2015201970A patent/JP6569454B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0987363A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Nippon Zeon Co Ltd | 光硬化性組成物、シール材、シール方法、および液晶封止体 |
JPH09176606A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学部品固定用接着剤 |
WO2014171141A1 (ja) * | 2013-04-18 | 2014-10-23 | 三井化学株式会社 | 組成物、硬化物、表示デバイスおよびその製造方法 |
JP2016094509A (ja) * | 2014-11-12 | 2016-05-26 | 住友電気工業株式会社 | 光硬化性接着剤組成物及び光半導体デバイス |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018127507A (ja) * | 2017-02-06 | 2018-08-16 | アイカ工業株式会社 | 光学部品固定用接着剤 |
WO2021193576A1 (en) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Dual-curable adhesive composition |
CN115315498A (zh) * | 2020-03-23 | 2022-11-08 | 汉高股份有限及两合公司 | 可双重固化粘合剂组合物 |
JP7516081B2 (ja) | 2020-03-23 | 2024-07-16 | ヘンケルジャパン株式会社 | デュアル硬化型接着剤組成物 |
JP2022069039A (ja) * | 2020-10-23 | 2022-05-11 | 住友電気工業株式会社 | 接着剤組成物及び光半導体デバイス |
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Publication number | Publication date |
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