JP2017069471A - 発光素子用基板、モジュール及び発光素子用基板の製造方法 - Google Patents
発光素子用基板、モジュール及び発光素子用基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017069471A JP2017069471A JP2015195496A JP2015195496A JP2017069471A JP 2017069471 A JP2017069471 A JP 2017069471A JP 2015195496 A JP2015195496 A JP 2015195496A JP 2015195496 A JP2015195496 A JP 2015195496A JP 2017069471 A JP2017069471 A JP 2017069471A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- emitting element
- light
- adhesive layer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
Description
本発明の発光素子用基板の一実施形態について説明する。発光素子2を実装することのできる本実施形態の発光素子用基板は、図1に示す通り、可撓性基板11の表面には、金属層等からなる導電性の金属配線部13が、透光性接着層12を介して形成されている。そして金属配線上に発光素子2を設けることができる。又、図1のように周りには表面反射層16が積層することもできる。表面反射層16を設ける場合には、基板の表面上においては、接着剤層等を介して、基板上に積層されていてもよい。なお、表面反射層16は本発明の必須の構成要件ではない。
可撓性基板は、特に限定されるものではないが、熱可塑性樹脂が用いられることが好ましい。可撓性基板の材料としては、耐熱性及び絶縁性が高いものであることが求められる。このような樹脂として、耐熱性と加熱時の寸法安定性、機械的強度、及び耐久性に優れるポリイミド樹脂(PI)や、ポリエチレンナフタレート(PEN)を用いることができる。中でも、アニール処理等の耐熱性向上処理を施すことによって耐熱性と寸法安定性を向上させたポリエチレンナフタレート(PEN)を好ましく用いることができる。又、難燃性の無機フィラー等の添加によって難燃性を向上させたポリエチレンテレフタレート(PET)も可撓性基板の材料樹脂として選択することができる。
本実施形態に関する溝部17における透光性接着層12の表面粗さRz(JIS B0601で規定される十点平均粗さを意味する。)が10μm以下である。溝部17とは、図1に示すように、金属配線部13が積層されておらず、透光性接着層が露出している面であって透光性接着層の表面をいう。金属配線部13を製造する際には、可撓性基板と金属層とを透光性接着層を介して製造された金属層をエッチングによりパターンを形成することで製造するのが一般的である。本発明の発光素子用基板は、溝部における透光性接着層の表面粗さRzが10μm以下とすることで、主に青色発光素子からの青色の光に対する耐光性が向上することを特徴とする。青色発光素子とは、波長430nm以上500nm以下の青色の光を放出可能な発光素子を意味する。なお、発光素子用基板を構成する溝部17における透光性接着層12の表面粗さRzが5μm以下、特に1μm以下とすることがより好ましい。表面粗さのRzが小さいほど、言い換えると表面の凹凸が少ない程、耐光性に優れた発光素子用基板を提供することができる。
金属配線部13は、発光素子用基板1の表面に金属層等の導電性基材によって形成される配線パターンである。
発光素子用基板においては、金属配線部13と発光素子2との接合については、ハンダ層14を介した接合を行うことが好ましい。このハンダによる接合は、例えば、リフロー方式、或いは、レーザー方式によって行うことができる。
絶縁性保護膜15は、本発明においては必須の構成要件ではないが、絶縁性保護膜を設ける場合には、上述の通り、熱硬化型インキ、UV硬化インキ又はカバーレイフィルムによって、金属配線部13と発光素子用基板の表面上の電気的接合が必要となる一部分を除いた他の部分に、主として発光素子用基板の耐マイグレーション特性を向上させるために形成される。
表面反射層16は、本発明においては必須の構成要件ではないが、表面反射層16を設ける場合には、上記のモジュール10において、発光能力を向上させることを目的として、本実施形態では、発光素子用基板の発光面側の最表面に、発光素子2の実装部分を除いて積層される。発光素子の発光を反射し、所定の方向へ導くための反射面を持つ部材であれば特に限定されないが、白色ポリエステル発泡タイプの白色ポリエステル、白色ポリエチレン樹脂、銀蒸着ポリエステル等を、最終製品の用途とその要求スペック等に応じて適宜用いることができる。
発光素子2は、発光素子用基板上に配置される。発光素子2は、一方の面に一対の電極を有し、一対の電極を介して金属配線部13と電気的に接続している。ここで用いられる発光素子2は形状や大きさ等が特に限定されない。発光素子2の発光色としては、用途に応じて任意の波長のものを選択することができるが、青色に発光する発光素子を用いることができる。青色発光素子とは波長430nm以上500nm以下の光を放出可能な発光素子を意味するが、例えば、430nm〜470nmに発光ピークを持つ青色発光の発光素子を用いることが好ましい。発光素子2としては、GaN系やInGaN系を用いることができる。InGaN系としては、InXAlYGa1−X−YN(0≦X≦1、0≦Y≦1、X+Y<1)等を用いることができる。
図6は、本発明の他の実施形態のモジュールの部分断面図である。図6の実施形態のモジュールのように透光性接着層12と発光素子2との間にアンダーフィル21を配置することもできる。アンダーフィル21は、発光素子2と透光性接着層12との接合強度を高めることができる。アンダーフィル21はエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂が好ましい。又、アンダーフィル21は透光性接着層12との接合強度を高める材質が好ましく、アンダーフィル21と透光性接着層12とは同一種類の材料を用いることが好ましいが、異なる材料であってもよい。
可撓性基板11の上には、発光素子2を封止する封止部材19が配置されていることが好ましい。発光素子2を埃や水分から保護することができるからである。封止部材19は、エポキシ樹脂、変成エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変成シリコーン樹脂のいずれかであることが好ましい。
封止部材19中には、蛍光体20を含有させてもよい。蛍光体20は発光素子2からの光を吸収し、異なる波長の光を放出するものであり、緑色、黄色、赤色等の光を放出する。蛍光体20は、YAG、シリケートなどの酸化物蛍光体、CASN、SCASN等の窒化物蛍光体、KSFなどのフッ化物蛍光体などを用いることができる。
発光素子用基板は、特に限定されるものではなく、従来公知の電子基板の製造方法によって製造することができる。例えば、以下に記載したエッチング工程を経ることによって製造することができる。又、選択する材料樹脂に応じて、予め当該樹脂にアニール処理による耐熱性向上処理を施すことが好ましい。
本発明において必須ではないが、アニール処理を行う場合には、従来公知の熱処理手段を用いることができる。アニール処理温度の一例としては、樹脂基板がPENである場合には、ガラス転移温度から融点の範囲、更に具体的には160℃から260℃、より好ましくは180℃から230℃の範囲である。アニール処理時間としては、10秒から5分程度が例示できる。このような熱処理条件によれば、一般的に80℃程度であるPENの熱収縮開始温度を、100℃程度に向上させることができる。
アニール処理を経た樹脂基板の表面に、金属配線部の材料とする金属層の金属配線部13を積層して発光素子用基板の材料とする積層体を得ることができる。積層方法としては、可撓性基板の少なくとも一方の面側に透光性接着層を介して金属層を積層する方法、或いは、可撓性基板の表面に直接にメッキ方法や気相製膜法(スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等)により金属配線部13を蒸着させる方法を挙げることができる。コストや生産性の面からは、金属層をウレタン系の接着剤によって可撓性基板の表面に接着する方法が有利である。
金属配線部形成後、必要に応じて絶縁性保護膜15及び表面反射層16を更に積層する。これらの積層は公知の方法によって行うことができる。採用する材料によりスクリーン印刷等の印刷法或いは、ドライラミネーション、熱ラミネーション法等、各種のラミネート処理方法によることができる。
モジュール10は、上述の発光素子用基板1に、発光素子を実装することにより、得ることができる。モジュール10は、図2に示すように、LED画像表示装置100のバックライトとして使用することができる。
(実施例1)
本発明のLED表示装置の実施例として、サイズが400mm×500mmのフィルム状の支持基板の表面に、銅のミラー面の表面粗さRz0.5μmの銅板(厚さ35μm)に透光性接着層(「KTEP」、ロックペイント社製)を積層させた電解銅層からなる金属配線部をエッチング処理(電解銅層ミラー面を可撓性基板側に向けて積層した)をし、発光素子用基板の試験用サンプルを作成した。
可撓性基板としては厚さ75μmのポリエチレンナフタレート(PEN)を用いた。
溝部における透光性接着層の表面側から、走査型電子顕微鏡−エネルギー分散型X線分光法(SEM−EDX)によって塩素量及び鉄量を測定したところ、塩素量が0.3質量%であり、鉄量が0.3質量%であった。透光性接着層の厚みは10μmであった。
上記エッチング処理において、銅のマット面の表面粗さRz6μmの銅板を使用し、銅のマット面に透光性接着層を積層させ、金属配線部をエッチング処理した以外は上記実施例1と同様に発光素子用基板の試験用サンプルを製造した。
上記エッチング処理において、銅のマット面の表面粗さRz13μmの銅板を使用し、銅のマット面に透光性接着層を積層させ、金属配線部をエッチング処理した以外は上記実施例1と同様に発光素子用基板の試験用サンプルを製造した。
実施例1及び比較例1の発光素子用基板の溝部における透光性接着層の表面についてSEM写真を倍率2000倍にて撮影した。SEM写真を図4及び図5に示す。SEM写真によると、実施例1の発光素子用基板の溝部における透光性接着層の表面は、比較例1の発光素子用基板の溝部における透光性接着層の表面に比べ凹凸が小さくなっていることが分かる。
実施例及び比較例の発光素子用基板について、耐光性試験の加速試験として、溝部における透光性接着層上から青色レーザー(日亜化学製レーザーダイオード、波長450nm、出力0.5W)を照射し、フィルムに穴が開いた時間を測定した。測定結果を下記表1に示す。
実施例、比較例の各発光素子用基板について、下記の試験条件における密着強度を測定して金属密着性を評価した。
測定は、上記の発光素子用基板において、可撓性基板上に密着している金属配線部について、剥離試験機(テンシロン万能試験機 RTF−1150−H)にて垂直剥離(50mm/min)試験を行い、測定結果を表1に示す。
11 可撓性基板
12 透光性接着層
13 金属配線部
14 ハンダ層
15 絶縁性保護膜
16 表面反射層
17 溝部
18 エッチング残渣
10 モジュール
2 発光素子
3 表示画面
4 放熱部
19 封止部材
20 蛍光体
21 アンダーフィル
22 吸着剤
100 LED画像表示装置
Claims (7)
- 可撓性基板と、前記可撓性基板の少なくとも一方の面側に透光性接着層を介して形成されている金属配線部と、前記金属配線部間に形成されている溝部とを有しており、
前記溝部における前記透光性接着層の表面粗さRzが10μm以下である発光素子用基板。 - 請求項1に記載の発光素子用基板に発光素子が実装されている、モジュール。
- 前記発光素子用基板に実装されている発光素子が青色発光素子である、請求項2に記載のモジュール。
- 前記発光素子は、430nm以上470nm以下に発光波長のピークを持つ、請求項2又は3に記載のモジュール。
- 前記透光性接着層と前記発光素子との間に、光反射部材を含有するアンダーフィルが配置されている、請求項2乃至4のいずれか一項に記載のモジュール。
- 更に、前記可撓性基板上の前記発光素子を封止する封止部材が配置され、
前記封止部材は、エポキシ樹脂、変成エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、又は変成シリコーン樹脂である、請求項2乃至5のいずれか一項に記載のモジュール。 - 可撓性基板の少なくとも一方の面側に透光性接着層を介して金属層を積層する工程と、
前記金属層をエッチング後に洗浄して、金属配線部と、前記金属配線部間の溝部と、を形成する工程と、を備え、
前記金属層を積層する工程において、金属箔の表面粗さRzが10μm以下の面を、前記透光性接着層と対向するように積層する、発光素子用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015195496A JP6572083B2 (ja) | 2015-09-30 | 2015-09-30 | 発光素子用基板、モジュール及び発光素子用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015195496A JP6572083B2 (ja) | 2015-09-30 | 2015-09-30 | 発光素子用基板、モジュール及び発光素子用基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017069471A true JP2017069471A (ja) | 2017-04-06 |
JP6572083B2 JP6572083B2 (ja) | 2019-09-04 |
Family
ID=58492878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015195496A Active JP6572083B2 (ja) | 2015-09-30 | 2015-09-30 | 発光素子用基板、モジュール及び発光素子用基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6572083B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110277422A (zh) * | 2018-03-13 | 2019-09-24 | 群创光电股份有限公司 | 电子装置及其制备方法 |
CN111083936A (zh) * | 2018-08-20 | 2020-04-28 | 株式会社Lg化学 | 用于透明发光器件显示器的嵌入式电极基板及其制造方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09143785A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-06-03 | Furukawa Circuit Foil Kk | ファインパターン用電解銅箔とその製造方法 |
US20040104118A1 (en) * | 2002-11-29 | 2004-06-03 | Lg Cable Ltd. | Method for manufacturing very low roughness electrodeposited copper foil and electrodeposited copper foil manufactured thereby |
WO2006068000A1 (ja) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Cof基板用積層体及びその製造方法並びにこのcof基板用積層体を用いて形成したcofフィルムキャリアテープ |
JP2010021400A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 放熱特性に優れたプリント配線基板 |
JP2013033833A (ja) * | 2011-08-01 | 2013-02-14 | Panasonic Corp | 波長変換膜及びそれを用いた発光装置並びに照明装置 |
JP2013227668A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-11-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面粗化処理銅箔及びその製造方法、並びに回路基板 |
JP2014148741A (ja) * | 2012-05-11 | 2014-08-21 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、銅箔、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法 |
JP2015012206A (ja) * | 2013-07-01 | 2015-01-19 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP2015095548A (ja) * | 2013-11-12 | 2015-05-18 | 三菱化工機株式会社 | Led回路基板、これを備える照明装置、およびled回路基板の製造方法 |
JP2015119013A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
-
2015
- 2015-09-30 JP JP2015195496A patent/JP6572083B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09143785A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-06-03 | Furukawa Circuit Foil Kk | ファインパターン用電解銅箔とその製造方法 |
US20040104118A1 (en) * | 2002-11-29 | 2004-06-03 | Lg Cable Ltd. | Method for manufacturing very low roughness electrodeposited copper foil and electrodeposited copper foil manufactured thereby |
WO2006068000A1 (ja) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Cof基板用積層体及びその製造方法並びにこのcof基板用積層体を用いて形成したcofフィルムキャリアテープ |
JP2010021400A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 放熱特性に優れたプリント配線基板 |
JP2013033833A (ja) * | 2011-08-01 | 2013-02-14 | Panasonic Corp | 波長変換膜及びそれを用いた発光装置並びに照明装置 |
JP2013227668A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-11-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面粗化処理銅箔及びその製造方法、並びに回路基板 |
JP2014148741A (ja) * | 2012-05-11 | 2014-08-21 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、銅箔、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法 |
JP2015012206A (ja) * | 2013-07-01 | 2015-01-19 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
JP2015095548A (ja) * | 2013-11-12 | 2015-05-18 | 三菱化工機株式会社 | Led回路基板、これを備える照明装置、およびled回路基板の製造方法 |
JP2015119013A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110277422A (zh) * | 2018-03-13 | 2019-09-24 | 群创光电股份有限公司 | 电子装置及其制备方法 |
CN111083936A (zh) * | 2018-08-20 | 2020-04-28 | 株式会社Lg化学 | 用于透明发光器件显示器的嵌入式电极基板及其制造方法 |
CN111083936B (zh) * | 2018-08-20 | 2023-11-07 | 株式会社Lg化学 | 用于透明发光器件显示器的嵌入式电极基板及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6572083B2 (ja) | 2019-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2008023605A1 (ja) | 光反射体、およびそれを含む光源 | |
JP2012151191A (ja) | Led用配線基板、発光モジュール、led用配線基板の製造方法、及び発光モジュールの製造方法 | |
JP2016197668A (ja) | Led素子用のフレキシブル多層回路基板及びそれを用いたledドットマトリックス表示装置 | |
JP2018207048A (ja) | Led素子用のフレキシブル基板 | |
JP2018170389A (ja) | フレキシブル基板、及び、それを用いたled表示装置 | |
JP2017044868A (ja) | シースルー型のled表示装置 | |
JP6572083B2 (ja) | 発光素子用基板、モジュール及び発光素子用基板の製造方法 | |
JP6556009B2 (ja) | 発光素子用基板、モジュール及び発光素子用基板の製造方法 | |
JP2019016631A (ja) | Ledモジュールの製造方法 | |
US10199545B2 (en) | Substrate for light emitting element and module | |
JP5791947B2 (ja) | Led基板の製造方法 | |
JP2017152108A (ja) | Led素子用基板及びled表示装置 | |
JP2012212824A (ja) | Led搭載用基板 | |
JP6918452B2 (ja) | 発光素子用基板及びモジュール | |
JP6528503B2 (ja) | Ledバックライト及びそれを用いたled表示装置 | |
WO2016104609A1 (ja) | Led素子用基板、led実装モジュール、及び、それらを用いたled表示装置 | |
JP2019016629A (ja) | Ledモジュール | |
JP6511914B2 (ja) | Led実装モジュール及びled表示装置 | |
JP6543998B2 (ja) | Ledバックライト及びそれを用いたled表示装置 | |
JP2017174806A (ja) | Ledエッジライト用のフレキシブル基板 | |
JP6610327B2 (ja) | Led素子用基板及びled表示装置 | |
JP6458492B2 (ja) | Led素子用基板、及びそれを用いたled実装モジュールの製造方法 | |
JP2017152450A (ja) | Led表示装置 | |
JP6661889B2 (ja) | Led素子用基板 | |
JP2010182884A (ja) | 半導体発光装置、および、発光チップ搭載用配線基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151021 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160928 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180511 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190625 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190716 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190809 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6572083 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |